公开(公告)号：KR1020150089924A

公开(公告)日：2015-08-05

申请号：KR1020140193408

申请日：2014-12-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오야마가츠히코 ,  가네코히로후미 ,  기쿠치히로시 ,  바바노리오

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6773 ,  H01L21/67769 ,  Y10T29/49826

Abstract: 본발명은직경 300 ㎜의웨이퍼에대응한기판열처리장치와같은정도의풋프린트를유지하면서, 장치내부에직경 450 ㎜의웨이퍼를수납한운반용기라도충분한수량보관할수 있는기판열처리장치를제공하는것을목적으로한다. 웨이퍼를복수매 수납한복수의운반용기를보관하는제1 보관부및 제2 보관부와, 운반용기를반송하는반송기구부를포함하는반송보관유닛과, 다수매의웨이퍼를다단으로유지한유지구를수납하고, 웨이퍼에열처리를실시하는열처리로가설치된열처리유닛을가지며, 반송보관유닛의제1 보관부의하방에는, 운반용기내의웨이퍼를열처리유닛의유지구로이송하기위해서, 운반용기를배치하는이송부의배치대가설치되고, 제2 보관부는반송기구부의하방에배치되며, 제2 보관부의운반용기를배치하는면은, 이송부의배치대의운반용기를배치하는면보다낮아지도록배치되어있는기판열처리장치를제공한다.

Abstract translation: 本发明提供一种基板热处理设备，其能够在设备中存储足够数量的容纳直径为450mm的晶片的运输容器，同时保持与对应于基板热处理设备的基板热处理设备相同的占地面积 晶片直径为300mm。 根据本发明，基板热处理装置包括：重新转移存储单元，包括用于存储容纳多个晶片的多个转移容器的第一和第二存储单元，以及重新传送转移容器的再传输装置单元; 以及热处理单元，用于容纳将多个晶片保持在多级中的保持构件，并且其中安装有热处理炉，对所述晶片进行热处理。 将配置转移容器的转移单元的放置台安装在再转储存单元的第一存储单元的下面，以将转移容器中的晶片转移到热处理单元的保持构件。 此外，第二存储单元设置在再转印器件单元下方，并且设置第二存储单元的转印容器的表面设置在低于设置转印单元的放置台的转印容器的表面 。