公开(公告)号：CN1755934A

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN200510082800.3

申请日：2005-07-07

Applicant: 株式会社瑞萨科技

Inventor： 伊藤文俊 ,  川岛祥之 ,  坂井健志 ,  石井泰之 ,  金丸恭弘 ,  桥本孝司 ,  水野真 ,  奥山幸祐 ,  真边由起子

IPC: H01L27/115 ,  G11C16/02

CPC classification number: H01L27/11568 ,  G11C16/0466 ,  H01L21/28282 ,  H01L27/115 ,  H01L29/42344 ,  H01L29/66833 ,  H01L29/792

Abstract: 提高了具有非易失性存储单元的半导体器件的集成度和重写次数。第一MONOS型非易失性存储元件和第二MONOS型非易失性存储元件一起安装在同一衬底上，其中第二MONOS型非易失性存储元件具有比第一MONOS型非易失性存储元件更大的栅极宽度，并且第一MONOS型非易失性存储元件用于存储几乎不重写的程序数据，以及第二MONOS型非易失性存储元件用于存储频繁重写的处理数据。

公开(公告)号：CN1716572A

公开(公告)日：2006-01-04

申请号：CN200510077445.0

申请日：2005-06-21

Applicant: 株式会社瑞萨科技

Inventor： 坂井健志 ,  石井泰之 ,  冈崎勉 ,  中道胜 ,  松井俊一 ,  新田恭也 ,  町田悟 ,  中川宗克 ,  塚田祐一

IPC: H01L21/8239 ,  H01L21/336 ,  H01L27/105 ,  H01L29/788

CPC classification number: H01L27/11568 ,  H01L21/823842 ,  H01L21/82385 ,  H01L21/823857 ,  H01L21/823864 ,  H01L27/105 ,  H01L27/1052 ,  H01L27/11573

Abstract: 本发明能够增强具有MONOS型晶体管的非易失性半导体存储器件的高性能。具有改进性能的该具有MONOS型晶体管的非易失性半导体存储器件，其中，MONOS型非易失性存储器的存储单元包括控制晶体管和存储晶体管，控制晶体管的控制栅包括n型多晶硅膜并且该控制栅形成在包括氧化硅膜的栅绝缘膜上方，存储晶体管的存储栅包括n型多晶硅膜并且该存储栅布置到控制栅的侧壁之一，该存储栅包括掺杂的多晶硅膜，其薄层电阻比控制栅的薄层电阻低，该控制栅包括通过将杂质离子植入到未掺杂硅膜中而形成的多晶硅膜。

公开(公告)号：CN100456452C

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200510077445.0

申请日：2005-06-21

Applicant: 株式会社瑞萨科技

Inventor： 坂井健志 ,  石井泰之 ,  冈崎勉 ,  中道胜 ,  松井俊一 ,  新田恭也 ,  町田悟 ,  中川宗克 ,  塚田祐一

IPC: H01L21/8239 ,  H01L21/336 ,  H01L27/105 ,  H01L29/788

CPC classification number: H01L27/11568 ,  H01L21/823842 ,  H01L21/82385 ,  H01L21/823857 ,  H01L21/823864 ,  H01L27/105 ,  H01L27/1052 ,  H01L27/11573

Abstract: 本发明能够增强具有MONOS型晶体管的非易失性半导体存储器件的高性能。具有改进性能的该具有MONOS型晶体管的非易失性半导体存储器件，其中，MONOS型非易失性存储器的存储单元包括控制晶体管和存储晶体管，控制晶体管的控制栅包括n型多晶硅膜并且该控制栅形成在包括氧化硅膜的栅绝缘膜上方，存储晶体管的存储栅包括n型多晶硅膜并且该存储栅布置到控制栅的侧壁之一，该存储栅包括掺杂的多晶硅膜，其薄层电阻比控制栅的薄层电阻低，该控制栅包括通过将杂质离子植入到未掺杂硅膜中而形成的多晶硅膜。

公开(公告)号：CN100447988C

公开(公告)日：2008-12-31

申请号：CN200410031907.0

申请日：2004-03-31

Applicant: 株式会社瑞萨科技

Inventor： 川嶋祥之 ,  伊藤文俊 ,  坂井健志 ,  石井泰之 ,  金丸恭弘 ,  桥本孝司 ,  水野真 ,  奥山幸祐

IPC: H01L21/8247 ,  H01L27/115 ,  H01L29/78

CPC classification number: H01L29/66825 ,  H01L21/28273 ,  H01L21/28282 ,  H01L29/42324 ,  H01L29/66833

Abstract: 本发明提供了一种具有改善电学特性的半导体器件，该器件具有使用分裂-栅型存储单元结构的非易失存储器并且使用氮化物薄膜作为电荷存储层。在半导体衬底的主表面中形成n型半导体区，然后在半导体区上方形成分裂-栅型存储单元的存储栅电极和电荷存储层。随后，在存储器栅电极的侧表面上形成侧壁，并且在半导体衬底的主表面上方形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案被用作蚀刻掩模，并且通过蚀刻除去半导体衬底主表面的一部分，从而形成凹槽。在形成凹槽的区域中，除去n型半导体区。然后，在用于形成凹槽的区域中形成用于形成选择存储单元的nMIS晶体管沟道的p型半导体区。

公开(公告)号：CN100552957C

公开(公告)日：2009-10-21

申请号：CN200510082800.3

申请日：2005-07-07

Applicant: 株式会社瑞萨科技

Inventor： 伊藤文俊 ,  川岛祥之 ,  坂井健志 ,  石井泰之 ,  金丸恭弘 ,  桥本孝司 ,  水野真 ,  奥山幸祐 ,  真边由起子

IPC: H01L27/115 ,  G11C16/02

CPC classification number: H01L27/11568 ,  G11C16/0466 ,  H01L21/28282 ,  H01L27/115 ,  H01L29/42344 ,  H01L29/66833 ,  H01L29/792

Abstract: 提高了具有非易失性存储单元的半导体器件的集成度和重写次数。第一MONOS型非易失性存储元件和第二MONOS型非易失性存储元件一起安装在同一衬底上，其中第二MONOS型非易失性存储元件具有比第一MONOS型非易失性存储元件更大的栅极宽度，并且第一MONOS型非易失性存储元件用于存储几乎不重写的程序数据，以及第二MONOS型非易失性存储元件用于存储频繁重写的处理数据。

公开(公告)号：CN1534768A

公开(公告)日：2004-10-06

申请号：CN200410031907.0

申请日：2004-03-31

Applicant: 株式会社瑞萨科技

Inventor： 川嶋祥之 ,  伊藤文俊 ,  坂井健志 ,  石井泰之 ,  金丸恭弘 ,  桥本孝司 ,  水野真 ,  奥山幸祐

IPC: H01L21/8247 ,  H01L27/115 ,  H01L29/78

CPC classification number: H01L29/66825 ,  H01L21/28273 ,  H01L21/28282 ,  H01L29/42324 ,  H01L29/66833

Abstract: 本发明提供了一种具有改善电学特性的半导体器件，该器件具有使用分裂－栅型存储单元结构的非易失存储器并且使用氮化物薄膜作为电荷存储层。在半导体衬底的主表面中形成n型半导体区，然后在半导体区上方形成分裂－栅型存储单元的存储栅电极和电荷存储层。随后，在存储器栅电极的侧表面上形成侧壁，并且在半导体衬底的主表面上方形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案被用作蚀刻掩模，并且通过蚀刻除去半导体衬底主表面的一部分，从而形成凹槽。在形成凹槽的区域中，除去n型半导体区。然后，在用于形成凹槽的区域中形成用于形成选择存储单元的nMIS晶体管沟道的p型半导体区。