曝光装置及曝光方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105739246A

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201510673307.2

    申请日:2015-10-16

    Abstract: 本发明组合光曝光技术及带电粒子束曝光技术而形成复杂且微细的图案。本发明提供一种曝光装置及曝光方法,该曝光装置对与试样上的线图对应的位置照射带电粒子束,且具备:射束产生部,在线图的宽度方向上产生照射位置不同的多个带电粒子束;扫描控制部,使多个带电粒子束的照射位置沿着线图的长度方向扫描;选择部,在线图上的长度方向的被指定的照射位置选择多个带电粒子束中的至少一个带电粒子束,使其应照射至所述试样;以及照射控制部,控制将所选择的至少一个带电粒子束照射至试样。

    三维积层造形装置及积层造形方法

    公开(公告)号:CN109676132B

    公开(公告)日:2021-11-23

    申请号:CN201810893355.6

    申请日:2018-08-07

    Abstract: 本发明提供一种一面由装置本身决定用来将粉末层确实地熔融结合的照射条件,一面进行电子束(EB)照射的三维积层造形装置及积层造形方法。本发明所提供的三维积层造形装置(100)具有:柱部(200),输出电子束(EB),使电子束(EB)朝粉末层(32)的表面内方向偏向;绝缘部,使三维构造物(36)与接地部件电绝缘;电流计(73),测定经由三维构造物(36)流向接地部件的电流值;熔融判断部(410),基于电流计(73)所测定的电流值来检测粉末层(32)的熔融,产生熔融信号;以及偏向控制部(420),接收熔融信号,决定电子束的照射条件。

    三维积层造形装置及积层造形方法

    公开(公告)号:CN110382139A

    公开(公告)日:2019-10-25

    申请号:CN201780087837.6

    申请日:2017-04-11

    Abstract: 本发明提供一种将包括曲线的截面层进行积层而造形三维构造物的三维积层造形装置。本发明提供一种三维积层造形装置100,其具备:决定部116,接收关于三维构造物66的截面形状的造形数据,而决定沿着连续曲线的第1光束及第2光束的照射位置、光束形状及照射时间的数据;存储部118,存储决定部116所决定的数据;及偏向控制单元150,基于照射时间数据而产生的时序将照射位置数据输出至偏向器50;及变形元件控制单元130,将光束形状数据输出至变形元件30。由此,三维积层造形装置100通过一面沿着连续曲线照射第1光束及第2光束一面使粉末层熔融凝固,而将包括曲线的截面层进行积层来造形三维构造物。

    元件、曝光装置、及制造方法

    公开(公告)号:CN106098516A

    公开(公告)日:2016-11-09

    申请号:CN201610235948.4

    申请日:2016-04-15

    Abstract: 本发明实现一种多射束形成元件,其利用互补光刻法,能稳定地加工微细的线图案。本发明提供一种元件及应用这种元件的曝光装置,该元件是使射束成形并偏向的元件,具备:孔径层,具有使从元件的第1面侧入射的射束成形并通过的第1开孔;及偏向层,使通过孔径层的射束通过并偏向;且偏向层具有:第1电极部,具有与对应于第1开孔的偏向层内的射束通过空间相对的第1电极;及第2电极部,具有在偏向层内独立于相邻层并朝向射束通过空间延伸的延伸部、及在端部隔着射束通过空间而与第1电极对向的第2电极。

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