利用种子层的选择性蚀刻的电路板的制造方法

    公开(公告)号:CN110494936B

    公开(公告)日:2021-10-08

    申请号:CN201880023882.X

    申请日:2018-02-20

    Abstract: 本发明涉及一种包括电极层的转印膜的制造方法。根据本发明的包括电极层的转印膜的制造方法,其特征在于包括:在载体部件上利用导电性物质形成电极层的电极层形成步骤;在绝缘树脂层的至少一面上分别配设所述载体部件的配设步骤;加压所述载体部件和所述绝缘树脂层使之接合的接合步骤;及去除载体部件以在所述绝缘树脂层上转印电极层的转印步骤。

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