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公开(公告)号：WO2019088722A1
公开(公告)日：2019-05-09
申请号：PCT/KR2018/013160
申请日：2018-11-01
Applicant: (주)디엔에프
IPC: H01L21/02 , H01L21/285 , H01L21/324 , C07F15/00 , C23C16/455
CPC classification number: C07F15/00 , C23C16/455 , H01L21/02 , H01L21/285 , H01L21/324
Abstract: 본 발명은 루테늄함유 박막의 제조방법 및 이로부터 제조된 루테늄함유 박막을 제공하는 것으로, 본 발명의 루테늄함유 박막의 제조방법은 루테늄(0)계 탄화수소 화합물 및 특정한 반응가스를 이용함으로써 순도 높은 박막을 간단한 공정으로 용이하게 제조할 수 있다.
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公开(公告)号：WO2017026676A1
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：PCT/KR2016/007662
申请日：2016-07-14
Applicant: (주)디엔에프
IPC: C23C16/455 , C23C16/34 , C23C16/02 , C23C16/50 , C23C16/513
CPC classification number: C23C16/02 , C23C16/34 , C23C16/455 , C23C16/50 , C23C16/513
Abstract: 본 발명은 플라즈마 원자층 증착법을 이용한 실리콘 질화 박막의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 특정 Si-N 결합을 가지는 아미노 실란 유도체를 플라즈마 원자층 층작 방법에 적용함으로써, 보다 낮은 파워와 성막온도 조건에서 고품질의 Si-N 결합을 포함하는 실리콘 질화 박막의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用等离子体原子层沉积方法制造氮化硅薄膜的方法，更具体地说，本发明的目的是提供一种制造氮化硅薄膜的方法，该方法包括：高质量Si- 在低功率和成膜温度的条件下，通过将具有特定Si-N键的氨基硅烷衍生物应用于等离子体原子层沉积方法。
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3.发明公开
公开(公告)号：KR1020150110310A
公开(公告)日：2015-10-02
申请号：KR1020150017921
申请日：2015-02-05
Applicant: (주)디엔에프
Abstract: 본발명은다양한붕소함유박막형성에선구물질로사용될수 있는붕소함유화합물을포함하는조성물, 이를이용하여제조된붕소함유박막및 이를이용하는붕소함유박막의제조방법에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及包含可用作形成各种含硼薄膜的前体的含硼化合物的组合物，还涉及通过使用其制备的含硼薄膜和制造方法 使用其的含硼薄膜。
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公开(公告)号：KR102005940B1
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：KR1020150147806
申请日：2015-10-23
Applicant: (주)디엔에프
IPC: C07F7/10 , C07F7/08 , C23C16/40 , C23C16/455 , H01L21/314 , H01L21/316
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020150124603A
公开(公告)日：2015-11-06
申请号：KR1020140051279
申请日：2014-04-29
Applicant: (주)디엔에프
CPC classification number: C23C16/405 , C07F7/00 , C07F17/00 , C23C16/45525
Abstract: 본발명은지르코늄산화물박막의제조방법및 본발명의제조방법에따라제조된지르코늄산화물박막을제공하는것으로, 본발명의지르코늄산화물박막을형성하기위한지르코늄함유전구체를이용하여넓은공정온도와높은단차피복성을가지는지르코늄산화물박막을제조할 수있다.
Abstract translation: 本发明提供了通过本发明的制造方法制造的氧化锆薄膜的制造方法和氧化锆薄膜。 该方法能够通过使用含锆的前体来制造具有宽的工艺温度范围和高阶梯覆盖范围的氧化锆薄膜，用于形成本发明的氧化锆薄膜。
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公开(公告)号：KR101741577B1
公开(公告)日：2017-05-30
申请号：KR1020140003859
申请日：2014-01-13
Applicant: (주)디엔에프
Abstract: 본발명은다양한붕소함유박막형성에선구물질로사용될수 있는붕소함유전구체, 이의제조방법및 이를이용한박막에관한것으로본 발명의붕소함유전구체는휘발성과열정안정성이높아양질의붕소함유박막을형성할수 있다.
Abstract translation: 本发明可以形成含硼前驱物，制造方法，并增加了含硼前驱物可以是本发明涉及的薄膜具有良好的质量的含硼薄膜，其可被用作前体性的各种含硼薄膜的本发明的易失性和激情稳定性 。
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公开(公告)号：KR101735372B1
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：KR1020150017962
申请日：2015-02-05
Applicant: (주)디엔에프
Abstract: 본발명은다양한붕소함유박막형성에선구물질로사용될수 있는붕소함유화합물을포함하는조성물, 이를이용하여제조된붕소함유박막및 이를이용하는붕소함유박막의제조방법에관한것으로, 본발명은붕소함유화합물은휘발성과열적안정성이높아양질의붕소함유박막을형성할수 있다.
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9.发明公开
公开(公告)号：KR1020150110311A
公开(公告)日：2015-10-02
申请号：KR1020150017962
申请日：2015-02-05
Applicant: (주)디엔에프
Abstract: 본발명은다양한붕소함유박막형성에선구물질로사용될수 있는붕소함유화합물을포함하는조성물, 이를이용하여제조된붕소함유박막및 이를이용하는붕소함유박막의제조방법에관한것으로, 본발명은붕소함유화합물은휘발성과열적안정성이높아양질의붕소함유박막을형성할수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种组合物，其包含用作形成各种含硼薄膜的前体的含硼化合物，使用该硼的薄膜制造的含硼薄膜以及使用其制造含硼薄膜的方法 一样。 由于挥发性和热稳定性高，本发明的含硼化合物可形成高品质的含硼薄膜。
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10.发明授权붕소함유 화합물을 포함하는 조성물, 이를 이용하여 제조된 붕소함유 박막 및 이를 이용한 붕소함유 박막의 제조방법 有权包含含硼化合物的组合物，使用该含硼化合物制备的含硼薄膜以及使用该含硼化合物制造含硼薄膜的方法
公开(公告)号：KR101770152B1
公开(公告)日：2017-08-23
申请号：KR1020150017921
申请日：2015-02-05
Applicant: (주)디엔에프
Abstract: 본발명은다양한붕소함유박막형성에선구물질로사용될수 있는붕소함유화합물을포함하는조성물, 이를이용하여제조된붕소함유박막및 이를이용하는붕소함유박막의제조방법에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于制备组合物，含有通过使用该薄膜和含硼薄膜使用相同的，包括可以使用的作为前体性的各种含硼薄膜的含硼化合物制备的硼。
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