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公开(公告)号：CN110249265A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201780084347.0
申请日：2017-12-01
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Abstract: 一种反射折射的投射镜头(PO)，用于使用具有工作波长λ＜260nm的电磁辐射将在投射镜头的物平面(OS)的有效物场(OF)中布置的掩模图案成像到在投射镜头的像平面(IS)上布置的有效像场中。投射镜头包括多个透镜和包含至少一个凹面反射镜(CM)的多个反射镜，并且透镜和反射镜限定了投射束路径，其从物平面(OS)延伸到像平面(IS)并且包含至少一个光瞳平面(P2)。反射镜包括具有第一反射镜表面(MS1)的第一反射镜(FM1)和具有第二反射镜表面(MS2)的第二反射镜(FM2)，该第一反射镜布置在物平面和在与物平面光学共轭的第一场平面的光学附近的光瞳平面(P2)之间的投射束路径中，并且该第二反射镜布置在光瞳平面(P2)和在与第一场平面光学共轭的第二场平面的光学附近的像平面之间的投射束路径中。该第一反射镜表面(MS1)和/或第二反射镜表面(MS2)设计为自由形式表面。
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公开(公告)号：CN110337613A
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201780087378.1
申请日：2017-12-20
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明关于光学配置，例如光刻系统，其包含：第一部件(19)，特别是承载框；第二部件(13)，其可相对第一部件(19)移动，特别是反射镜；以及至少一个止挡件(20)，其具有至少一个止挡面(20a、20b)用于限制第二部件(13)相对第一部件(19)的移动。在本发明一个方面中，光学配置(较佳为止挡件(20))具有用于固定第二部件(13)的固定装置(23)，其至少包含可相对止挡件(20)的止挡面(21a、21b)移动的固定元件(24)。本发明的其他方面同样关于具有固定装置或具有输送锁定件的光学配置。
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公开(公告)号：CN104136999B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201380008896.1
申请日：2013-02-08
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G02B17/0892 , B82Y10/00 , G02B17/0896 , G03F7/70191 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G21K1/062 , Y10T29/49826
Abstract: 一种投射镜头(PO)，该投射镜头利用具有来自极紫外范围(EUV)的工作波长λ的电磁辐射，将布置在该投射镜头的物平面(OS)中的图案成像于该投射镜头的像平面(IS)中，该投射镜头包含多个反射镜(M1‑M6)，该多个反射镜具有反射镜表面，该反射镜表面布置在该物平面及该像平面之间的投射光束路径中，使得可利用该反射镜将布置在该物平面中的图案成像于该像平面中。分配的波前校正装置(WFC)包含膜元件(FE)，该膜元件具有一膜，该膜在波前校正装置的操作模式中布置在投射光束路径中且在工作波长λ透射照在光学使用区中的EUV辐射的主要部分。该膜元件包含：第一层，其由具有第一复数折射率n1＝(1‑δ1)+iβ1的第一层材料构成且具有在使用区上根据第一层厚度分布局部改变的第一光学层厚度；以及第二层，其由具有第二复数折射率n2＝(1‑δ2)+iβ2的第二层材料构成且具有在使用区上根据第二层厚度分布局部改变的第二光学层厚度，其中该第一层厚度分布与该第二层厚度分布不同。第一折射率的实部与1的偏差δ1相对于第一层材料的吸收系数β1较大，第二折射率的实部与1的偏差δ2相对于第二层材料的吸收系数β2较小。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104136999A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201380008896.1
申请日：2013-02-08
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G02B17/0892 , B82Y10/00 , G02B17/0896 , G03F7/70191 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G21K1/062 , Y10T29/49826
Abstract: 一种投射镜头(PO)，该投射镜头利用具有来自极紫外范围(EUV)的工作波长λ的电磁辐射，将布置在该投射镜头的物平面(OS)中的图案成像于该投射镜头的像平面(IS)中，该投射镜头包含多个反射镜(M1-M6)，该多个反射镜具有反射镜表面，该反射镜表面布置在该物平面及该像平面之间的投射光束路径中，使得可利用该反射镜将布置在该物平面中的图案成像于该像平面中。分配的波前校正装置(WFC)包含膜元件(FE)，该膜元件具有一膜，该膜在波前校正装置的操作模式中布置在投射光束路径中且在工作波长λ透射照在光学使用区中的EUV辐射的主要部分。该膜元件包含：第一层，其由具有第一复数折射率n1＝(1-δ1)+iβ1的第一层材料构成且具有在使用区上根据第一层厚度分布局部改变的第一光学层厚度；以及第二层，其由具有第二复数折射率n2＝(1-δ2)+iβ2的第二层材料构成且具有在使用区上根据第二层厚度分布局部改变的第二光学层厚度，其中该第一层厚度分布与该第二层厚度分布不同。第一折射率的实部与1的偏差δ1相对于第一层材料的吸收系数β1较大，第二折射率的实部与1的偏差δ2相对于第二层材料的吸收系数β2较小。
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公开(公告)号：CN110337613B
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN201780087378.1
申请日：2017-12-20
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明关于光学配置，例如光刻系统，其包含：第一部件(19)，特别是承载框；第二部件(13)，其可相对第一部件(19)移动，特别是反射镜；以及至少一个止挡件(20)，其具有至少一个止挡面(20a、20b)用于限制第二部件(13)相对第一部件(19)的移动。在本发明一个方面中，光学配置(较佳为止挡件(20))具有用于固定第二部件(13)的固定装置(23)，其至少包含可相对止挡件(20)的止挡面(21a、21b)移动的固定元件(24)。本发明的其他方面同样关于具有固定装置或具有输送锁定件的光学配置。
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公开(公告)号：CN110249265B
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN201780084347.0
申请日：2017-12-01
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Abstract: 一种反射折射的投射镜头(PO)，用于使用具有工作波长λ＜260nm的电磁辐射将在投射镜头的物平面(OS)的有效物场(OF)中布置的掩模图案成像到在投射镜头的像平面(IS)上布置的有效像场中。投射镜头包括多个透镜和包含至少一个凹面反射镜(CM)的多个反射镜，并且透镜和反射镜限定了投射束路径，其从物平面(OS)延伸到像平面(IS)并且包含至少一个光瞳平面(P2)。反射镜包括具有第一反射镜表面(MS1)的第一反射镜(FM1)和具有第二反射镜表面(MS2)的第二反射镜(FM2)，该第一反射镜布置在物平面和在与物平面光学共轭的第一场平面的光学附近的光瞳平面(P2)之间的投射束路径中，并且该第二反射镜布置在光瞳平面(P2)和在与第一场平面光学共轭的第二场平面的光学附近的像平面之间的投射束路径中。该第一反射镜表面(MS1)和/或第二反射镜表面(MS2)设计为自由形式表面。
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公开(公告)号：CN104487899B
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201380039384.1
申请日：2013-07-16
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G02B7/1815 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B7/008 , G02B17/0657 , G02B17/0663 , G02B27/0025 , G03F7/702 , G03F7/70216 , G03F7/70266 , G03F7/706 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067
Abstract: 一种微光刻的EUV投射曝光设备的反射镜布置，包含多个反射镜，所述多个反射镜各具有在EUV光谱范围中为反射的层(32)及具有主体(34)，可对所述层施加EUV辐射。在此情况下，该多个反射镜的至少一个反射镜(32)具有包含具有负热膨胀系数的材料的至少一个层(36)。此外，还描述了一种操作反射镜布置及投射曝光设备的方法。布置至少一个热源，以便以有目标的方式局部施加热至该至少一个反射镜的具有负热膨胀系数的该至少一个层。
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公开(公告)号：CN104487899A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201380039384.1
申请日：2013-07-16
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G02B7/1815 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B7/008 , G02B17/0657 , G02B17/0663 , G02B27/0025 , G03F7/702 , G03F7/70216 , G03F7/70266 , G03F7/706 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067
Abstract: 一种微光刻的EUV投射曝光设备的反射镜布置，包含多个反射镜，所述多个反射镜各具有在EUV光谱范围中为反射的层(32)及具有主体(34)，可对所述层施加EUV辐射。在此情况下，该多个反射镜的至少一个反射镜(32)具有包含具有负热膨胀系数的材料的至少一个层(36)。此外，还描述了一种操作反射镜布置及投射曝光设备的方法。布置至少一个热源，以便以有目标的方式局部施加热至该至少一个反射镜的具有负热膨胀系数的该至少一个层。
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