包括背面配线的集成电路及其设计方法

    公开(公告)号:CN118366990A

    公开(公告)日:2024-07-19

    申请号:CN202311743963.6

    申请日:2023-12-18

    Abstract: 一种集成电路可以包括:栅电极,包括在第一方向上间隔开的第一栅电极和第二栅电极、以及在第一方向上间隔开的第三栅电极和第四栅电极。第二栅电极和第三栅电极接收第一控制信号,并且第一栅电极和第四栅电极接收第二控制信号。该集成电路还包括在第一栅电极和第二栅电极之间的第一漏区、以及在第三栅电极和第四栅电极之间的第二漏区,其中,第一漏区和第二漏区彼此电连接。该集成电路包括连接到第一漏区和第二漏区以及第一栅电极至第四栅电极中的至少一个的正面配线层、以及连接到第一漏区和第二漏区以及第一栅电极至第四栅电极中的至少另一个的背面配线层。

    集成电路、设计集成电路的计算系统和计算机实现方法

    公开(公告)号:CN118099158A

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202410099459.5

    申请日:2017-10-13

    Abstract: 一种集成电路包括:下层,包括在第一方向上延伸的第一下部图案和第二下部图案;布置在第一下部图案上的第一通孔和布置在第二下部图案上的第二通孔;布置在第一通孔上的第一上部图案;以及布置在第二通孔上的第二上部图案,其中第一颜色被分配给第一上部图案,第二颜色被分配给第二上部图案,第一上部图案和第二上部图案在第二方向上彼此邻近,并且第一通孔布置在第一下部图案的第一边缘区域中,第一边缘区域与第一下部图案的第二边缘区域相比离第二下部图案更远,第二边缘区域与第一边缘区域相对。

    包括标准单元的集成电路以及制造集成电路的方法

    公开(公告)号:CN110828449B

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN201910327491.3

    申请日:2019-04-23

    Abstract: 提供了包括标准单元的集成电路以及制造集成电路的方法。一种集成电路可以包括:第一标准单元,包括在第一水平方向上延伸的第一有源区和第二有源区以及在与第一水平方向正交的第二水平方向上延伸的第一栅极线;和第二标准单元,其包括在第一水平方向上延伸的第三有源区和第四有源区以及在第二水平方向上与第一栅极线平行地对准的第二栅极线并与第一标准单元相邻。第一标准单元的第二有源区与第二标准单元的第三有源区之间的距离可以大于第一标准单元的第一有源区和第二有源区之间的距离,并可以大于第二标准单元的第三有源区和第四有源区之间的距离。

    具有接触跨接线的集成电路
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115954340A

    公开(公告)日:2023-04-11

    申请号:CN202310100341.5

    申请日:2018-02-08

    Abstract: 公开了一种集成电路。该集成电路包括沿第一方向延伸的第一有源区和第二有源区,沿基本上垂直于第一方向的第二方向延伸并且跨过第一有源区和第二有源区的第一栅极线以及包括在第一有源区上方与第一栅极线交叉的第一导电图案和在第一栅极线上方沿第二方向延伸并连接到第一导电图案的第二导电图案的第一接触跨接线。

    半导体器件以及制造该半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN106057774B

    公开(公告)日:2020-09-01

    申请号:CN201610207159.X

    申请日:2016-04-05

    Abstract: 提供了一种半导体器件以及一种制造该半导体器件的方法。所述半导体器件包括:基板;栅电极,位于基板上;绝缘层,位于栅电极上;第一下通孔和第二下通孔,位于绝缘层中;第一下金属线和第二下金属线,设置在绝缘层上并且分别连接到第一下通孔和第二下通孔;第一上金属线和第二上金属线,设置在第一下金属线和第二下金属线上并且分别连接到第一下金属线和第二下金属线。当在平面图中观察时,第一下通孔与第二上金属线叠置,并且第二下通孔与第一上金属线叠置。

    包括标准单元的集成电路以及制造集成电路的方法

    公开(公告)号:CN110828449A

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201910327491.3

    申请日:2019-04-23

    Abstract: 提供了包括标准单元的集成电路以及制造集成电路的方法。一种集成电路可以包括:第一标准单元,包括在第一水平方向上延伸的第一有源区和第二有源区以及在与第一水平方向正交的第二水平方向上延伸的第一栅极线;和第二标准单元,其包括在第一水平方向上延伸的第三有源区和第四有源区以及在第二水平方向上与第一栅极线平行地对准的第二栅极线并与第一标准单元相邻。第一标准单元的第二有源区与第二标准单元的第三有源区之间的距离可以大于第一标准单元的第一有源区和第二有源区之间的距离,并可以大于第二标准单元的第三有源区和第四有源区之间的距离。

Patent Agency Ranking