公开(公告)号：KR102020804B1

公开(公告)日：2019-09-11

申请号：KR1020180141837

申请日：2018-11-16

Applicant: 국민대학교산학협력단 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 한동국 ,  심보연 ,  김종성 ,  홍석희 ,  김한빛

IPC: H04L9/00 ,  H04L9/06

公开(公告)号：KR1020170025523A

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：KR1020150122061

申请日：2015-08-28

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 홍석희 ,  김한빛 ,  김희석

IPC: H04L9/06 ,  H04L9/00 ,  H04L9/08

Abstract: 본발명은마스킹및 셔플링이적용된 LEA를이용한암호화방법에관한것으로, LEA 암호화알고리즘의라운드함수에있어서 4개의난수를생성하고, 4개의라운드상태값에상기각각의난수를적용하여불 마스킹을수행하는단계와, 상기 4개의난수를이용하여불 마스킹을적용한라운드키와상기불 마스킹이적용된라운드상태값을배타연산(XOR)하고상기배타연산결과값을불 마스킹에서산술마스킹으로변환하는단계와, 산술마스킹으로변환된상기 6개의배타연산결과값중 근접한 2개의배타연산결과값들간에덧셈연산을수행하고상기덧셈연산결과값을산술마스킹에서불 마스킹으로변환하는단계및 불마스킹으로변환된상기덧셈연산결과값에다음라운드의마스킹값인리마스크함수를이용하여보정하고상기보정된덧셈연산의결과값을쉬프트시켜다음라운드상태값에저장하는단계를포함하여구성된다.

公开(公告)号：KR101524661B1

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：KR1020140040091

申请日：2014-04-03

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 홍석희 ,  조성민 ,  곽승규 ,  김한빛

IPC: G06F7/52 ,  H04L9/28

CPC classification number: H04L9/3066

Abstract: 본발명은 {2,3,5} 트리플-베이스체인(Triple-Base Chain) 기반타원곡선스칼라곱셈을위한연산장치및 방법에관한것으로, 본발명에따른타원곡선스칼라곱셈을위한연산방법은스칼라곱셈연산식내에존재하는중복연산을활용할수 있는연산에대해서선 계산된연산을활용하여다른연산식으로대체하고, 중복연산을이용하여밑수(Base)의연산순서를재배치(reordering)함으로써타원곡선스칼라곱셈의고속화방법을제안한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种基于重新排序的{2,3,5}基于三基链的椭圆曲线标量乘法的计算装置和方法。 根据本发明，计算方法提出了一种加速椭圆曲线标量乘法的方法，通过利用预先计算的操作替换可以利用标量乘法运算中的重叠运算的操作与另一操作，并重新排序 通过使用重叠操作操作基地。

公开(公告)号：KR101527396B1

公开(公告)日：2015-06-09

申请号：KR1020140070028

申请日：2014-06-10

Applicant: 서울대학교산학협력단 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 전헌수 ,  정현호 ,  김한빛 ,  이규백 ,  이동현

IPC: G03H1/08 ,  B82Y20/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 본발명은대면적에효율적으로나노스케일의패턴을형성할수 있는레이저홀로그래픽리소그래피장치및 이를이용한점진적으로크기가변화하는나노패턴의제조방법을위하여, 레이저광원, 상기레이저광원으로부터조사된레이저빔의노이즈를제거하고동시에빔 사이즈를확장시키는공간필터, 상기공간필터로부터확장된레이저빔이조사될수 있으며, 웨이퍼홀더및 반사거울이부가된, 웨이퍼스테이지및 상기웨이퍼홀더상에위치하며, 상기공간필터로부터바로입사되는제 1 평행광및 상기반사거울에의하여입사하는제 2 평행광이입사될수 있는, 가변밀도필터를포함하는, 레이저홀로그래픽리소그래피장치를제공한다.

Abstract translation: 对于激光全息光刻设备和使用其的尺寸梯度纳米图案的制造方法，激光全息光刻设备包括激光束源，空间滤光器，其消除从激光束源发射的激光束的噪声并且扩展 光束尺寸同时可以从空间滤光片发射扩展的激光束并且具有晶片保持器和后反射镜的晶片台和位于晶片保持器上的可变浓度滤光器，并且透射发射的第一平行射线 从空间滤光器和从后视镜发射的第二平行光线。

公开(公告)号：KR101753355B1

公开(公告)日：2017-07-06

申请号：KR1020160092245

申请日：2016-07-20

Applicant: 서울대학교산학협력단 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 전헌수 ,  김한빛 ,  정현호 ,  이규백

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70408 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70716

Abstract: 본발명은레이저홀로그래픽리소그래피장치및 그를사용한패턴제조방법에관한것으로서, 보다상세하게는, 본발명에의한레이저홀로그래픽리소그래피장치및 그를이용한패턴제조방법에의하면오목거울을구비함으로써점진적으로주기가변하는회절격자패턴구조를제조할수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种图形光刻设备和用于制造图案与他单独激光器，更具体地，根据本发明单独使用的激光，根据该图形光刻设备以及用于制造使用相同的图案的方法而变化逐步周期的方法作为由具有凹面镜衍射 可以制造网格图案结构。