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公开(公告)号：CN110726742A
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201910510399.0
申请日：2019-06-13
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/20008 , G01T1/36 , G01N23/20
Abstract: 本发明提供一种X射线分析装置及其光轴的调整方法，能够每当进行使用分析器的测量时不进行光轴调整，缩短测量时间、降低测量成本。X射线分析装置包括：样品台，用于支持样品；N维检测器(N是整数1或2)；以及分析器，包括1或多个分析器晶体，所述N维检测器的检测面具有第一检测区域和与所述第一检测区域分离配置并且与所述第一检测区域区分检测的第二检测区域，所述样品产生的衍射X射线所行进的多条光路包括直接到达所述第一检测区域的第一光路和经由所述1或多个分析器晶体而到达的第二光路，所述N维检测器根据所述第一检测区域的X射线检测进行所述第一光路的测量，根据所述第二检测区域的X射线检测进行所述第二光路的测量。
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公开(公告)号：CN112711058B
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202011128545.2
申请日：2020-10-20
Applicant: 株式会社理学
Abstract: 本发明提供处理装置、系统、X射线测定方法以及记录介质，对用现有的方法不能覆盖的高的计数率也能削减计数遗漏的影响。具备：存储部(220)，其通过光子计数型的半导体检测器对入射X射线的脉冲信号进行计数，并存储读出的输出值；和算出部(230)，其基于读出输出值来算出计数值，算出部(230)使用相对于针对曝光的脉冲检测率的增加而脉冲信号的表观的时间常数单调减少的模型。在这样的模型中，不管多高的计数率都能得到对应的表观的时间常数。其结果，对用现有的方法不能覆盖的高的计数率也能削减计数遗漏的影响。
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公开(公告)号：CN110726742B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN201910510399.0
申请日：2019-06-13
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/20008 , G01T1/36 , G01N23/20
Abstract: 本发明提供一种X射线分析装置及其光轴的调整方法，能够每当进行使用分析器的测量时不进行光轴调整，缩短测量时间、降低测量成本。X射线分析装置包括：样品台，用于支持样品；N维检测器(N是整数1或2)；以及分析器，包括1或多个分析器晶体，所述N维检测器的检测面具有第一检测区域和与所述第一检测区域分离配置并且与所述第一检测区域区分检测的第二检测区域，所述样品产生的衍射X射线所行进的多条光路包括直接到达所述第一检测区域的第一光路和经由所述1或多个分析器晶体而到达的第二光路，所述N维检测器根据所述第一检测区域的X射线检测进行所述第一光路的测量，根据所述第二检测区域的X射线检测进行所述第二光路的测量。
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公开(公告)号：CN119278377A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202380025862.7
申请日：2023-03-06
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/207 , G01N23/2055
Abstract: 峰二维检测数据提取部(211)从在多个扫描角度2θ/θ得到的衍射X射线(Xb)的二维检测数据中提取X射线强度最大的衍射X射线(Xb)的二维检测数据(峰二维检测数据)。接下来，峰位置确定部(212)根据峰二维检测数据确定X射线强度最大的位置(峰位置)。然后，利用关于峰二维检测数据确定的峰位置的位置信息执行数据处理。
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公开(公告)号：CN109709118B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN201811238458.5
申请日：2018-10-23
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/207 , G01N23/20008
Abstract: 本发明提供一种索勒狭缝、X射线衍射装置以及方法，即便在基于GIXD的测定中X射线照射区域在试料表面上展宽，检测器上的衍射像在面内方向也不会展宽，能够以短的测定时间且高的分辨率来进行测定。索勒狭缝(100)具备多个金属制的薄板(110)，所述多个金属制的薄板(110)各自相对于底面垂直，相互隔开规定的角度间隔被排列为拱形，使得从特定的焦点向放射方向通过X射线，该索勒狭缝(100)被设置于以掠入射X射线衍射用的角度被照射至试料并在试料面上被衍射的X射线以测角器圆的中心为特定的焦点来通过的位置而被使用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112986291A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202011435523.0
申请日：2020-12-10
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/20016 , G01N23/20025
Abstract: 本发明提供一种控制装置、系统、方法以及程序，有效利用衍射计的测角器所具备的轴，即便不具有特别的轴结构，也能够进行伴随轴的精密的入射角度的控制。控制装置对试样的姿势进行控制，其具备：输入部，接受表示试样相对于轴的倾斜的倾斜信息的输入；调整量决定部，使用倾斜信息，决定用于相对于变化的值来对试样面法线或者晶格面法线与散射矢量的偏离量进行修正的ω值以及χ值的调整量；和驱动指示部，在X射线衍射测定时，基于所决定的ω值以及χ值的调整量，与试样的轴旋转相应地驱动测角器。这样，能够将消除不受轴的旋转的影响的试样的倾斜角度的调整角度，变换为独立于轴旋转的ω值以及χ值的调整量。
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公开(公告)号：CN109709118A
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201811238458.5
申请日：2018-10-23
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/20 , G01N23/20008
CPC classification number: G21K1/06 , G01N23/20016 , G01N23/207 , G21K1/025
Abstract: 本发明提供一种索勒狭缝、X射线衍射装置以及方法，即便在基于GIXD的测定中X射线照射区域在试料表面上展宽，检测器上的衍射像在面内方向也不会展宽，能够以短的测定时间且高的分辨率来进行测定。索勒狭缝(100)具备多个金属制的薄板(110)，所述多个金属制的薄板(110)各自相对于底面垂直，相互隔开规定的角度间隔被排列为拱形，使得从特定的焦点向放射方向通过X射线，该索勒狭缝(100)被设置于以掠入射X射线衍射用的角度被照射至试料并在试料面上被衍射的X射线以测角器圆的中心为特定的焦点来通过的位置而被使用。
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公开(公告)号：CN105593670A
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201480052656.6
申请日：2014-01-27
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/207
CPC classification number: G01N23/207 , G01N2223/3301
Abstract: 不使用后级受光狭缝就能够变更测定分辨率，并且对于在使用后级受光狭缝的情况下无法实现的测定分辨率的变更也能够灵活地应对。本发明的X射线衍射装置对试样台(7)上的试样(S)照射由X射线源产生的X射线，利用检测器(15)来检测在该试样(S)处衍射后的X射线，具备虚拟掩模设定部(26)和信号处理部(21)。检测器(15)按形成检测面(17)的多个检测元件(16)的每个检测元件(16)，输出与由检测元件(16)接收到的X射线的强度相应的检测信号。虚拟掩模设定部(26)对检测器(15)的检测面(17)设定虚拟掩模(31)，并且至少能够设定虚拟掩模的开口尺寸来作为虚拟掩模(31)的开口条件，其中，该虚拟掩模的开口尺寸是在X方向和Y方向上独立地设定的。信号处理部(21)根据由虚拟掩模设定部(26)设定的虚拟掩模的开口条件对从检测器(15)输出的检测信号进行处理。
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公开(公告)号：CN112711058A
公开(公告)日：2021-04-27
申请号：CN202011128545.2
申请日：2020-10-20
Applicant: 株式会社理学
Abstract: 本发明提供处理装置、系统、X射线测定方法以及记录介质，对用现有的方法不能覆盖的高的计数率也能削减计数遗漏的影响。具备：存储部(220)，其通过光子计数型的半导体检测器对入射X射线的脉冲信号进行计数，并存储读出的输出值；和算出部(230)，其基于读出输出值来算出计数值，算出部(230)使用相对于针对曝光的脉冲检测率的增加而脉冲信号的表观的时间常数单调减少的模型。在这样的模型中，不管多高的计数率都能得到对应的表观的时间常数。其结果，对用现有的方法不能覆盖的高的计数率也能削减计数遗漏的影响。
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公开(公告)号：CN105593670B
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201480052656.6
申请日：2014-01-27
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/207
CPC classification number: G01N23/207 , G01N2223/3301
Abstract: 不使用后级受光狭缝就能够变更测定分辨率，并且对于在使用后级受光狭缝的情况下无法实现的测定分辨率的变更也能够灵活地应对。本发明的X射线衍射装置对试样台(7)上的试样(S)照射由X射线源产生的X射线，利用检测器(15)来检测在该试样(S)处衍射后的X射线，具备虚拟掩模设定部(26)和信号处理部(21)。检测器(15)按形成检测面(17)的多个检测元件(16)的每个检测元件(16)，输出与由检测元件(16)接收到的X射线的强度相应的检测信号。虚拟掩模设定部(26)对检测器(15)的检测面(17)设定虚拟掩模(31)，并且至少能够设定虚拟掩模的开口尺寸来作为虚拟掩模(31)的开口条件，其中，该虚拟掩模的开口尺寸是在X方向和Y方向上独立地设定的。信号处理部(21)根据由虚拟掩模设定部(26)设定的虚拟掩模的开口条件对从检测器(15)输出的检测信号进行处理。
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