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公开(公告)号:JP5609663B2
公开(公告)日:2014-10-22
申请号:JP2011007760
申请日:2011-01-18
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F1/24
CPC classification number: C23C14/50 , G03F1/24 , H01L21/67748 , H01L21/6831 , H01L21/68728 , Y10S269/90 , Y10S269/903
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公开(公告)号:JP5578167B2
公开(公告)日:2014-08-27
申请号:JP2011501619
申请日:2010-02-24
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03B20/00 , C03B8/04 , G03F1/24 , H01L21/027
CPC classification number: C03B19/1423 , C03B2201/42 , C03B2207/06 , C03B2207/20 , C03C3/06 , C03C2201/42 , C03C2203/44
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公开(公告)号:JPWO2010098352A1
公开(公告)日:2012-09-06
申请号:JP2011501619
申请日:2010-02-24
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03B20/00 , C03B8/04 , G03F1/22 , H01L21/027
CPC classification number: C03B19/1423 , C03B2201/42 , C03B2207/06 , C03B2207/20 , C03C3/06 , C03C2201/42 , C03C2203/44
Abstract: 本発明は、金属ドーパント前駆体と、SiO2前駆体と、をバーナーの火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質石英ガラス体を製造する方法であって、前記バーナーが少なくとも二つのノズルを有しており、(A)金属ドーパント前駆体ガス、(B)SiO2前駆体ガス、(C)H2およびO2のうち一方のガス、および、(D)希ガス、N2、CO2、ハロゲン化水素およびH2Oからなる群から選択される1種類以上のガス、を含有し、前記(D)のガスの割合が5〜70mol%である混合ガスと、(E)上記(C)のH2およびO2のうち他方のガスと、をバーナーの互いに異なるノズルに供給する、多孔質石英ガラス体の製造方法に関する。
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公开(公告)号:JP5391923B2
公开(公告)日:2014-01-15
申请号:JP2009189862
申请日:2009-08-19
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03B8/04 , C03B20/00 , G03F1/22 , G03F1/24 , H01L21/027
CPC classification number: C03B19/1423 , C03B2201/42
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公开(公告)号:JPWO2011068064A1
公开(公告)日:2013-04-18
申请号:JP2011544241
申请日:2010-11-24
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C3/06 , C03B20/00 , G03F1/22 , H01L21/027
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B2201/10 , C03B2201/12 , C03B2201/23 , C03B2201/28 , C03B2201/42 , C03B2201/50 , C03C2201/10 , C03C2201/20 , C03C2201/28 , C03C2201/42
Abstract: 本発明は、TiO2を5〜10質量%含有し、B2O3、P2O5およびSのうち、少なくとも一つを合計含有量で50質量ppb〜5質量%含有する、TiO2を含有するシリカガラスに関する。
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公开(公告)号:JPWO2010131662A1
公开(公告)日:2012-11-01
申请号:JP2011513350
申请日:2010-05-11
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03B19/1453 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B32/00 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/42 , C03C2203/52 , G03F1/24
Abstract: 本発明は、透明ガラス化後のTiO2−SiO2ガラス体の徐冷点をT1(℃)とするとき、透明ガラス化後のガラス体をT1−90(℃)からT1−220(℃)までの温度域に120時間以上保持する工程を含む、TiO2−SiO2ガラス体の製造方法に関する。
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