양면 연성 구리박막 적층필름의 제조방법 및 그로부터 제조되는 서브트랙티브 공정용 양면 연성 구리박막 적층필름
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:KR1020160096738A

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:KR1020150017736

    申请日:2015-02-05

    CPC classification number: B32B15/08 B32B15/20 H05K9/0088

    Abstract: 본발명에서는기재필름의제1면에전자파차폐용구리박막필름이적층되고, 제2면에회로형성용구리박막필름이적층된서브트랙티브공정용양면연성구리박막적층필름의제조방법으로서, 기재필름의제1면에플라즈마처리를수행하는제1단계; 상기플라즈마처리된제1면상에 Ni/Cr-타이층과 Cu-시드층을순차적으로적층하는제2단계; 상기기재필름의제2면에플라즈마처리를수행하는제3단계; 상기플라즈마처리된제2면상에 Ni/Cr-타이층과 Cu-시드층을순차적으로적층하는제4단계; 및상기제1면과제2면의 Cu-시드층상에전착을수행하여도금층을형성하는제5단계;를포함하는양면연성구리박막적층필름의제조방법을제공한다. 본발명의제조방법에따르면, 회로형성면의핀홀개수가가로 156mm×세로 300mm인면을기준으로 20개이하이고; 전자파차폐면의박리강도가 0.30kg/cm 이상인구리박막적층필름을제조할수 있다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造用于减薄方法的双面柔性覆铜层叠膜的方法,其中用于屏蔽电磁波的覆铜层压膜被放置在基膜的第一表面上,并且用于电路的铜包覆层压膜 形成位于基膜的第二表面上。 本发明提供了制造双面柔性覆铜层叠膜的方法,包括:等离子体处理基膜的第一表面的第一步骤; 在等离子体处理的第一表面上连续放置Ni / Cr结合层和Cu籽晶层的第二步骤; 对基膜的第二表面进行等离子体处理的第三步骤; 在等离子体处理的第二表面上连续放置Ni / Cr结合层和Cu籽晶层的第四步骤; 以及通过电沉积在第一和第二表面的Cu种子层上形成涂层的第五步骤。 根据本发明,其中形成在电路形成表面上的针孔数目为宽度为156mm,长度为300mm的表面为20个以下的覆铜层叠膜以及电磁波的剥离强度 屏蔽面为0.30kg / cm以上。

Patent Agency Ranking