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    Procedimiento de preparación de 4-hidroxipiridinas
    85.
    发明专利
    Procedimiento de preparación de 4-hidroxipiridinas 未知

    公开(公告)号：ES2539379T3

    公开(公告)日：2015-06-30

    申请号：ES11797708

    申请日：2011-06-20

    Applicant: BASF SE

    Inventor： MAYWALD VOLKER ,  MENGES FREDERIK ,  VOGELBACHER UWE JOSEF ,  RACK MICHAEL ,  KEIL MICHAEL ,  GRAMMENOS WASSILIOS ,  VRETTOU-SCHULTES MARIANNA ,  LOHMANN JAN KLAAS ,  MÜLLER BERND ,  JABS THORSTEN

    IPC: C07D213/08 ,  C07D213/61 ,  C07D213/68

    Abstract: Un procedimiento de preparación de 4-hidroxipiridinas de fórmula I**Fórmula** en la que R1 es hidrógeno, alquilo de C1-C4, haloalquilo de C1-C4, arilo, o hetarilo, en el que los dos últimos radicales mencionados están no substituidos o substituidos por 1, 2, 3 ó 4 substituyentes que están seleccionados entre halógeno, alquilo de C1-C4, haloalquilo de C1-C4, alcoxi de C1-C4 y haloalcoxi de C1-C4; R2, R3 y R4 son, independientemente, hidrógeno, alquilo de C1-C4, haloalquilo de C1-C4, NR5R6 o arilo, en el que el grupo arilo está no substituido o substituido por 1, 2, 3 ó 4 substituyentes que están seleccionados entre halógeno, alquilo de C1-C4, haloalquilo de C1-C4, alcoxi de C1-C4 y haloalcoxi de C1-C4; o los radicales R3 y R4, conjuntamente con los átomos de carbono a los cuales están unidos, forman un anillo carbocíclico saturado, parcialmente insaturado o insaturado al máximo de 3-, 4-, 5-, 6- ó 7-átomos o un anillo heterocíclico saturado, parcialmente insaturado o insaturado al máximo de 3-, 4-, 5-, 6- ó 7-átomos, conteniendo 1, 2, ó 3 heteroátomos seleccionados entre O, S y N como átomos del anillo, en el que el anillo carbocíclico o heterocíclico está substituido o no substituido por 1, 2, 3 ó 4 substituyentes seleccionados entre halógeno, alquilo de C1-C4, haloalquilo de C1-C4, alcoxi de C1-C4 y haloalcoxi de C1-C4; R5 es hidrógeno, alquilo de C1-C4 o haloalquilo de C1-C4; R6 es hidrógeno, alquilo de C1-C4 o haloalquilo de C1-C4, fenilo, y fenil-alquilo de C1-C4; o R5 y R6 conjuntamente forman un puente alquileno de C4 o C5 o un grupo -CH2CH2OCH2CH2- o - CH2CH2NR7CH2CH2-; y R7 es hidrógeno o alquilo de C1-C4; comprendiendo el procedimiento: a) mezcla de un compuesto de fórmula II**Fórmula** en la que R1 es tal como se ha definido anteriormente; X es halógeno o alcoxi de C1-C4; con un compuesto de fórmula IIIa**Fórmula** en la que R2, R3, R4 son tal como se han definido anteriormente; Y es independientemente halógeno o alcoxi de C1-C4; o los dos radicales Y en un compuesto de fórmula IIIa forman, conjuntamente, un grupo -O-(CH2)n-O-, en el que el resto alcandiilo -(CH2)n- está no substituido o substituido con 1, 2 ó 3 substituyentes seleccionados entre halógeno y alquilo de C1-C4; y n es 2, 3 ó 4; y al menos una base seleccionada entre metilatos de metal alcalino o etilatos de metal alcalino para formar una mezcla de reacción; b) después de un primer periodo de reacción, la mezcla de reacción es tratada con al menos un ácido; y, c) después de un segundo periodo de reacción, la mezcla de reacción es tratada con al menos una fuente de amoníaco.

    2-(ΠΥΡΙΔΙΝ-2-ΥΛΟ)-ΠΥΡΙΜΙΔΙΝΕΣ ΚΑΙ Η ΧΡΗΣΙΜΟΠΟΙΗΣΗ ΤΟΥ ΓΙΑ ΤΗΝ ΚΑΤΑΠΟΛΕΜΗΣΗ ΕΠΙΖΗΜΙΩΝ ΜΥΚΗΤΩΝ
    87.
    发明专利
    2-(ΠΥΡΙΔΙΝ-2-ΥΛΟ)-ΠΥΡΙΜΙΔΙΝΕΣ ΚΑΙ Η ΧΡΗΣΙΜΟΠΟΙΗΣΗ ΤΟΥ ΓΙΑ ΤΗΝ ΚΑΤΑΠΟΛΕΜΗΣΗ ΕΠΙΖΗΜΙΩΝ ΜΥΚΗΤΩΝ 未知

    公开(公告)号：CY1110343T1

    公开(公告)日：2015-01-14

    申请号：CY101100441

    申请日：2010-05-20

    Applicant: BASF SE

    Inventor： GRAMMENOS WASSILIOS ,  GROTE THOMAS ,  BLETTNER CARSTEN ,  GEWEHR MARKUS ,  HÜNGER UDO ,  MÜLLER BERND ,  RHEINHEIMER JOACHIM ,  SCHÄFER PETER ,  SCHIEWECK FRANK ,  SCHWÖGLER ANJA ,  SCHÖFL ULRICH ,  KÖHLE HARALD ,  STRATHMANN SIEGFRIED ,  SCHERER MARIA ,  STIERL REINHARD ,  RETHER JAN

    IPC: C07D401/04 ,  A01N43/54

    Abstract: Ηπαρούσαεφεύρεσηαφοράενώσεις 2-(πυριδιν-2-υλο)-πυριμιδινώντουγενικούτύπου (I) καιτηχρησιμοποίησητουςγιατηνκαταπολέμησηεπιζήμιωνμυκήτωνκαθώςκαιμέσαφυτοπροστασίας, ταοποίαπεριέχουντέτοιεςενώσειςσανδραστικόσυστατικό. (I) Εδώκ στέκειγια 0, 1, 2 ή 3, m για 0, 1, 2, 3, 4 ή 5, R1 σημαίνουνανεξάρτηταμεταξύτουςαλογόνο, OH, CN, ΝO2, C1-C4-αλκύλιο, C1-C4-αλογοναλκύλιο, C1-C4-αλκοξυ, C1-C4-αλογοναλκοξυ, C2-C4-αλκενύλιο, C2-C4-αλκινύλιο, C3-C8-κυκλοαλκύλιο, C1-C4-αλκοξυ-C1-C4-αλκύλιο, αμινο, φαινοξυ, τοοποίοενδεχομένωςείναιυποκατεστημένομεαλογόνοή C1-C4-αλκύλιο, NHR, NR2, C(Ra)=N-ORb, S(=O)pA1 ή C(=O)A2, ήδύογειτονικέςσεάτομα C δεσμευμένεςρίζες R1 μπορούνναστέκουνεπίσηςαπόκοινούγιαμίαομάδα -Ο-Alk-O-, όπου Alk στέκειγιαγραμμικόή διακλαδισμένο C1-C4-αλκυλένιο, όπου 1, 2, 3 ή 4 άτομαυδρογόνουμπορούννααντικαθίστανταιεπίσηςμεαλογόνο, R2 σημαίνει C1-C4-αλογοναλκύλιο, C1-04-αλκοξυ, C1-C4-αλογοναλκοξυ, υδροξυ, αλογόνο, CN ήΝO2, όπου R2 μπορείνασημαίνειεπίσηςυδρογόνοή C1-C4-αλκύλιο, εάνεκπληρώνεταιτουλάχιστονμίααπότιςτρειςακόλουθεςσυνθήκες: n στέκειγια 3, 4 ή 5, k στέκειγια 1, 2 ή 3, για m ‡ 0 τουλάχιστονμίααπότιςρίζες R1 στέκειγιαμίαδιαφορετικήαπόαλογόνο, C1-C4-αλκύλιο, C1-C4-αλκοξυκαι C1-C4-αλογοναλκύλιορίζα, και R3 στέκειγια C1-C4-αλκύλιο.

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