公开(公告)号：TWI390365B

公开(公告)日：2013-03-21

申请号：TW097107360

申请日：2008-03-03

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 艾力克斯 烏得舒恩 ,  OUDSHOORN, ALEX ,  羅蘭 布拉克 ,  BLOK, ROLAND ,  艾瑞克 羅勒夫 洛卜史塔 ,  LOOPSTRA, ERIK ROELOF ,  李昂 馬汀 李維榭 ,  LEVASIER, LEON MARTIN

IPC: G03F9/02 ,  G03F7/207

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7034

公开(公告)号：TW201643559A

公开(公告)日：2016-12-16

申请号：TW105111539

申请日：2016-04-13

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 克佛耶茲 安卓尼斯 亨瑞克 ,  KOEVOETS, ADRIANUS HENDRIK ,  勒馬克 艾立可 喬漢 ,  ARLEMARK, ERIK JOHAN ,  德可 山多 卡特琳娜 雷納 ,  DERKS, SANDER CATHARINA REINIER ,  唐德斯 史喬德 尼可拉斯 蘭伯特 ,  DONDERS, SJOERD NICOLAAS LAMBERTUS ,  艾登迪傑克 沃佛瑞德 愛德華 ,  ENDENDIJK, WILFRED EDWARD ,  簡森 法蘭西瑟斯 喬漢那斯 約瑟夫 ,  JANSSEN, FRANCISCUS JOHANNES JOSEPH ,  拉法瑞 雷孟德 威黑墨斯 路易斯 ,  LAFARRE, RAYMOND WILHELMUS LOUIS ,  李維榭 李昂 馬汀 ,  LEVASIER, LEON MARTIN ,  奧維卡皮 金 文森 ,  OVERKAMP, JIM VINCENT ,  添 凱特 尼可拉斯 ,  TEN KATE, NICOLAAS ,  凡 迪 沙登 賈寇柏 卡理尼司 賈拉度司 ,  VAN DER SANDEN, JACOBUS CORNELIS GERARDUS

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70875 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70783 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/683

Abstract: 一種微影裝置，其包含一投影系統，該投影系統經組態以投影一經圖案化輻射光束以在固持於一基板台上之一基板上形成一曝光區域，該微影裝置進一步包含用於冷卻該基板之一冷卻裝置，其中該冷卻裝置包含位於該基板台上方且鄰近於該曝光區域之一冷卻元件，該冷卻元件經組態以自該基板移除熱。

Abstract in simplified Chinese: 一种微影设备，其包含一投影系统，该投影系统经组态以投影一经图案化辐射光束以在固持于一基板台上之一基板上形成一曝光区域，该微影设备进一步包含用于冷却该基板之一冷却设备，其中该冷却设备包含位于该基板台上方且邻近于该曝光区域之一冷却组件，该冷却组件经组态以自该基板移除热。

公开(公告)号：TW201546568A

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：TW104113094

申请日：2015-04-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 貝瑞登森 克里斯提耶納斯 威爾漢瑪斯 裘漢斯 ,  BERENDSEN, CHRISTIANUS WILHELMUS JOHANNES ,  麥卡爾斯 麥塞爾 ,  BECKERS, MARCEL ,  卡泰恩司 亨利克斯 裘塞夫 ,  CASTELIJNS, HENRICUS JOZEF ,  葛雷茲 荷伯特斯 安東尼斯 ,  GERAETS, HUBERTUS ANTONIUS ,  克佛耶茲 安卓尼斯 亨瑞克 ,  KOEVOETS, ADRIANUS HENDRIK ,  李維榭 李昂 馬汀 ,  LEVASIER, LEON MARTIN ,  史洽普 彼得 ,  SCHAAP, PETER ,  史崔弗科 包伯 ,  STREEFKERK, BOB ,  特洛普 塞弗烈德 亞歷山德 ,  TROMP, SIEGFRIED ALEXANDER

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70883 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70941

Abstract: 一種用於補償包含一基板台之一微影裝置之一曝光程序中之一曝光誤差的方法，該方法包含：獲得指示到達基板位階之IR輻射之一劑量之一劑量量測，其中該劑量量測可用以計算由該微影裝置中之一物件在一曝光程序期間吸收之IR輻射之一量；及使用該劑量量測以控制該曝光程序，以便補償與由該物件在該曝光程序期間吸收之該IR輻射相關聯的一曝光誤差。

Abstract in simplified Chinese: 一种用于补偿包含一基板台之一微影设备之一曝光进程中之一曝光误差的方法，该方法包含：获得指示到达基板位阶之IR辐射之一剂量之一剂量量测，其中该剂量量测可用以计算由该微影设备中之一对象在一曝光进程期间吸收之IR辐射之一量；及使用该剂量量测以控制该曝光进程，以便补偿与由该对象在该曝光进程期间吸收之该IR辐射相关联的一曝光误差。

公开(公告)号：TWI663481B

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：TW104113094

申请日：2015-04-23

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 貝瑞登森 克里斯提耶納斯 威爾漢瑪斯 裘漢斯 ,  BERENDSEN, CHRISTIANUS WILHELMUS JOHANNES ,  麥卡爾斯 麥塞爾 ,  BECKERS, MARCEL ,  卡泰恩司 亨利克斯 裘塞夫 ,  CASTELIJNS, HENRICUS JOZEF ,  葛雷茲 荷伯特斯 安東尼斯 ,  GERAETS, HUBERTUS ANTONIUS ,  克佛耶茲 安卓尼斯 亨瑞克 ,  KOEVOETS, ADRIANUS HENDRIK ,  李維榭 李昂 馬汀 ,  LEVASIER, LEON MARTIN ,  史洽普 彼得 ,  SCHAAP, PETER ,  史崔弗科 包伯 ,  STREEFKERK, BOB ,  特洛普 塞弗烈德 亞歷山德 ,  TROMP, SIEGFRIED ALEXANDER

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：TW201833791A

公开(公告)日：2018-09-16

申请号：TW107101941

申请日：2018-01-19

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 舒密特-韋佛 艾密爾 彼得 ,  SCHMITT-WEAVER, EMIL PETER ,  巴塔哈爾亞 卡司徒夫 ,  BHATTACHARYYA, KAUSTUVE ,  泰爾 溫 提波 ,  TEL, WIM TJIBBO ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  李維榭 李昂 馬汀 ,  LEVASIER, LEON MARTIN

IPC: G06F17/18 ,  G03F9/00

Abstract: 本發明揭示一種用於監測一微影程序之方法及關聯微影設備。該方法包含：獲得與由一基板支撐件支撐之一基板相關之高度變化資料，且經由該高度變化資料而擬合一回歸，該回歸近似該基板之形狀；判定該高度變化資料與該回歸之間的殘餘資料；及監測該殘餘資料隨著時間推移之變化。可基於該基板支撐件之已知特徵而解迴旋該殘餘資料。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于监测一微影进程之方法及关联微影设备。该方法包含：获得与由一基板支撑件支撑之一基板相关之高度变化数据，且经由该高度变化数据而拟合一回归，该回归近似该基板之形状；判定该高度变化数据与该回归之间的残余数据；及监测该残余数据随着时间推移之变化。可基于该基板支撑件之已知特征而解回旋该残余数据。