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公开(公告)号：CN110114859A
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201780080649.0
申请日：2017-11-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
Abstract: 在供第一供给液及第二供给液分别流动的第一以及第二供给液管路(412、422)设置有第一以及第二浓度测定部(415、425)。第二供给液中的气体的溶解浓度比第一供给液低。第一以及第二分支管路(51、52)的一端分别连接于第一以及第二供给液管路中比浓度测定部更靠上游侧的位置。第一以及第二分支管路的另一端连接于混合部(57)，且混合第一以及供给液来生成处理液。基于第一以及第二浓度测定部的测定值来控制第一以及第二分支管路的流量调整部(58)，以使处理液中的气体的溶解浓度成为设定值。由此，能一边防止包含因浓度测定部所引起的颗粒等的供给液，包含在供给至基板的处理液中，一边能使处理液中的气体的溶解浓度高精度地调整至设定值。
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公开(公告)号：CN109904093A
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201811469611.5
申请日：2018-11-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供从基板的上表面良好去除颗粒且使上表面良好干燥的基板处理方法和装置。该基板处理方法包括：第一处理液供给工序，向基板的上表面供给第一处理液；保持层形成工序，使所述第一处理液固化或硬化，在所述基板的上表面形成颗粒保持层；保持层去除工序，将所述颗粒保持层从基板的上表面剥离并去除；液膜形成工序，将所述颗粒保持层从所述基板上去除之后，形成第二处理液的液膜；固化工序，将所述液膜冷却至所述升华性物质的融点以下的温度，使所述液膜在所述基板上固化来形成固体膜；升华工序，使所述固体膜升华来从基板上去除。
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公开(公告)号：CN117174615A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202311140487.9
申请日：2017-11-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 在供第一供给液及第二供给液分别流动的第一以及第二供给液管路(412、422)设置有第一以及第二浓度测定部(415、425)。第二供给液中的气体的溶解浓度比第一供给液低。第一以及第二分支管路(51、52)的一端分别连接于第一以及第二供给液管路中比浓度测定部更靠上游侧的位置。第一以及第二分支管路的另一端连接于混合部(57)，且混合第一以及供给液来生成处理液。基于第一以及第二浓度测定部的测定值来控制第一以及第二分支管路的流量调整部(58)，以使处理液中的气体的溶解浓度成为设定值。由此，能一边防止包含因浓度测定部所引起的颗粒等的供给液，包含在供给至基板的处理液中，一边能使处理液中的气体的溶解浓度高精度地调整至设定值。
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公开(公告)号：CN117038434A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202311229432.5
申请日：2019-05-30
Abstract: 本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括：处理液供给工序，向具有具备凹凸的图案面的衬底的前述图案面供给处理液；处理膜形成工序，使已被供给至前述图案面的前述处理液固化或硬化，以追随该图案面的凹凸的方式形成保持存在于前述图案面上的去除对象物的处理膜；和除去工序，向前述图案面供给剥离液，将前述处理膜与前述去除对象物一同从前述图案面剥离，在维持前述去除对象物被前述处理膜保持的状态的同时将前述处理膜从前述衬底除去。
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公开(公告)号：CN116864419A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202310994427.7
申请日：2018-11-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供从基板的上表面良好去除颗粒且使上表面良好干燥的基板处理方法和装置。该基板处理方法包括：第一处理液供给工序，向基板的上表面供给第一处理液；保持层形成工序，使所述第一处理液固化或硬化，在所述基板的上表面形成颗粒保持层；保持层去除工序，将所述颗粒保持层从基板的上表面剥离并去除；液膜形成工序，将所述颗粒保持层从所述基板上去除之后，形成第二处理液的液膜；固化工序，将所述液膜冷却至所述升华性物质的融点以下的温度，使所述液膜在所述基板上固化来形成固体膜；升华工序，使所述固体膜升华来从基板上去除。
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公开(公告)号：CN107204303B
公开(公告)日：2020-08-18
申请号：CN201710112772.8
申请日：2017-02-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 一种基板处理装置，其中，第二杯檐部的内周缘与相向部件侧壁部的外周面在径向上相向。由此，能够抑制处理液向比杯部更靠上侧飞散。另外，相向部件侧壁部的外周面与第二杯檐部的内周缘之间的径向距离即第二杯部间隙距离比相向部件侧壁部的内周面与基板保持部的外周面之间的径向距离即保持间隙距离大。由此，由第二杯部接受从基板飞散的第二处理液时，能够防止或抑制第二处理液被向下的气流向下方冲走。其结果是，能够由多个杯部分类接受多种处理液。
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公开(公告)号：CN109872960A
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201811447638.4
申请日：2018-11-29
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括：第一处理液供给工序，向上述基板的上表面供给第一处理液；保持层形成工序，使上述第一处理液固化或硬化，在上述基板的上表面形成颗粒保持层；保持层去除工序，将上述颗粒保持层从上述基板的上表面剥离并去除；液膜形成工序，在将上述颗粒保持层从上述基板上除去后，形成第二处理液的液膜；气相层形成工序，在上述基板的上表面与上述液膜之间形成保持上述液膜的气相层；以及液膜排除工序，通过使上述液膜在上述气相层上移动，将上述第二处理液从上述基板的上表面排除。
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公开(公告)号：CN108206149A
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201711240829.9
申请日：2017-11-30
Applicant: 株式会社斯库林集团
CPC classification number: B08B3/02 , B01D19/0005 , B08B3/14 , B08B2203/002 , H01L21/67017 , H01L21/67023 , H01L21/67051
Abstract: 本发明提供抑制基板处理装置大型化，并且降低处理液中的去除对象气体的溶解浓度的技术。基板处理装置(100)具备多个基板处理部(20)和处理液系统(30)。基板处理部具备保持基板(W)的基板保持部(21)和向基板保持部保持的基板喷出处理液的喷出喷嘴(23)。处理液系统具备在内部贮存处理液的贮存槽(31)、与贮存槽连接并形成有使向喷出喷嘴供给的处理液通过的供给通路的供给配管部(320)、与贮存槽连接并形成有使通过了供给配管部的处理液返回贮存槽的返回通路(322P)的返回配管部(322)、向返回配管部的返回通路内供给与溶解于处理液中的氧气不同的氮气的气体供给部(60)。
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公开(公告)号：CN113632206A
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202080024060.0
申请日：2020-03-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 衬底处理方法包括下述工序：处理液供给工序，向衬底的表面供给含有溶质及溶剂的处理液；处理膜形成工序，使供给至所述衬底的表面的所述处理液固化或硬化，以在所述衬底的表面形成对存在于所述衬底的表面的除去对象物进行保持的处理膜；和除去工序，通过以液滴状态向所述衬底的表面供给除去液，以使所述除去液的液滴的物理力作用于所述处理膜及所述除去对象物，从而将所述处理膜及所述除去对象物从所述衬底的表面除去。
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