公开(公告)号：US6143676A

公开(公告)日：2000-11-07

申请号：US214894

申请日：1999-01-14

Applicant: Norio Ohashi ,  Michiyo Kuriyama ,  Shigeru Yamagata ,  Shigemasa Sunada

Inventor： Norio Ohashi ,  Michiyo Kuriyama ,  Shigeru Yamagata ,  Shigemasa Sunada

IPC: C03B19/14 ,  C03B23/047 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  C03B9/10 ,  G02B1/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B23/047 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/32 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/52

Abstract: An object of the present invention is to provide a synthetic silica glass optical material which exhibits excellent transmittance as well as durability for high output power vacuum ultraviolet rays, being emitted from, for example, ArF excimer lasers and Xe.sub.2 excimer lamps, and to provide a method for producing the same. A synthetic silica glass optical material for high output power vacuum ultraviolet rays made from ultra high purity synthetic silica glass for use in the wavelength region of from 165 to 195 nm, containing OH groups at a concentration of from 5 to 300 wtppm with a fluctuation width in OH group concentration (.DELTA.OH/cm) of 10 wtppm or less, containing hydrogen molecules at a concentration of from 1.times.10.sup.17 to 1.times.10.sup.19 molecule/cm.sup.3 with a fluctuation width in hydrogen molecule concentration (.DELTA.H.sub.2 /cm) of 1.times.10.sup.17 molecule/cm.sup.3 or lower, and containing chlorine at a concentration of 50 wtppm or lower. Also claimed is a method for producing the same.

Abstract translation: PCT No.PCT / EP98 / 02965 Sec。 371日期1999年1月14日第 102（e）日期1999年1月14日PCT提交1998年5月20日PCT公布。 第WO98 / 52879号公报 日期：1998年11月26日本发明的目的是提供一种合成石英玻璃光学材料，其表现出优异的透射率以及从例如ArF准分子激光器和Xe2准分子灯发射的高输出功率真空紫外线的耐久性 并提供其制造方法。 一种用于高浓度合成石英玻璃的高输出功率真空紫外线的合成二氧化硅玻璃光学材料，用于波长范围为165至195nm的OH基，其浓度为5至300重量ppm，具有波动宽度 OH分子浓度（DELTA OH / cm）为10重量ppm以下，含有浓度为1×10 17〜1×10 19分子/ cm 3的氢分子，氢分子浓度的波动宽度（DELTA H2 / cm）为1×10 17分子/ cm 3， 较低，含有浓度为50重量ppm以下的氯。 还要求保护其的方法。

公开(公告)号：US5958809A

公开(公告)日：1999-09-28

申请号：US915562

申请日：1997-08-21

Applicant: Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Shouji Yajima ,  Norio Komine ,  Hiroki Jinbo

Inventor： Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Shouji Yajima ,  Norio Komine ,  Hiroki Jinbo

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B37/014 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F7/20 ,  C03C13/04

CPC classification number: C03B19/14 ,  C03B37/014 ,  C03B37/0142 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G03F7/2004 ,  C03B2201/07 ,  C03B2207/66 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/46 ,  Y02P40/57 ,  Y10S501/905

Abstract: The invention relates to fluorine-containing silica glasses, and methods of their production. The silica glass may be used for an ultraviolet light optical system in which light in a wavelength region of 200 nm or less, such as an ArF (193 nm) excimer laser, is used. The invention also relates to a projection exposure apparatus containing fluorine-containing glass of the invention.

Abstract translation: 本发明涉及含氟二氧化硅玻璃及其制造方法。 石英玻璃可以用于其中使用200nm以下的波长区域的光，例如ArF（193nm）准分子激光器的紫外线光学系统。 本发明还涉及包含本发明的含氟玻璃的投影曝光装置。

公开(公告)号：US5141786A

公开(公告)日：1992-08-25

申请号：US485954

申请日：1990-02-27

Applicant: Takaaki Shimizu ,  Masatoshi Takita

Inventor： Takaaki Shimizu ,  Masatoshi Takita

IPC: C03B8/02 ,  C03B19/06 ,  C03B19/10 ,  C03B19/12 ,  C03C1/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/1065 ,  C03B19/12 ,  C03B20/00 ,  C03C1/006 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/26 ,  Y10S65/90 ,  Y10T428/131 ,  Y10T428/1314

Abstract: A synthetic silica glass article made by hydrolyzing an alkoxysilane and thermally sintering the resulting silica; this synthetic silica glass article has a viscosity of not lower than 10.sup.10 poise at 140.degree. C., and contains, as metallic impurities, less than 1 ppm at Al, less than 0.2 ppm of Fe, less than 0.2 ppm of Na, less than 0.2 ppm of K, less than 0.01 ppm of Li, less than 0.2 ppm of Ca, less than 0.02 ppm of Ti, less than 0.01 ppm of B, less than 0.01 of P, less than 0.01 ppm of As.

公开(公告)号：US5086352A

公开(公告)日：1992-02-04

申请号：US535205

申请日：1990-06-08

Applicant: Shigeru Yamagata ,  Kyoichi Inaki ,  Toshikatu Matsuya ,  Ralf Takke ,  Stephan Thomas ,  Heinz Fabian

Inventor： Shigeru Yamagata ,  Kyoichi Inaki ,  Toshikatu Matsuya ,  Ralf Takke ,  Stephan Thomas ,  Heinz Fabian

IPC: C03B19/14 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  C03C23/00 ,  G02B1/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70241 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03C23/007 ,  C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/08 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/14 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/42 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/90

Abstract: The invention relates to lenses, prisms or other optical members which are subjected to high-power ultraviolet light having a wavelength of about 360 nm or less, or ionizing radiation, particularly optical members for use in laser exposure apparatus for lithography, and to blanks for such optical members. The homogeneity of the refractive index distribution and the resistance to optical deterioration when the optical members are exposed for a long period of time to short wavelength ultraviolet light from a laser beam are improved. The optical members are made of high-purity synthetic silica glass material containing at least about 50 wt. ppm of OH groups, and are doped with hydrogen. The refractive index distribution caused by the fictive temperature distribution during heat treatment in the process of producing high-purity silica glass blanks for optical members in accordance with the present invention is offset by the combined refractive index distribution determined by the OH group concentration distribution or by the OH group concentration distribution and the Cl concentration distribution in the glass.

Abstract translation: 本发明涉及经受大约360nm或更小的波长的大功率紫外光的透镜，棱镜或其它光学构件，或者电离辐射，特别是用于光刻的激光曝光装置的光学构件，以及用于 这种光学构件。 当光学元件长时间暴露于来自激光束的短波长紫外光时，折射率分布的均匀性和光学劣化的抵抗性得到改善。 光学构件由含有至少约50重量％的高纯度合成石英玻璃材料制成。 ppm的OH基团，并掺杂氢气。 在根据本发明的用于制造用于光学部件的高纯度二氧化硅玻璃毛坯的过程中由热处理期间的假想温度分布引起的折射率分布由由OH基浓度分布或由OH基浓度分布确定的组合折射率分布或由 玻璃中的OH基浓度分布和Cl浓度分布。

公开(公告)号：NO902897A

公开(公告)日：1991-01-02

申请号：NO902897

申请日：1990-06-28

Applicant: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES

Inventor： ISHIKAWA SHINJI ,  OHGA YUICHI ,  TSUCHIYA ICHIRO ,  KANAMORI HIROO ,  YOKOTA HIROSHI ,  KYOTO MICHIHISA

IPC: G02B6/00 ,  C03B37/014 ,  C03B37/012

CPC classification number: C03B37/01446 ,  C03B37/0146 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  Y10S65/16 ,  Y10S65/90

公开(公告)号：WO2017103121A2

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081446

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OTTER, Matthias ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WESSELY, Frank ,  SCHREIBER, Andreas ,  ROOS, Björn ,  SCHEICH, Gerrit

IPC: C03B19/06 ,  C03C3/06 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B19/066 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C1/022 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/10 ,  C03C2204/04

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogen erzeugten Siliziumdioxidpulver, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat, iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, iv.) Zerkleinern des Quarzglaskörpers unter Erhalt einer Quarzglaskörnung, v.) Verarbeiten des Quarzglaskörpers zu einer Vorform und vi.) Bilden eines opaken Quarzglaskörpers aus der Vorform. Die Erfindung betrifft weiterhin einen opaken Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Reaktor und eine Anordnung, die jeweils durch Weiterverarbeiten des opaken Quarzglaskörpers erhältlich sind.

公开(公告)号：WO2014204927A1

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：PCT/US2014/042680

申请日：2014-06-17

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： HRDINA, Kenneth Edward ,  LAI, Changyi ,  MOORE, Lisa Anne ,  NEUKIRCH, Ulrich Wilhelm Heinz ,  ROSCH, William Rogers

IPC: C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03C21/00

CPC classification number: C03C23/0095 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/22 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C21/007 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/54

Abstract: A fused silica glass article having greater resistance to damage induced by exposure to laser radiation such as laser induced wavefront distortion at deep ultraviolet (DUV) wavelengths, and behaviors such as fluence dependent transmission, which are related to intrinsic defects in the glass. The improved resistance to laser damage may be achieved in some embodiments by loading the glass article with molecular hydrogen (H2) at temperatures of about 400°C or less, or 350°C or less. The combined OH and deuteroxyl (OD) concentration may be less than 10 ppm by weight. In other embodiments, the improved resistance may be achieved by providing the glass with 10 to 60 ppm deuteroxyl (OD) species by weight. In still other embodiments, improved resistance to such laser damage may be achieved by both loading the glass article with molecular hydrogen at temperatures of about 350°C or less and providing the glass with less than 10 ppm combined OH and OD, or 10 to 60 ppm OD by weight.

Abstract translation: 一种熔融石英玻璃制品，其具有较强的耐受暴露于激光辐射（例如在深紫外（DUV）波长处的激光诱发波前失真）以及与玻璃中的固有缺陷有关的诸如通量依赖透射的行为的损伤。 在一些实施方案中，可以通过在约400℃或更低或350℃或更低的温度下加载具有分子氢（H 2）的玻璃制品来改善对激光损伤的抵抗性。 组合的OH和氘氧化（OD）浓度可以小于10ppm重量。 在其它实施方案中，可以通过为玻璃提供10至60ppm的重量的氘氧化（OD）种类来实现改进的电阻。 在另外的其它实施例中，可以通过在大约350℃或更低的温度下将玻璃制品装载到分子氢中，并且提供少于10ppm的组合的OH和OD的玻璃或10至60 ppm OD（重量）。

公开(公告)号：WO2014128148A2

公开(公告)日：2014-08-28

申请号：PCT/EP2014/053199

申请日：2014-02-19

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

Inventor： KUEHN, Bodo

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

Abstract: Die Erfindung geht von einem optischen Bauteil aus synthetischem Quarzglas zur Verwendung in der ArF-Excimerlaser-Lithographie mit einer Einsatzwellenlänge von 193 nm aus, mit einer Glasstruktur im Wesentlichen ohne Sauerstoffdefektstellen, einem Wasserstoffgehalt im Bereich von 0,1 x 10 16 Molekülen/cm 3 bis 1,0 x 10 18 Molekülen/cm 3 und einem Gehalt an SiH-Gruppen von weniger als 2 x 10 17 Molekülen/cm 3 und mit einem Gehalt an Hydroxylgruppen im Bereich zwischen 0,1 und 100 Gew.-ppm, wobei die Glasstruktur eine fiktive Temperatur von weniger 1070 °C aufweist. Um ausgehend von einer Messung des Kompaktierungsverhaltens bei einer Messwellenlänge von 633 nm eine verlässliche Prädiktion zum Kompaktierungsverhalten beim Einsatz mit UV-Laserstrahlung der Einsatzwellenlänge ermöglicht, wird eine Ausgestaltung des optischen Bauteil vorgeschlagen, bei der es auf Bestrahlung mit Strahlung einer Wellenlänge von 193 nm mit 5x10 9 Pulsen mit einer Pulsbreite von 125 ns und einer Energiedichte von jeweils 500µJ/cm 2 sowie einer Pulswiederholfrequenz von 2000 Hz mit einer laserinduzierten Brechzahländerung reagiert, deren Betrag bei Vermessung mit der Einsatzwellenlänge von 193 nm einen ersten Messwert M 193nm und bei Vermessung mit einer Messwellenlänge von 633 nm einen zweiten Messwert M 633nm ergibt, wobei gilt: M 193nm /M 633nm

Abstract translation:

本发明涉及一种用于在ArF准分子激光光刻法使用与Einsatzwellenl＆AUML光学合成石英玻璃构件; 193纳米的长度，具有玻璃结构基本没有氧缺陷，在的范围内的氢含量 0.1×10 ^{16 分子导航用途LEN /厘米 3 至1.0×10 18 分子导航用途LEN /厘米 3 < / SUP>和小于2×10 17 分子导航用途的SiH基团的含量LEN /厘米 3 和与羟基基团的0.1°范围内的内容和 100重量ppm，玻璃结构的概念温度低于1070℃ 为了从Kompaktierungsverhaltens的测量在一个Messwellenl＆AUML开始; 633nm的长度的VERL＆AUML; ssliche镨＆AUML;用语与Einsatzwellenl BEAR长度ERM＆ouml的紫外激光辐射使用时压实行为; glicht，该光学装置的结构，提出了，这是对 照射具有波长＆AUML辐射;焦耳/厘米 2 ，和脉冲重复的2000频率; 193nm下用5×10 9 脉冲与125毫微秒的脉冲宽度和500微的能量密度的长度 用激光诱导的折射率＆AUML赫兹反应的变化，与所述Einsatzwellenl＆AUML测量时的量; 193nm的第一测量值M长度<子> 193nm的和测量与Messwellenl＆AUML; 633nm的第二测量值M长度<子 > 633nm，其中：M193nm / M633nm}

公开(公告)号：WO2009022456A1

公开(公告)日：2009-02-19

申请号：PCT/JP2008/002145

申请日：2008-08-07

Applicant: 信越石英株式会社 ,  山形茂 ,  笛吹友美

Inventor： 山形茂 ,  笛吹友美

IPC: C03C3/06 ,  B01J35/02 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B19/1453 ,  B01J21/08 ,  B01J35/002 ,  B01J35/004 ,  B01J37/08 ,  C03B19/01 ,  C03B19/09 ,  C03B29/02 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2203/44

Abstract: 　本発明は、シリカガラスにおいて、少なくとも、前記シリカガラスは、ＯＨ基含有量が１～５００ｗｔ．ｐｐｍであり、酸素欠陥構造が実質的に存在しないものであり、金属不純物濃度が、表層部から内部にわたって、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎについてそれぞれ２００ｗｔ．ｐｐｂ以下であり、光触媒反応ユニットに使用されるものである光触媒用シリカガラス、及び、このような光触媒用シリカガラスを製造するための光触媒用シリカガラスの製造方法である。これにより光触媒反応ユニットに使用されるシリカガラスであって、長時間紫外線を照射しても性能が低下しにくい、耐紫外線性等に優れた光触媒用シリカガラス、及びその製造方法が提供される。

Abstract translation: 一种光催化剂用石英玻璃，用于光催化反应单元，羟基含量为1〜500重量ppm，基本上不含缺氧结构，其中金属杂质，Li，Na，K，Mg，Ca ，Cr，Fe，Ni，Cu和Zn在表面到芯的区域分别为200wt .ppb或更低; 以及生产石英玻璃的方法。 本发明提供一种用于光催化反应单元的光催化剂用石英玻璃，其耐紫外线性优异，即使长时间照射紫外线也不会导致性能劣化， 石英玻璃。

公开(公告)号：WO2008140676A3

公开(公告)日：2009-01-08

申请号：PCT/US2008005487

申请日：2008-04-28

Applicant: CORNING INC ,  BOOKBINDER DANA C ,  FIACCO RICHARD M ,  HRDINA KENNETH

Inventor： BOOKBINDER DANA C ,  FIACCO RICHARD M ,  HRDINA KENNETH

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/31 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/54

Abstract: A fused silica glass and a fused silica article having a combined concentration of at least one of OH and OD of up to about 50 ppm. The fused silica glass is formed by drying a fused silica soot blank or preform in an inert atmosphere containing a drying agent, followed by removal of residual drying agent from the dried soot blank by heating the dried soot blank in an atmosphere comprising an inert gas and of oxygen.

Abstract translation: 熔融石英玻璃和熔融二氧化硅制品，其具有高达约50ppm的OH和OD中的至少一种的组合浓度。 熔融二氧化硅玻璃通过在含有干燥剂的惰性气氛中干燥熔融二氧化硅烟灰坯料或预型体而形成，然后通过在包含惰性气体的气氛中加热干燥的烟灰坯料从干燥的烟灰坯中除去残留的干燥剂， 的氧气。