公开(公告)号：KR100211068B1

公开(公告)日：1999-07-15

申请号：KR1019960069278

申请日：1996-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: G02B27/10

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
광학계용 비접촉식 렌즈 정점 위치 및 기울기 측정장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
단 렌즈의 위치와 기울기 오차를 비접촉식으로 효과적으로 측정하며, 상기 오차를 보상할 수 있는 수단을 제공하고자 함.
3. 발명의 해결 방법의 요지
장치 하부에 배치되어 빛을 방출하는 광원; 상기 광원의 빛을 집속시켜 광학계 상부에 정렬된 단렌즈 표면에 결상시키는 대물렌즈; 상기 대물렌즈와 상기 광원 사이에 배치되며, 두개의 프리즘으로 구성되어, 반사된 상기 단렌즈 표면의 상기 결상을 단렌즈의 광축과 직각 방향으로 전환시켜 조사하는 광속분할기; 상기 광속분할기로부터 조사된 광 결상의 광량 및 위치를 측정하는 검지부; 상기 구성품을 소정 위치에 지지 고정하는 가대; 및 상기 가대에 연결되어 그의 상하 변위를 측정하는 거리 측정부를 포함하여 이루어진 광학계용 렌즈 정점 위치 및 기울기 측정장치를 제공한다.
4. 발명의 중요한 용도
상기와 같이 구성된 본 발명은 다수의 렌즈로 구성된 정밀 광학계의 조립에 용이하게 적용될 수 있으며, 구성 렌즈와 접촉 없이도 상기 렌즈들의 정점 위치 및 기울기를 효율적으로 측정할 수가 있다.

公开(公告)号：KR100205064B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019950052643

申请日：1995-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  이각현 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 차광부를 지닌 리소그래피 광학계용 웨이퍼 자동촛점장치 및 자동촛점방법에 관한 것이다. 본 발명의 웨이퍼 자동촛점장치는 주 광학계(110) 내부에 존재하는 차광영역(102)에 TTL방식으로 배치되고 편광 광분할기(103), λ/4 판(104,105) 및 반사거울(106)로 이루어진 광학소자와; 주 광학계(101)의 외부에 배치되고 두개의 주파수가 상호직각 편광성분으로 이루어진 지만 레이저광을 방출하는 지만 레이저(107)와; 전기한 지만 레이저(17)로부터 방출된 지만 레이저 광을 분할하기 위한 광분할기(108)와; 전기한 광분할기(108)에 의해 분할되어 선편광자(109)를 거쳐 광검출기(110)에 의해 검출된 기준신호(111)와, 전기한 광분할기(108)에 의해 분할되어 주 광학계(101) 내부로 입사된 레이저광이 전기한 광학소자를 거쳐 광검출기(110)에 의해 검출된 기준신호(111)와, 전기한 광분할기(108)에 의해 분할되어 주 광학계(101) 내부로 입사된 레이저광이 전기한 광학소자를 거쳐 웨이퍼(120)에서 반사된 반사광 및 전기한 광학소자의 반사거울(106)에서 반사된 기준광이 선편광자(109)를 거쳐 광검출기(110)에 의해 검출된 웨이퍼 위치신호(112)를 레이저 간섭계를 통한 웨이퍼의 거리를 적절한 신호처리 회로를 통해 읽어냄으로써 초점 벗어남을 비교계산하여 웨이퍼 위치정보를 출력하기 위한 신호처리계(113) 및 주연산기(114); 및 전기한 신호처리계(113) 및 주연산기(114)로부터의 웨이퍼 위치정보에 따라 웨이퍼 스테이지(121)를 구동하여 웨이퍼(120)를 주 광학계(101)의 촛점심도 내에 위치시키기 위한 스테이지 제어기(115)로 구성된다.

公开(公告)号：KR1019980050455A

公开(公告)日：1998-09-15

申请号：KR1019960069278

申请日：1996-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: G02B27/10

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
광학계용 비접촉식 렌즈 정점 위치 및 기울기 측정장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
단 렌즈의 위치와 기울기 오차를 비접촉식으로 효과적으로 측정하며, 상기 오차를 보상할 수 있는 수단을 제공하고자 함.
3. 발명의 해결 방법의 요지
장치 하부에 배치되어 빛을 방출하는 광원; 상기 광원의 빛을 집속시켜 광학계 상부에 정렬된 단렌즈 표면에 결상시키는 대물렌즈; 상기 대물렌즈와 상기 광원 사이에 배치되며, 두개의 프리즘으로 구성되어, 반사된 상기 단렌즈 표면의 상기 결상을 단렌즈의 광축과 직각 방향으로 전환시켜 조사하는 광속분할기; 상기 광속분할기로부터 조사된 광 결상의 광량 및 위치를 측정하는 검지부; 상기 구성품을 소정 위치에 지지 고정하는 가대; 및 상기 가대에 연결되어 그의 상하 변위를 측정하는 거리 측정부를 포함하여 이루어진 광학계용 렌즈 정점 위치 및 기울기 측정장치를 제공한다.
4. 발명의 중요한 용도
상기와 같이 구성된 본 발명은 다수의 렌즈로 구성된 정밀 광학계의 조립에 용이하게 적용될 수 있으며, 구성 렌즈와 접촉 없이도 상기 렌즈들의 정점 위치 및 기울기를 효율적으로 측정할 수가 있다.

公开(公告)号：KR1019980047266A

公开(公告)日：1998-09-15

申请号：KR1019960065742

申请日：1996-12-14

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  권진혁 ,  우경철 ,  김도훈 ,  정해빈

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 ArF 엑시머 레이저를 광원으로 하는 스텝 및 스캔(Step Scan)형 반도체 노광장비에 있어서 회로 패턴을 담고 있는 레티클과 웨이퍼를 TTL(Through The Lens)방식으로 직접 정렬하는 광학 시스템에 관한 내용으로서, 홀로그라피(holography) 방식에 의한 위상공액파(phase conjugate wave)를 발생시켜 노광 광원과 정렬광원의 색수차를 보정하는 방법을 제시하고, ArF 엑시머 레이저를 노광 광원으로 사용하는 웨이퍼 스텝퍼에서 레티클과 웨이퍼의 위치를 직접 정렬하는 TTL 정렬방법을 제시한다.

公开(公告)号：KR1019970048636A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950052657

申请日：1995-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: G02B27/00

Abstract: 본 발명은 모아레 무늬를 이용한 광학계 성능 측정장치 및 측정방법에 관한 것이다.
본 발명의 광학계 성능 측정장치는 기준격자(1)와, 시편격자(2)와, 조명광원(3)과, 광검출기(5)와, 로타리 스테이지(6)를 포함한다.
아울러, 본 발명의 광학계 성능 측정방법은, 광학계의 상 위치에 기준격자(1)을 광축에 수직되게 위치시키는 단계; 시편격자(2)를 광학계(4)의 물체위치에 위치시키는 단계; 조명광원(3)을 비추어 시편격자(2)가 광학계(4)에 의해 상 위치에 결상되게 하여 결상된 시편격자(2)의 상과 기준격자(1)에 의해 모아레무늬를 생성하는 단계; 상기한 모아레무늬의 강도분포를 광검출기(5)를 이용하여 측정하는 단계; 기준격자(1)가 놓인 로타리 스테이지(6)를 이동하면서 각 지점에서의 모아레무늬의 밝은 부분 강도와 어두운 부분의 강도를 측정하여 모아레무늬에 대한 강도분포의 차이가 최대인 지점을 찾는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：KR1019960007444B1

公开(公告)日：1996-05-31

申请号：KR1019920026635

申请日：1992-12-30

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  김윤태 ,  박흥옥 ,  권진혁 ,  김상철

IPC: G03F7/26

Abstract: The apparatus having a stage supporting a wafer, a mask for forming a shape on the wafer, and a lens. including a first light part for lighting a first alignment mark on the wafer with a first alignment light; a second light part for lighting a second alignment mark on the wafer with a second alignment light; an image collecting part collecting the first alignment light and the second alignment light; an image processing part receiving the image created by the image collecting part, processing image data, producing a control signal and outputting the image data on a screen; a stage control part controlling the stage on receipt of a control signal from the image processing part.

Abstract translation: 该装置具有支撑晶片的台，用于在晶片上形成形状的掩模和透镜。 包括用第一对准光照亮晶片上的第一对准标记的第一光部分; 用于利用第二对准光照亮晶片上的第二对准标记的第二光部分; 收集第一对准光和第二对准光的图像收集部; 接收由图像采集部分创建的图像的图像处理部分，处理图像数据，产生控制信号并在屏幕上输出图像数据; 舞台控制部分，在接收到来自图像处理部分的控制信号时控制舞台。

公开(公告)号：KR1019950021022A

公开(公告)日：1995-07-26

申请号：KR1019930026310

申请日：1993-12-03

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  이종현 ,  유형준

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 반도체 장치의 제조를 위한 피소그래피 장비에서 웨이퍼의 수평 상태를 자동으로 측정하는 장치에 관한 것으로, 본 발명에 따른 장치는 광원으로 반도체 레이저(1)를 사용하고, 선형편광자(11)를 사용하며, 광량 조절수단인 광감쇠기(12)에 의해 반도체 레이저(1)로부터의 레이저 빔이 웨이퍼 표면으로 전달되기 전에 레이저 빔을 받아들여 평행광으로 변환하는 광변환수단인 시준렌즈(2)로 부터의 지름 100mm
;의 평행광을 웨이퍼면(4)에 입사각76도로 입사시키고, 2차원 면에서의 광점의 변위를 측정할 수 있도록 2차원형 위치 검출소자(10)를 사용하며, 웨이퍼 표면(4)에서 반사된 광을 소정의 촛점거리(f)에 모아 광점을 형성하는 집광수단인 집광렌즈(6)에 의한 광점(7a)의 위치를 증폭하여 위치 검출 소자(9)에 증폭된 광점의 변위를 전달하고, 이렇게 증폭된 광점이 2-차원 위치검출소자(9)로 입사되면 위치 검출소자(9)에서는 4개의 출력단자들을 통하여 빔의 조사위치에 4개의 신호들이 각각 출력되고, 이들 신호들을 다시 크기, 방향 위치 검출 소자 감지 면 상의
-측과 ｙ-축의 좌표를 나타내는 아날로그 전압 신호로 변환되어 처리하는 자동 수평 측정계(1~12, 20)에 의해 척(10)위에 위치하는 웨이퍼의 기울어짐을 측정하여 이를 보상해 준다.
따라서, 반도체 위치 검출 소자와 간단한 광학장치 만에 의해서도 높은 징밀도와 넓은 감지영역을 갖는 웨이퍼 자동 수평 측정 장치를 전체 노광 영역에 걸쳐 초점심도를 확보할 수 있게 된다.