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公开(公告)号：KR100972374B1
公开(公告)日：2010-07-27
申请号：KR1020070139362
申请日：2007-12-27
Applicant: 전자부품연구원
Abstract: 본 발명은 아웃 개싱(out-gassing), 탄소나노튜브와 기판의 접착, 수명, 탄소나노튜브 밀도제어 등의 문제점을 효과적으로 해결할 수 있는 동시에 공정이 간단한 냉음극 제조방법에 대한 것으로서 탄소나노튜브 용액을 준비하는 준비 단계 및 상기 탄소나노튜브 용액을 기판 상에 젯 프린팅하는 프린팅 단계를 포함한다.
전계방출 소자, 젯 프린팅, 잉크-
公开(公告)号：KR1020100013093A
公开(公告)日：2010-02-09
申请号：KR1020080074605
申请日：2008-07-30
Applicant: 전자부품연구원
Abstract: PURPOSE: A carbon nanotube ink-jet apparatus and a heat-treating method using the same are provided to simultaneously jet ink including carbon nanotube and selectively heat-treat a metal layer by installing a laser irradiator and a lens in an ink-jet apparatus. CONSTITUTION: A carbon nanotube ink-jet apparatus(200) comprises an ink jetting device(240), a laser irradiator(250) and a lens(260). The ink jetting device jets ink(230) including carbon nanotube on a cathode substrate(210) in which a metal layer(220) is formed. The laser irradiator is formed on one side of the ink jetting device. The laser irradiator selectively heat-treats the metal layer. The lens is formed on the laser irradiator. The lens focuses the laser on the metal layer. The laser irradiator is located on one or both parts between an upward part and a lower part of a cathode substrate.
Abstract translation: 目的：提供一种碳纳米管喷墨装置及使用其的热处理方法，以同时喷射包括碳纳米管的墨水，并通过在喷墨装置中安装激光照射器和透镜来选择性地热处理金属层。 构成：碳纳米管喷墨装置（200）包括喷墨装置（240），激光照射器（250）和透镜（260）。 喷墨装置在其上形成有金属层（220）的阴极基板（210）上喷射包括碳纳米管的墨（230）。 激光照射器形成在喷墨装置的一侧。 激光照射器选择性地热处理金属层。 透镜形成在激光照射器上。 透镜将激光器聚焦在金属层上。 激光照射器位于阴极基板的上部和下部之间的一个或两个部分上。
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公开(公告)号：KR1020090019226A
公开(公告)日：2009-02-25
申请号：KR1020070083492
申请日：2007-08-20
Applicant: 전자부품연구원
IPC: C03C17/30
CPC classification number: C03C23/006 , C03C17/32 , C03C23/007
Abstract: A silica glass film formation method for passivating surface using polysilazane is provided to have no deformity by impurity when cured in a room temperature and to form glass film having high density. A glass film formation method for passivating surface comprises steps of: coating polysilazane on a substrate; and curing the polysilazane by using atmospheric pressure plasma process. A process time of the curing step is 10-20 minutes. A processing temperature of the curing step is 50~120°C. A process gas of the atmospheric pressure plasma process is argon gas and oxygen gas.
Abstract translation: 提供使用聚硅氮烷钝化表面的二氧化硅玻璃膜形成方法，其在室温下固化时不会产生杂质变形，并形成高密度的玻璃膜。 钝化表面的玻璃成膜方法包括以下步骤：在基材上涂布聚硅氮烷; 并使用大气压等离子体处理固化聚硅氮烷。 固化步骤的处理时间为10-20分钟。 固化步骤的加工温度为50〜120℃。 大气压等离子体工艺的工艺气体是氩气和氧气。
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公开(公告)号：KR1020090019059A
公开(公告)日：2009-02-25
申请号：KR1020070083195
申请日：2007-08-20
Applicant: 전자부품연구원
IPC: B32B33/00
CPC classification number: B32B33/00 , B32B17/06 , B32B38/0008 , B32B2255/205 , B32B2307/402 , B32B2307/554 , B32B2307/584 , B32B2310/14
Abstract: A structure having a glass protection layer formed on the surface thereof is provided to protect the surface of the structure from scratches, wear, finger printing, dust, etc. while maintaining color or gloss of the substrate, to reduce the entire coating process time, and to allow the glass protection layer to exhibit best physical properties even at room temperature. In a structure having a glass protection layer(240) in which a matrix(210) and a silver coating layer(220) are sequentially formed, a structure having a glass protection layer formed on the surface thereof comprises the glass protection layer formed on the silver coating layer using polysilazane. The structure having a glass protection layer formed on the surface thereof further comprises a coloring layer(230) formed between the silver coating layer and glass protection layer to display gloss and color of the structure. The formation of the glass protection layer is performed using atmospheric pressure plasma hardening, pressurized wet hardening, or seam hardening. The sliver coating layer and glass protection layer are formed by spray coating, dip coating, or spin coating. The glass protection layer is coated to a thickness of 0.1 to 5 mum.
Abstract translation: 提供了在其表面上形成有玻璃保护层的结构，以保持结构的表面免受划伤，磨损，指纹印刷，灰尘等，同时保持基底的颜色或光泽，从而减少整个涂布处理时间， 并且即使在室温下也允许玻璃保护层表现出最好的物理性能。 在其中依次形成有基体（210）和银涂层（220）的玻璃保护层（240）的结构中，在其表面上形成有玻璃保护层的结构包括形成在玻璃保护层 银涂层采用聚硅氮烷。 具有形成在其表面上的玻璃保护层的结构还包括形成在银涂层和玻璃保护层之间的着色层（230），以显示结构的光泽和颜色。 玻璃保护层的形成使用大气压等离子体硬化，加压湿固化或接缝硬化进行。 纱线涂层和玻璃保护层通过喷涂，浸涂或旋涂形成。 将玻璃保护层涂覆至0.1〜5μm的厚度。
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公开(公告)号：KR100827994B1
公开(公告)日：2008-05-08
申请号：KR1020060030582
申请日：2006-04-04
Applicant: 전자부품연구원
IPC: G01R1/067
Abstract: 본 발명은 이종 도금 결합방식을 이용한 하이브리드형 고강도 탐침 구조물 및 그 제작 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 반도체 칩 또는 디스플레이의 회로패드와 직접 접촉되는 탐침부는 고강도 도금으로 제작하고, 나머지 스프링부는 패턴의 일부가 상기 탐침부와 상호 겹치도록 정렬한 상태에서 이종의 다른 재질로 도금하여 상기 탐침부와 상기 스프링부가 상호 결합된 형태를 갖는 탐침 구조물 및 그 제작 방법에 관한 것이다.
본 발명의 이종 도금 결합방식을 이용한 하이브리드형 고강도 탐침 구조물 제작 방법은 탐침 구조물을 제작함에 있어서, 기판상에 탐침부를 형성하는 제1단계; 상기 탐침부가 형성된 상기 기판상에 제2감광막을 형성하는 제2단계; 상기 제2감광막에 스프링부 패턴을 형성하는 제3단계; 상기 스프링부 패턴에 도금하는 제4단계; 및 상기 제2감광막을 제거하는 제5단계를 포함한다.
탐침구조물, 이종도금, MEMS, 탐침, 스프링Abstract translation: 提供了使用不同种类材料的电镀结合方法的混合高强度探针结构制造方法，以确保探针结构的机械稳定性，并且通过组合具有缓和电镀应力的弹簧单元和高强度探针单元来防止耐磨性 通过电镀使用不同种类的材料。 使用不同种类的材料的电镀结合方法的混合高强度探针结构体的制造方法由在基板上形成探针单元（260）的工序， 在具有探针单元的基板上形成第二感光膜; 在第二感光膜上形成弹簧单元（270）的图案; 电镀弹簧单元的图案; 去除第二感光膜; 将探针结构（280）与基底分离; 并将探针结构插入载体孔中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020070081997A
公开(公告)日：2007-08-20
申请号：KR1020060030582
申请日：2006-04-04
Applicant: 전자부품연구원
IPC: G01R1/067
CPC classification number: G01R3/00 , G01R1/067 , G01R1/06716 , G01R1/06733
Abstract: A hybrid high-strength probe structure manufacturing method using a plating binding method of different kinds of materials is provided to secure mechanical stability of a probe structure and to prevent wear resistance by combining a spring unit with relieved plating stress and a high-strength probe unit through plating using the different kinds of materials. A hybrid high-strength probe structure manufacturing method using a plating binding method of different kinds of materials is composed of steps for forming a probe unit(260) on a substrate; forming a second photosensitive film on the substrate having the probe unit; forming a pattern of a spring unit(270) on the second photosensitive film; plating the pattern of the spring unit; removing the second photosensitive film; separating a probe structure(280) from the substrate; and inserting the probe structure into a carrier hole.
Abstract translation: 提供了使用不同种类材料的电镀结合方法的混合高强度探针结构制造方法，以确保探针结构的机械稳定性，并且通过组合具有缓和电镀应力的弹簧单元和高强度探针单元来防止耐磨性 通过电镀使用不同种类的材料。 使用不同种类的材料的电镀结合方法的混合高强度探针结构体的制造方法由在基板上形成探针单元（260）的工序， 在具有探针单元的基板上形成第二感光膜; 在第二感光膜上形成弹簧单元（270）的图案; 电镀弹簧单元的图案; 去除第二感光膜; 将探针结构（280）与基底分离; 并将探针结构插入载体孔中。
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公开(公告)号：KR100732368B1
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：KR1020050063672
申请日：2005-07-14
Applicant: 전자부품연구원
IPC: G01Q60/38 , H01L21/027 , H01L21/31 , H01L21/324
Abstract: 본 발명은 강유전체를 이용한 원자간력 현미경 캔틸레버의 탐침 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 복잡한 장치를 사용하지 않으면서 쉽게 강유전체의 분극을 알 수 있는 캔틸레버의 탐침을 제조하기 위한 것이다.
본 발명의 강유전체를 이용한 원자간력 현미경 캔틸레버의 탐침은 캔틸레버 지지부; 상기 캔틸레버 지지부 상에 형성된 절연층; 상기 절연층 상에 형성된 금속층 및 상기 금속층의 첨두부에 형성된 강유전체로 구성됨에 기술적 특징이 있다.
강유전체, 탐침, 전기분극-
公开(公告)号：KR100715123B1
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：KR1020050059519
申请日：2005-07-04
Applicant: 전자부품연구원
IPC: G11B7/2433 , G11B7/004
Abstract: 본 발명은 탐침형 정보저장장치의 기록매체 및 기록/재생/소거 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 상전이 박막 상에 금속-절연체 상전이 박막을 추가로 증착하여 기록밀도를 현저히 높일 수 있는 고밀도의 탐침형 정보저장장치의 기록매체를 제조하는 것에 관한 것이다.
본 발명의 탐침형 정보저장장치의 기록매체는 상전이 박막을 이용하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체에 있어서, 실리콘 기판; 상기 실리콘 기판 상에 위치하는 하부전극; 상기 하부전극 상에 위치하고 결정질 상태인 상전이 박막 및 상기 상전이 박막 상에 위치하는 금속-절연체 상전이 박막으로 구성됨에 기술적 특징이 있다.
따라서, 본 발명의 탐침형 정보저장장치의 기록매체 및 기록/재생/소거 방법은 상전이에 의하 저항치의 변화를 이용하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체를 제조함에 있어 제1 상전이 박막 상에 제2 상전이 박막을 추가로 증착함으로써 기록밀도를 현저히 높일 수 있는 장점이 있고, 테라비트급 탐침형 정보저장장치에 사용이 가능하며 PRAM 소자에 응용할 수 있는 효과가 있다.
상전이 박막, 기록매체, 정보저장, 기록, 재생, 소거-
公开(公告)号：KR100644798B1
公开(公告)日：2006-11-14
申请号：KR1020050063676
申请日：2005-07-14
Applicant: 전자부품연구원
Abstract: A driver for a low power probe type information storage device is provided to reduce the weight, decrease the driving power, and enhance the vertical strength by forming a lattice structure on a surface opposite to a recording surface of a middle transfer stick. A middle frame is connected to an outer frame(100) through springs, and moves in an X direction. A first seesaw is fixed to the outer frame(100), and connected to an X-axis driver and the middle frame through springs. A middle transfer stick(115) is connected to the middle frame though springs, and moves in a Y direction. A second seesaw is fixed to the outer frame(100), and connected to a Y-axis driver and the middle transfer stick(115) through springs. A recording medium(110) is joined to the middle transfer stick(115). A lattice structure is formed in the center portion of the middle transfer stick(115). A lower substrate(130) has coils for moving the X-axis and Y-axis drivers.
Abstract translation: 通过在与中间转印棒的记录表面相对的表面上形成网格结构，提供了一种用于低功率探针型信息存储设备的驱动器以减轻重量，降低驱动功率并增强垂直强度。 中框架通过弹簧连接到外框架（100），并沿X方向移动。 第一杠杆固定在外框架（100）上，并通过弹簧连接到X轴驱动器和中间框架。 中间转印杆（115）通过弹簧连接到中间框架，并沿Y方向移动。 第二跷跷板固定在外框架（100）上，并通过弹簧连接到Y轴驱动器和中间转印杆（115）。 记录介质（110）连接到中间转印杆（115）。 在中间转印杆（115）的中央部分形成网格结构。 下基板（130）具有用于移动X轴和Y轴驱动器的线圈。
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公开(公告)号：KR1020060008459A
公开(公告)日：2006-01-27
申请号：KR1020040056197
申请日：2004-07-20
Applicant: 전자부품연구원
IPC: H01J37/28
Abstract: 본 발명은 실리콘 탐침 상에 성장된 탄소 재질의 탐침에 수평 방향 전자빔을 조사하여 100nm 이하의 CD 측정이 가능한 탐침에 관한 것이다.
본 발명의 수평방향 성장에 의한 고종횡비의 전자빔 증착 탐침 제조방법은 (a) 2축 구동기가 형성된 캔틸레버를 형성하는 단계; (b) 상기 캔틸레버 상에 실리콘 탐침을 형성하는 단계; (c) 상기 실리콘 탐침이 형성된 캔틸레버를 탄화수소계 용제에 디핑하는 단계; (d) 상기 실리콘 탐침 상에 탄소 재질의 탐침을 성장시키는 단계 및 (e) 상기 성장된 탄소 재질의 탐침에 수평으로 전자빔을 조사하는 단계로 이루어짐에 기술적 특징이 있다.
따라서, 본 발명의 수평방향 성장에 의한 고종횡비의 전자빔 증착 탐침 제조방법은 탐침과 빔을 수직방향으로 한 탐침의 수평방향 성장방법을 통해 100nm 이하의 CD의 측정이 가능하게 하며, 탐침 끝을 볼 형태로 제작하여 CD 벽면 측정을 용이하게 하고 열처리를 통해 전도성이 뛰어난 효과가 있다.
CD, 고종횡비, 탐침, 수평방향
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