公开(公告)号：CN116408252B

公开(公告)日：2024-07-05

申请号：CN202210844502.7

申请日：2022-07-18

Applicant: 南昌中微半导体设备有限公司 ,  中微半导体设备(上海)股份有限公司

Inventor： 陈星建 ,  陈煌琳 ,  史文博 ,  朱海波

IPC: B05D5/08 ,  B05D5/00 ,  B05D7/24 ,  B05D1/02 ,  B05D1/18 ,  B05D3/02 ,  H01J37/32 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明公开了一种工件处理方法、工件及等离子体处理装置，本发明公开的工件处理方法包括：覆盖：在工件上覆盖液态碳硅烷，所述液态碳硅烷至少覆盖在所述工件的待处理位置；固化：将覆盖于所述工件上的液态碳硅烷固化，形成功能层。本发明采用液态碳硅烷作为化学源，经过浸渍和低温固化，获得包含碳化硅的功能层，该功能层耐腐蚀、耐刻蚀、耐磨；致密、厚度均匀、热传导效率高、粘度高。

公开(公告)号：CN115127457A

公开(公告)日：2022-09-30

申请号：CN202110318806.5

申请日：2021-03-25

Applicant: 中微半导体设备(上海)股份有限公司

Inventor： 史文博

IPC: G01B11/06 ,  G01B11/24 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明涉及一种聚焦环的检测装置，包括：第一可调机构，放置于基座的承载面上方，可以沿垂直承载面的方向运动；反射结构，第一端与第一可调机构的上方连接，反射结构可绕其第一端旋转；且反射结构的反射平面与承载面成的锐角为第二角度；光源，设置于反射结构上方，用以向反射结构沿垂直承载面方向发射光线，光线可以被反射结构和聚焦环的内侧面反射；检测模块，设置于反射结构上方，用于接收经反射结构和聚焦环的内侧面反射后的反射光线。本发明在无需打开反应系统的前提下，利用光学探测的方法对聚焦环的高度及形状进行测量，通过远程连接控制反射结构的角度和高度变化，不破坏反应腔体的真空环境，操作简便，且方便快捷，提高了检测精度。

公开(公告)号：CN113130280B

公开(公告)日：2024-03-12

申请号：CN201911405392.9

申请日：2019-12-31

Applicant: 中微半导体设备(上海)股份有限公司

Inventor： 王凯麟 ,  史文博

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明公开了一种用于等离子体处理装置的光强度监测调节机构，包括：反光镜座，其内固定设置有一反光镜，用于反射等离子体刻蚀过程中产生的光；一端卡固于反光镜座内的凸透镜座，其内固定设置有一凸透镜，用于将反光镜反射入的反射光汇聚至一光纤；调节螺杆，其一端容设于凸透镜座内，另一端固设有所述光纤；所述调节螺杆相对于凸透镜座在调节螺杆的延伸方向上移动，而改变光纤与凸透镜之间的距离，以调整汇聚至光纤上的反射光的强度。

公开(公告)号：CN116408252A

公开(公告)日：2023-07-11

申请号：CN202210844502.7

申请日：2022-07-18

Applicant: 南昌中微半导体设备有限公司 ,  中微半导体设备(上海)股份有限公司

Inventor： 陈星建 ,  陈煌琳 ,  史文博 ,  朱海波

IPC: B05D5/08 ,  B05D5/00 ,  B05D7/24 ,  B05D1/02 ,  B05D1/18 ,  B05D3/02 ,  H01J37/32 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明公开了一种工件处理方法、工件及等离子体处理装置，本发明公开的工件处理方法包括：覆盖：在工件上覆盖液态碳硅烷，所述液态碳硅烷至少覆盖在所述工件的待处理位置；固化：将覆盖于所述工件上的液态碳硅烷固化，形成功能层。本发明采用液态碳硅烷作为化学源，经过浸渍和低温固化，获得包含碳化硅的功能层，该功能层耐腐蚀、耐刻蚀、耐磨；致密、厚度均匀、热传导效率高、粘度高。

公开(公告)号：CN113130280A

公开(公告)日：2021-07-16

申请号：CN201911405392.9

申请日：2019-12-31

Applicant: 中微半导体设备(上海)股份有限公司

Inventor： 王凯麟 ,  史文博

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明公开了一种用于等离子体处理装置的光强度监测调节机构，包括：反光镜座，其内固定设置有一反光镜，用于反射等离子体刻蚀过程中产生的光；一端卡固于反光镜座内的凸透镜座，其内固定设置有一凸透镜，用于将反光镜反射入的反射光汇聚至一光纤；调节螺杆，其一端容设于凸透镜座内，另一端固设有所述光纤；所述调节螺杆相对于凸透镜座在调节螺杆的延伸方向上移动，而改变光纤与凸透镜之间的距离，以调整汇聚至光纤上的反射光的强度。

公开(公告)号：CN117116733A

公开(公告)日：2023-11-24

申请号：CN202210529114.X

申请日：2022-05-16

Applicant: 中微半导体设备(上海)股份有限公司

Inventor： 陈星建 ,  陈煌琳 ,  史文博 ,  朱海波 ,  刘身健

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明公开了一种等离子处理装置的部件表面处理方法、等离子处理装置及其制备方法，该表面处理方法包含：提供一等离子处理装置，其包含：用于提供等离子体环境的反应腔；及，若干暴露于等离子环境中的零部件；对所述反应腔抽真空；向所述反应腔内通入涂层前驱体；开启等离子体射频源，使所述涂层前驱体解离为涂层等离子体，所述涂层等离子体在暴露于等离子体环境的零部件上形成表面涂层。本发明利用等离子处理装置的现有功能部件，以单一化合物为涂层前驱体，不仅能在零部件胚体表面形成表面涂层，还可以在待翻修的零部件表面原位形成表面涂层。应用本发明的表面处理方法，能大幅降低等离子处理装置的购置成本、翻新成本及维修成本。