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公开(公告)号：CN102791387A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201180012981.6
申请日：2011-01-07
Applicant: 玛太克司马特股份有限公司
Inventor： 松永正文
CPC classification number: B05B13/0221 , B05B13/041 , B05B14/43 , B05B16/80 , B05D1/005 , H01L21/6715 , H01L21/6719 , H01L2933/0041
Abstract: 本发明涉及涂敷方法以及涂敷装置，该涂敷方法以及涂敷装置在具备顶板、底板以及侧板的涂敷室内，通过涂敷器向被涂敷物涂敷涂敷剂，其中：在涂敷室上部以及下部分别形成空气吸入口以及排出口，在涂敷室的上部内使涂敷器的至少排出孔露出，从底板侧在涂敷室内露出地设置被涂敷物载置单元，将涂敷器与被涂敷物载置单元的至少一方构成为能够直线移动，通过设置于涂敷室外的驱动机构使涂敷器与被涂敷物载置单元的至少一方移动而将涂敷器相对于被涂敷物定位，通过涂敷器向被涂敷物涂敷涂敷剂。
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公开(公告)号：CN102484435A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080038164.3
申请日：2010-08-26
Applicant: 兰达实验室(2012)有限公司
CPC classification number: H02N3/00 , B05D1/005 , B05D1/02 , B05D1/40 , B28B3/02 , B28B11/24 , C23C14/34 , C25D7/00 , C25D13/12 , H01J45/00 , H02N11/002 , Y10T428/249921
Abstract: 本发明公开了用在电发生器中的利用气体媒介电荷转移的微粒结构及其制造方法。该结构包括大量微粒，其在所述微粒的第一和第二相对表面之间包含空隙。使所述相对表面的至少一部分改性，使得所述第一相对表面的电荷可转移性与所述第二相对表面的电荷可转移性不同。
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公开(公告)号：CN101512722B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200780031890.0
申请日：2007-08-24
Applicant: 光学转变公司
IPC: H01L21/00
CPC classification number: B05C11/02 , B05D1/005 , B29D11/00884 , G02B1/10 , H01L21/6715 , H01L21/67253
Abstract: 一种再循环旋转涂敷机系统，该系统包括旋转涂敷碗状件，该旋转涂敷碗状件包括再循环排出部和与内侧壁上端相连的湿润流体腔，其中该湿润流体腔被配置成将侧壁湿润流体分配到旋转涂敷碗状件的内侧壁上。一个视觉系统被配置成捕获旋转涂敷碗状件中的工件的图像，用于质量控制和确定工件的位置。环形阵列光源环绕旋转涂敷碗状件的侧面并且被配置成照明旋转涂敷碗状件的内部，以用于光学控制装置。可利用该视觉系统进行质量控制和确定工件的位置。该涂敷喷嘴被配置成在第一涂敷位置和第二清洗位置之间移动，第一涂敷位置与工件竖直对准，第二清洗位置与再循环排出部竖直对准。
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公开(公告)号：CN101900944A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010163965.4
申请日：2010-02-08
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： J·F·卡梅隆 , J·W·宋 , J·P·阿马拉 , G·P·普罗科波维奇 , D·A·瓦莱里
IPC: G03F7/09 , G03F7/16 , C08L33/10 , C08L35/00 , C09D133/10 , C09D135/00 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/091 , B05D1/005 , B05D3/0254 , B05D3/06 , B05D5/061 , B05D7/54 , C08F220/36 , C09D5/006 , C09D133/12 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/322
Abstract: 提供一种有机涂层组合物，尤其是减反射涂层组合物，其包含二烯烃/二烯亲和物的反应产物。本发明的优选组合物有益于减少从基体背面到外涂的光致抗蚀剂层和/或作为平面化、保形或通孔填充层的曝光辐射的反射。
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公开(公告)号：CN101750898A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910252191.X
申请日：2009-12-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/16
CPC classification number: B05D1/005 , G03F7/162 , H01L21/6715
Abstract: 本发明提供一种实现抑制涂敷涂敷液时产生的气泡来提高涂敷液膜的均匀化及成品率的涂敷处理方法及涂敷处理装置。还提供实现涂敷液的有效利用及涂敷液膜的均匀化的涂敷处理方法及涂敷处理装置。本发明的涂敷处理方法如下所述：使半导体晶圆(W)以低速的第1转速旋转，向晶圆中心部供给纯水(DIW)而形成纯水的积水部，然后在使晶圆以上述第1转速旋转的状态下，向晶圆中心部供给水溶性的涂敷液(TARC)，使该涂敷液和上述积水部的纯水混合。然后使晶圆以比上述第1转速高的第2转速旋转而形成涂敷液膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101512722A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200780031890.0
申请日：2007-08-24
Applicant: 光学转变公司
IPC: H01L21/00
CPC classification number: B05C11/02 , B05D1/005 , B29D11/00884 , G02B1/10 , H01L21/6715 , H01L21/67253
Abstract: 一种再循环旋转涂敷机系统，该系统包括旋转涂敷碗状件，该旋转涂敷碗状件包括再循环排出部和与内侧壁上端相连的湿润流体腔，其中该湿润流体腔被配置成将侧壁湿润流体分配到旋转涂敷碗状件的内侧壁上。一个视觉系统被配置成捕获旋转涂敷碗状件中的工件的图像，用于质量控制和确定工件的位置。环形阵列光源环绕旋转涂敷碗状件的侧面并且被配置成照明旋转涂敷碗状件的内部，以用于光学控制装置。可利用该视觉系统进行质量控制和确定工件的位置。该涂敷喷嘴被配置成在第一涂敷位置和第二清洗位置之间移动，第一涂敷位置与工件竖直对准，第二清洗位置与再循环排出部竖直对准。
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公开(公告)号：CN101477304A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200810195525.X
申请日：2008-11-04
Applicant: 南京大学
CPC classification number: B29C33/405 , B05D1/005 , B29C33/40 , B29C59/022 , B29K2083/00 , B29K2883/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/76 , G03F7/0002 , G03F7/20 , Y10T156/1023
Abstract: 在复杂形状表面复制高分辨率纳米结构的压印方法，纳米结构模板通过压力压入加热熔融的高分子薄膜或紫外光固化材料，固化材料定型后移去模板，然后将纳米结构转移至基片上；压印模板采用柔性纳米压印模板，柔性纳米压印模板采用双层复合结构，该双层复合模板上层为柔性的高分子弹性体衬底，杨氏模量范围在1～15N/mm2，厚度可调，在0.1毫米至2毫米之间；下层为刚性的光固化高分子纳米压印图案层，杨氏模量在20N/mm2以上，厚度可调，在50纳米至500纳米之间。
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公开(公告)号：CN101414132A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200810166610.3
申请日：2008-10-15
Applicant: 株式会社迅动
IPC: G03F7/30
CPC classification number: G03F7/30 , B05D1/005 , G03F7/2041 , G03F7/3021 , H01L21/6715
Abstract: 一种显影装置，具有：旋转卡盘，其用于保持基板，而且所保持的所述基板能够自由旋转；显影液喷嘴，其形成有排成一列的喷出显影液的多个喷出口，并且使各喷出口喷出的显影液以相互分离的状态附着到基板上；水平移动机构，在俯视观察时，其将喷出口的排列方向保持在朝向基板中心的一个方向，同时沿该一个方向移动显影液喷嘴，从而在俯视观察时于基板的大致中心和周边缘之间移动显影液喷嘴；控制部，其控制旋转卡盘和水平移动机构，使显影液分别以螺旋状从各喷出口附着到基板上，从而对基板进行显影。
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公开(公告)号：CN1320543C
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN03816314.4
申请日：2003-07-09
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B7/266 , B05D1/005 , B05D1/32 , G11B2020/1288 , G11B2220/2541
Abstract: 本发明涉及制作盘形记录介质的旋涂装置和方法。所述旋涂装置可防止对一盘进行旋涂时采用的一掩膜受到损坏。更具体地说，所述装置结构如下。首先，将一掩膜放置到一位于一旋涂器上的盘件上，然后进行旋涂。紧接之后，连续地对移离该盘件的单个掩膜进行清洗、冲洗及干燥处理，这些处理之后的掩膜相继发送给下一旋涂操作。
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公开(公告)号：CN1266741C
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN02817255.8
申请日：2002-07-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: H01L21/67253 , B05C5/0216 , B05C5/0291 , B05D1/005 , G03F7/162 , H01L21/6715
Abstract: 预先对与制品用基板相同的基板以喷嘴边进行扫描边供给涂布液以形成涂布液的线，对其例如以CCD摄像头进行摄像以求取涂布液的接触角，依据该接触角利用几何模型求取进行实际涂布时的扫描速度下的涂布液喷嘴的喷吐流量与间距容许范围二者的关系数据。并且，预先针对每种目标膜厚制作出涂布液喷嘴的喷吐流量与间距二者的关系数据，依据两者的关系数据确定间距。
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