公开(公告)号：CN109196340A

公开(公告)日：2019-01-11

申请号：CN201780028012.7

申请日：2017-08-31

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 加藤秀一 ,  片冈由行 ,  藤村一 ,  山田隆

IPC: G01N23/223 ,  G01N23/207

Abstract: 本发明的波长分散型荧光X射线分析装置包括：位置敏感型检测器(10)，该位置敏感型检测器(10)通过对应的检测元件(7)，检测不同的分光角度的二次X射线(41)的各强度；测定波谱显示机构(14)，该测定波谱显示机构(14)将检测元件(7)的排列方向的位置和检测元件的检测强度的关系作为测定波谱而显示于显示器(15)中；检测区域设定机构(16)，该检测区域设定机构(16)设定峰值区域和本底区域；定量机构(17)，该定量机构(17)根据峰值区域的峰值强度、本底区域的本底强度与本底补偿系数，计算作为净强度的测定对象的荧光X射线的强度，进行定量分析。

公开(公告)号：CN109196340B

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN201780028012.7

申请日：2017-08-31

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 加藤秀一 ,  片冈由行 ,  藤村一 ,  山田隆

IPC: G01N23/223 ,  G01N23/207

Abstract: 本发明的波长分散型荧光X射线分析装置包括：位置敏感型检测器(10)，该位置敏感型检测器(10)通过对应的检测元件(7)，检测不同的分光角度的二次X射线(41)的各强度；测定波谱显示机构(14)，该测定波谱显示机构(14)将检测元件(7)的排列方向的位置和检测元件的检测强度的关系作为测定波谱而显示于显示器(15)中；检测区域设定机构(16)，该检测区域设定机构(16)设定峰值区域和本底区域；定量机构(17)，该定量机构(17)根据峰值区域的峰值强度、本底区域的本底强度与本底补偿系数，计算作为净强度的测定对象的荧光X射线的强度，进行定量分析。

公开(公告)号：CN116868048B

公开(公告)日：2024-10-11

申请号：CN202180076558.6

申请日：2021-11-01

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 神户亮 ,  表和彦 ,  樋口稔文 ,  多田勉 ,  藤村一 ,  野野口雅弘 ,  姜立财 ,  鲍里斯·韦尔曼 ,  尤里·普拉托诺夫

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明的课题在于提供一种分析灵敏度高且分析速度快的全反射荧光X射线分析装置。本发明的全反射荧光X射线分析装置具有：X射线源，其具有电子束焦点，该电子束焦点的与试样表面平行且与X射线照射方向正交的方向的有效宽度大于所述照射方向的尺寸；分光元件，其所述正交的方向的有效宽度大于电子束焦点，且具有沿所述照射方向弯曲的面；及检测器，其沿所述正交的方向排列多个而配置，测量自照射有利用所述分光元件所集光的所述X射线的所述试样产生的荧光X射线的强度。

公开(公告)号：CN116868048A

公开(公告)日：2023-10-10

申请号：CN202180076558.6

申请日：2021-11-01

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 神户亮 ,  表和彦 ,  樋口稔文 ,  多田勉 ,  藤村一 ,  野野口雅弘 ,  姜立财 ,  鲍里斯·韦尔曼 ,  尤里·普拉托诺夫

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明的课题在于提供一种分析灵敏度高且分析速度快的全反射荧光X射线分析装置。本发明的全反射荧光X射线分析装置具有：X射线源，其具有电子束焦点，该电子束焦点的与试样表面平行且与X射线照射方向正交的方向的有效宽度大于所述照射方向的尺寸；分光元件，其所述正交的方向的有效宽度大于电子束焦点，且具有沿所述照射方向弯曲的面；及检测器，其沿所述正交的方向排列多个而配置，测量自照射有利用所述分光元件所集光的所述X射线的所述试样产生的荧光X射线的强度。