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公开(公告)号：CN113439325A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202080014674.0
申请日：2020-02-14
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: H01L21/304 , C11D7/32 , C11D7/50
Abstract: 本发明提供一种清洗剂组合物，其用于去除残留于基体上的聚硅氧烷系粘接剂，所述清洗剂组合物包含氟化四(烃)铵和有机溶剂，上述有机溶剂包含亚烷基二醇二烷基醚和式(1)所示的内酰胺化合物。(式中，R101表示碳原子数1～6的烷基，R102表示碳原子数1～6的亚烷基。)
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公开(公告)号：CN113226743A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201980085649.9
申请日：2019-12-25
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: B32B27/00 , C09J11/04 , C09J183/04 , C09J183/05 , C09J183/07 , C09J201/00 , H01L21/02 , H01L21/304 , C09J7/30 , C09J7/40 , B32B7/12
Abstract: 一种能通过光照射而剥离的光照射剥离用粘接剂组合物，其包含粘接剂成分和炭黑，所述粘接剂成分包含通过氢化硅烷化反应而固化的成分(A)。
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公开(公告)号：CN111316401B
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN201880069448.5
申请日：2018-10-30
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: H01L21/304 , B32B7/023 , B32B7/06 , B32B27/00 , H01L21/02 , H01L21/683
Abstract: 本发明是在支持体与被加工物之间具有以能够剥离的方式粘接的中间层、用于通过切断等分离被加工物、或是用于进行晶片的背面研磨等加工的层叠体，该中间层至少含有与支持体侧接触的剥离层，剥离层含有能够吸收隔着支持体照射的190nm～600nm的光而改性的酚醛清漆树脂，本发明提供可以不进行机械加工就可以进行分离的材料和方法。本发明是支持体与晶片的电路面之间具有以能够剥离的方式粘接的中间层的用于晶片背面研磨的层叠体，该中间层含有与晶片一侧接触的粘接层和与支持体侧接触的剥离层，剥离层能够吸收隔着支持体照射的190nm～600nm的光而改性的酚醛清漆树脂。剥离层的透光率在190nm～600nm的范围为1～90％。光吸收改性是酚醛清漆树脂的光分解。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113439324A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202080014654.3
申请日：2020-02-14
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: H01L21/304 , C11D7/32 , C11D7/50
Abstract: 本发明提供一种清洗剂组合物，其用于去除残留于基体上的聚硅氧烷系粘接剂，所述清洗剂组合物包含氟化四(烃)铵和有机溶剂，上述有机溶剂包含式(1)所示的内酰胺化合物和含环状结构的醚化合物，所述含环状结构的醚化合物包含选自环状醚化合物、环状烷基链状烷基醚化合物、环状烷基支链状烷基醚化合物以及二(环状烷基)醚化合物中的至少一种。(式中，R101表示碳原子数1～6的烷基，R102表示碳原子数1～6的亚烷基。)
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公开(公告)号：CN113165343A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980076140.8
申请日：2019-11-18
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: B32B27/00 , C09J11/04 , C09J11/06 , C09J183/04 , C09J183/05 , C09J183/06 , C09J183/07 , C09J201/00 , H01L21/02
Abstract: 本发明涉及一种光照射剥离用粘接剂组合物，其特征在于，能通过照射光而剥离，所述光照射剥离用粘接剂组合物包含粘接剂成分(S)和光吸收性有机化合物(X)，所述光吸收性有机化合物(X)在分子内包含一个以上的芳香族环、一个以上的在环构成原子中包含杂原子的环以及从羰基和硫羰基中选出的一个以上。
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公开(公告)号：CN111758075A
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201980014513.9
申请日：2019-02-20
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题是提供形成下述抗蚀剂下层膜的组合物，上述抗蚀剂下层膜在将光致抗蚀剂组合物、不同的抗蚀剂下层膜叠层时不容易发生混合，通过提高聚合物的热回流性从而改善了烧成时对图案的填充性。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含含有结构基(C)的酚醛清漆树脂，上述结构基(C)通过包含至少2个氨基和至少3个碳原子数6～40的芳香族环的芳香族化合物(A)的芳香族环、与芳香族乙烯基化合物(B)的乙烯基反应而形成。上述结构基(C)为下述式(1)，[在式(1)中，R1为包含至少2个氨基和至少3个碳原子数6～40的芳香族环的2价基团。]。上述R1为从下述式(2)所示的化合物的芳香族环中除去2个氢原子后的2价有机基。上述R1为从N,N’‑二苯基‑1,4‑苯二胺的芳香族环中除去2个氢原子后的2价有机基。
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公开(公告)号：CN111758075B
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN201980014513.9
申请日：2019-02-20
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题是提供形成下述抗蚀剂下层膜的组合物，上述抗蚀剂下层膜在将光致抗蚀剂组合物、不同的抗蚀剂下层膜叠层时不容易发生混合，通过提高聚合物的热回流性从而改善了烧成时对图案的填充性。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含含有结构基(C)的酚醛清漆树脂，上述结构基(C)通过包含至少2个氨基和至少3个碳原子数6～40的芳香族环的芳香族化合物(A)的芳香族环、与芳香族乙烯基化合物(B)的乙烯基反应而形成。上述结构基(C)为下述式(1)，[在式(1)中，R1为包含至少2个氨基和至少3个碳原子数6～40的芳香族环的2价基团。]。上述R1为从下述式(2)所示的化合物的芳香族环中除去2个氢原子后的2价有机基。上述R1为从N,N’‑二苯基‑1,4‑苯二胺的芳香族环中除去2个氢原子后的2价有机基。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN113454759A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202080014683.X
申请日：2020-02-14
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: H01L21/304 , C11D7/32 , C11D7/50
Abstract: 本发明提供一种清洗剂组合物，其用于去除残留于基体上的聚硅氧烷系粘接剂，所述清洗剂组合物包含氟化四(烃)铵和有机溶剂，上述有机溶剂包含式(1)所示的芳香族化合物和式(2)所示的内酰胺化合物。(式中，s表示取代至苯环上的取代基R100的数量，为2或3，s个R100相互独立地表示碳原子数1～6的烷基，s个碳原子数1～6的烷基的合计碳原子数为3以上，R101表示碳原子数1～6的烷基，R102表示碳原子数1～6的亚烷基。)
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