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公开(公告)号:FR2941327B1
公开(公告)日:2012-05-04
申请号:FR0950376
申请日:2009-01-22
Applicant: ST MICROELECTRONICS SA
Inventor: MINGAM HERVE , ROY FRANCOIS
IPC: H01L27/146
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公开(公告)号:FR2910713B1
公开(公告)日:2009-06-12
申请号:FR0611350
申请日:2006-12-26
Applicant: ST MICROELECTRONICS SA
Inventor: ROY FRANCOIS
IPC: H01L31/103 , H01L27/146 , H01L27/148 , H01L31/18
Abstract: In a photodiode formed by a region of a first type inside a region of a second type, of a semiconductor substrate, the region of the first type includes a first zone including a dopant of the first type having a first concentration and a first depth. The region of the first type also has a second zone adjacent to the first zone in the dopant of the first type has a second concentration higher than the first concentration and a second depth smaller than the first depth. A method for making such a diode is also disclosed.
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公开(公告)号:FR2911007A1
公开(公告)日:2008-07-04
申请号:FR0656033
申请日:2006-12-28
Applicant: ST MICROELECTRONICS SA
Inventor: TOURNIER ARNAUD , ROY FRANCOIS
IPC: H01L27/146 , H01L31/10 , H01L31/18
Abstract: L'invention concerne un pixel comportant un substrat semiconducteur (1) d'un premier type de dopage ; une première couche du second type de dopage recouvrant le substrat ; une seconde couche (33, 34) du premier type de dopage recouvrant la première couche ; et un transistor de type MOS (Tl, T2) formé dans la seconde couche et ayant une zone de drain (15, 25) et une zone de source (14, 24) du second type de dopage. Le pixel comprend une première zone (32) du second type de dopage, plus fortement dopée que la première couche, traversant la seconde couche et s'étendant jusque dans la première couche, et reliée à la zone de drain ; et une seconde zone (40, 41) du premier type de dopage, plus fortement dopée que la seconde couche et bordant la zone de source.
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84.
公开(公告)号:FR2888404A1
公开(公告)日:2007-01-12
申请号:FR0507145
申请日:2005-07-05
Applicant: ST MICROELECTRONICS SA
Inventor: LENOBLE DAMIEN , ROY FRANCOIS
IPC: H01L27/146 , H01L21/8232
Abstract: Circuit intégré comprenant au moins une photodiode (PD) associée à un transistor de transfert (TG), ladite photodiode (PD) comportant une jonction PN supérieure et le transistor (TG) comportant un espaceur (ESP1) latéral situé du côté de la photodiode (PD). La couche supérieure (3) de la jonction PN supérieure comporte une extension surfacique latérale et s'étendant sous l'espaceur (ESP1).
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公开(公告)号:FR2857507B1
公开(公告)日:2005-10-21
申请号:FR0308326
申请日:2003-07-08
Applicant: ST MICROELECTRONICS SA
Inventor: ROY FRANCOIS
IPC: H01L21/00 , H01L27/146 , H01L31/0328 , H01L31/11
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公开(公告)号:FR2820882A1
公开(公告)日:2002-08-16
申请号:FR0101880
申请日:2001-02-12
Applicant: ST MICROELECTRONICS SA
Inventor: ROY FRANCOIS
IPC: H01L27/144 , H01L27/146 , H01L31/0352
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公开(公告)号:DE602006021271D1
公开(公告)日:2011-05-26
申请号:DE602006021271
申请日:2006-11-08
Applicant: ST MICROELECTRONICS SA
Inventor: ROY FRANCOIS , GIRAULT THOMAS
IPC: G02B6/12 , H01L27/146
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公开(公告)号:FR2910703B1
公开(公告)日:2009-03-20
申请号:FR0655895
申请日:2006-12-22
Applicant: ST MICROELECTRONICS SA
Inventor: ROY FRANCOIS
IPC: H01L21/768 , H01L27/146
Abstract: The device has a set of components formed on a substrate (100), and superimposed metallic interconnection levels (N1-N3) for interconnecting the components. The levels are located in insulating layers (160, 165) placed on the substrate, where the level (N2) has conductive zones (120a-120c) made of copper. The level (N3) is located on the level (N2) and comprises two other conductive zones made of copper and aluminum, respectively. The latter conductive zones are respectively connected to the conductive zones (120b, 120c). An independent claim is also included for a method for forming a micro-electronic device.
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公开(公告)号:FR2897472B1
公开(公告)日:2008-09-05
申请号:FR0650536
申请日:2006-02-14
Applicant: ST MICROELECTRONICS SA
Inventor: FELLOUS CYRIL , HOTELLIER NICOLAS , AUMONT CHRISTOPHE , ROY FRANCOIS
IPC: H01L27/146
Abstract: A photodetector including a photodiode formed in a semiconductor substrate and a waveguide element formed of a block of a high-index material extending above the photodiode in a thick layer of a dielectric superposed to the substrate, the thick layer being at least as a majority formed of silicon oxide and the block being formed of a polymer of the general formula R1R2R3SiOSiR1R2R3 where R1, R2, and R3 are any carbonaceous or metal substituents and where one of R1, R2, or R3 is a carbonaceous substituent having at least four carbon atoms and/or at least one oxygen atom.
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公开(公告)号:FR2894073A1
公开(公告)日:2007-06-01
申请号:FR0512156
申请日:2005-11-30
Applicant: ST MICROELECTRONICS SA
Inventor: ROY FRANCOIS , LULE TAREK
IPC: H01L31/0232 , H01L27/146
Abstract: L'invention concerne un circuit intégré comprenant au moins une cellule photosensible. La cellule (1) comprend un élément photosensible (4), une face d'entrée (2) associée audit élément photosensible, un filtre optique (6) situé sur au moins un chemin optique menant à l'élément photosensible et une partie d'interconnexion (5) située entre l'élément photosensible et la face d'entrée. Le filtre optique (6) est disposé entre l'élément photosensible et la surface de la partie d'interconnexion la plus proche de la face d'entrée. En particulier, le filtre optique peut être disposé dans la partie d'interconnexion. L'invention propose également de réaliser le filtre à l'aide d'un verre comprenant du sulfure de cérium ou au moins un oxyde métallique.
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