基板处理方法、基板处理液以及基板处理装置

    公开(公告)号:CN109560014B

    公开(公告)日:2023-11-07

    申请号:CN201811113448.9

    申请日:2018-09-25

    Abstract: 本发明涉及一种基板处理方法、基板处理液以及基板处理装置,所述基板处理方法为进行基板的图案形成面的干燥处理的基板处理方法,包括:供给工序,向所述基板的图案形成面供给包含熔融状态的柔粘性结晶材料的基板处理液;柔粘性结晶层形成工序,在所述图案形成面上,使所述柔粘性结晶材料变为柔粘性结晶状态来形成柔粘性结晶层;以及,除去工序,使处于所述柔粘性结晶状态的柔粘性结晶材料进行状态变化来变为气体状态而不经过液体状态,从而从所述图案形成面除去处于所述柔粘性结晶状态的柔粘性结晶材料。

    一种基板处理方法和基板处理装置

    公开(公告)号:CN116825612A

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN202310969277.4

    申请日:2018-09-21

    Abstract: 本发明提供一种基板处理方法,包括:混合液膜形成工序,向基板的表面供给混合处理液,在所述基板的表面形成所述混合处理液的液膜,所述混合处理液是将第一升华性物质和与所述第一升华性物质不同的第一添加剂混合而成的混合处理液,且该混合处理液的凝固点低于所述第一升华性物质的凝固点;凝固工序,使所述混合处理液的所述液膜凝固来形成凝固体;以及升华工序,使所述凝固体中所含的所述第一升华性物质升华以从所述基板的表面去除所述第一升华性物质。

    基板处理方法及基板处理装置

    公开(公告)号:CN110168704B

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN201780082242.1

    申请日:2017-11-10

    Abstract: 本发明提供一种能够降低基板上的图案的倒塌的基板处理方法及基板处理装置。本发明的基板处理方法的特征在于,包括:供给工序S13,向基板W的图案形成面供给包含熔融状态的升华性物质的处理液;凝固工序S14,使所述处理液在所述图案形成面上凝固而形成凝固体63;升华工序S15,使凝固体63升华而从所述图案形成面去除;以及有机物去除工序S16、S17,将在凝固体63升华时在升华界面析出的有机物去除,有机物去除工序S16、S17与升华工序S15至少一部分重叠进行。

    学习装置及方法、信息处理装置、衬底处理装置及系统、配方确定方法及计算机可读介质

    公开(公告)号:CN115859763A

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202211114852.4

    申请日:2022-09-14

    Abstract: 本发明涉及一种学习装置、信息处理装置、衬底处理装置、衬底处理系统、学习方法、配方确定方法及存储有学习程序的计算机可读介质。学习装置具备:实验数据获取部,获取衬底上形成的固体的膜厚或液体的膜厚,所述固体的膜厚或液体的膜厚是在第1条件下驱动衬底处理装置而获得的,所述衬底处理装置在执行对衬底供给液体,在衬底上形成固体膜或液体膜的一系列处理之后,从衬底去除固体膜或液体膜而使衬底干燥;以及第1学习部,使学习模型学习第1教学数据,所述第1教学数据包含表示由实验数据获取部获取的固体的膜厚或液体的膜厚的特性的膜厚特性及第1条件。

    衬底处理方法及衬底处理装置

    公开(公告)号:CN112236846A

    公开(公告)日:2021-01-15

    申请号:CN201980037650.4

    申请日:2019-06-12

    Abstract: 该衬底处理方法包括:混合升华性物质供给工序,将混合升华性物质供给到衬底的正面,该混合升华性物质是将具有升华性的第1升华性物质、具有比所述第1升华性物质低的蒸气压且具有升华性的第2升华性物质、及相对于所述第1升华性物质及所述第2升华性物质中的至少一种物质可溶的溶剂相互混合而成;凝固膜形成工序,就存在于所述衬底正面的所述混合升华性物质,形成包含所述第1升华性物质及所述第2升华性物质的凝固膜;以及升华工序,使所述凝固膜所包含的至少所述第1升华性物质升华。

    衬底处理方法及衬底处理装置

    公开(公告)号:CN111902914A

    公开(公告)日:2020-11-06

    申请号:CN201980021719.4

    申请日:2019-02-07

    Abstract: 本发明提供一种衬底处理技术,它包含在衬底的上表面形成液膜并使其良好地凝固的程序。衬底处理方法包含:气氛控制工序,对形成有图案且附着有液体的衬底的正面供给干燥气体,使衬底的正面周边成为干燥气氛;凝固对象液供给工序,对衬底的正面供给凝固对象液;及凝固工序,使凝固对象液的液膜凝固而形成凝固体。气氛控制工序开始于凝固对象液的液膜形成之前,所述凝固对象液是在凝固对象液供给工序中供给至衬底的正面。

    一种基板处理方法和基板处理装置

    公开(公告)号:CN109545655A

    公开(公告)日:2019-03-29

    申请号:CN201811110408.9

    申请日:2018-09-21

    Abstract: 本发明提供一种基板处理方法,包括:处理液膜形成工序,向基板的图案形成面供给含有升华性物质的处理液,在所述图案形成面形成处理液膜;温度保持工序,将形成于所述图案形成面的所述处理液膜的温度保持在所述升华性物质的熔点以上且小于所述升华性物质的沸点的温度范围内;薄膜化工序,在所述处理液膜的温度处于所述温度范围内的期间使所述处理液膜变薄;凝固工序,在所述温度保持工序之后,使通过所述薄膜化工序变薄的所述处理液膜在所述图案形成面上凝固而形成所述升华性物质的凝固体;以及升华工序,使所述凝固体升华而从所述图案形成面去除所述凝固体。

    基板干燥方法及基板处理装置

    公开(公告)号:CN111180360B

    公开(公告)日:2025-03-18

    申请号:CN201911095662.0

    申请日:2019-11-11

    Abstract: 向基板的上表面供给包括升华性物质和溶剂的溶液即干燥前处理液。然后,通过使溶剂从基板上的干燥前处理液蒸发,从而在基板上的干燥前处理液中析出升华性物质的固体。然后,使升华性物质的固体的至少一部分溶解于基板上的干燥前处理液。然后,通过使溶剂从溶解有升华性物质的固体的干燥前处理液蒸发,从而在基板上析出升华性物质的固体。然后,通过使升华性物质的固体升华,从而从基板的上表面除去升华性物质的固体。

    衬底处理方法及衬底处理装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119050008A

    公开(公告)日:2024-11-29

    申请号:CN202411158991.6

    申请日:2019-06-12

    Abstract: 本发明是关于一种衬底处理方法及衬底处理装置。该衬底处理方法包括:混合升华性物质供给工序,将混合升华性物质供给到衬底的正面,该混合升华性物质是将具有升华性的第1升华性物质、具有比所述第1升华性物质低的蒸气压且具有升华性的第2升华性物质、及相对于所述第1升华性物质及所述第2升华性物质中的至少一种物质可溶的溶剂相互混合而成;凝固膜形成工序,就存在于所述衬底正面的所述混合升华性物质,形成包含所述第1升华性物质及所述第2升华性物质的凝固膜;以及升华工序,使所述凝固膜所包含的至少所述第1升华性物质升华。

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