动态随机存取存储器件中的MOS场效应晶体管及其制造方法

    公开(公告)号:CN1156906A

    公开(公告)日:1997-08-13

    申请号:CN96119247.X

    申请日:1996-10-14

    Inventor: 成田薰

    CPC classification number: H01L27/1203 H01L27/10808 H01L29/41775

    Abstract: 本发明提供一种包括下列部分的场效应晶体管。在半导体衬底上配置绝缘膜。第一和第二多晶硅膜,使第一多晶硅膜通过第二多晶硅膜连至半导体衬底的预定区域中的周边部分。选择地设置栅绝缘膜,它在半导体衬底除周边部分之外的预定区域上延伸,并在第二多晶硅膜和围绕第二多晶硅膜的那部分第一多晶硅膜上延伸。在栅绝缘膜上设置栅极,在栅绝缘膜下限定复合沟道区。在除栅绝缘膜下的部分之外的第一多晶硅膜中选择地设置源区和漏区,使源区和漏区通过复合沟道区相连。

    半导体器件
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1055566C

    公开(公告)日:2000-08-16

    申请号:CN96104324.5

    申请日:1996-01-11

    Inventor: 成田薰

    CPC classification number: H01L27/0288 H01L2924/0002 H01L2924/00

    Abstract: 在P-型半导体衬底上设置一输入端和连到输入端上的N-型扩散层的输入保护电阻。用于内部电路的第1和第2N型MOS晶体管,在各自的源扩散层上与地线相连。第1MOS晶体管比第2MOS晶体管离输入保护电阻器的距离较近。通过高熔点金属布线,例如硅化钨等等,连接第1MOS晶体管的源扩散层和地线,以便增加电阻改善静电击穿电位。因此,可能使输入保护电阻和第1MOS晶体管之间的距离较短,以便在输入保护电阻器周围消除无用区和减少芯片面积。

    数据传输装置、数据传输线和数据传输方法

    公开(公告)号:CN1938897A

    公开(公告)日:2007-03-28

    申请号:CN200580010468.8

    申请日:2005-03-29

    Inventor: 成田薰

    CPC classification number: H01P3/081

    Abstract: 本发明涉及一种数据传输装置。该数据传输装置使用传输线,该传输线包括接地导体(305)、信号导体(201)和将它们彼此绝缘的绝缘材料(3)。绝缘材料包括电介质(320),该电介质在所产生的电场和电介质极化之间呈现出非线性关系。传输线的每单位长度的有效电抗根据信号电压而改变。数据通过传输线在多个集成电路(102)之间传输,从而实现了比常规技术更高速度的数据传输。

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