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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160113013A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：KR1020160031992
申请日：2016-03-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/60
CPC classification number: F27B5/04 , F16B2/02 , F27B17/0016 , F27B17/0025 , F27D3/0084 , F27D2003/0012 , F27D2003/0046 , H01L21/67109 , H01L21/67379 , H01L21/67389 , H01L21/6773 , H01L21/67742 , H01L21/67772 , H01L21/67775
Abstract: 본발명은 FOUP 등의기판수납용기로부터기판을취출하여기판반송영역에반입할때에필요한기판수납용기를고정하는클램프메커니컬에있어서, 파티클의비산을저감시킬수 있는클램프장치및 이것을이용한기판반입출장치, 및기판처리장치를제공하는것을목적으로한다. 클램프장치(100)는, 기판수납용기(C)의정면에마련된덮개(68)를개폐할때, 상기기판수납용기에상방으로부터접촉하여상기기판수납용기를미리정해진위치에고정가능한클램프부재(81)와, 상기클램프부재를구동시키는구동기구(86, 87)와, 상기구동기구를덮는케이싱(85)과, 상기케이싱과연통하는흡입구(91)를가지고, 상기케이싱의근린에마련된배기실(90)과, 상기배기실내에마련된팬(94)을갖는다.
Abstract translation: 本发明涉及一种夹持装置，使用该装置的基板输入/输出装置和基板处理装置，以便在从基板喷射基板时减少夹紧机械装置中的颗粒的散射以固定基板容纳容器 容纳容器如前开口统一荚（FOUP）并发送到基底承载区域。 本发明的夹紧装置（100）包括：夹紧构件（81），其构造成从上侧接触基板容纳容器（C），并将盖（68）固定到预定位置 ）设置在基板容纳容器（C）的前表面上; 构造成驱动所述夹紧构件的驱动机构（86,87）; 构造成覆盖所述驱动机构的壳体（85）; 排气室（90），设置在所述壳体附近并且包括构造成与所述壳体连通的吸入口（91） 以及设置在排气室内的风扇（94）。
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公开(公告)号：KR1020130142943A
公开(公告)日：2013-12-30
申请号：KR1020130069880
申请日：2013-06-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/67742 , H01L21/67389 , H01L21/67757 , H01L21/68742
Abstract: A project of the present invention is to prevent the contamination on a substrate caused by particles generated in a lifting device for lifting a holding-supporting unit when returning the substrate by holding and supporting the substrate. A gas inlet (53) for sucking the particles is arranged toward a ball screw (4) between an arm (3) for returning a wafer (W) by holding and supporting the wafer and a ball screw (4) which is a device for lifting the arm (3). A local exhaust duct (40) formed in the longitudinal direction of the ball screw (4) is arranged. Furthermore, the local exhaust duct (5) is arranged to closely adhere to the ball screw (4).
Abstract translation: 本发明的一个方案是防止由提升装置中产生的颗粒引起的基板上的污染，以通过保持和支撑基板返回基板来提升保持支撑单元。 用于吸引颗粒的气体入口（53）朝向用于通过保持和支撑晶片而返回晶片（W）的臂（3）之间的滚珠丝杠（4）布置;以及滚珠丝杠（4），其是用于 抬起手臂（3）。 布置有沿滚珠丝杠（4）的纵向方向形成的局部排气管道（40）。 此外，局部排气管道（5）布置成紧密地附着在滚珠丝杠（4）上。
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公开(公告)号：KR1020150089924A
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：KR1020140193408
申请日：2014-12-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/324 , H01L21/677 , H01L21/683 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/6773 , H01L21/67769 , Y10T29/49826
Abstract: 본발명은직경 300 ㎜의웨이퍼에대응한기판열처리장치와같은정도의풋프린트를유지하면서, 장치내부에직경 450 ㎜의웨이퍼를수납한운반용기라도충분한수량보관할수 있는기판열처리장치를제공하는것을목적으로한다. 웨이퍼를복수매 수납한복수의운반용기를보관하는제1 보관부및 제2 보관부와, 운반용기를반송하는반송기구부를포함하는반송보관유닛과, 다수매의웨이퍼를다단으로유지한유지구를수납하고, 웨이퍼에열처리를실시하는열처리로가설치된열처리유닛을가지며, 반송보관유닛의제1 보관부의하방에는, 운반용기내의웨이퍼를열처리유닛의유지구로이송하기위해서, 운반용기를배치하는이송부의배치대가설치되고, 제2 보관부는반송기구부의하방에배치되며, 제2 보관부의운반용기를배치하는면은, 이송부의배치대의운반용기를배치하는면보다낮아지도록배치되어있는기판열처리장치를제공한다.
Abstract translation: 本发明提供一种基板热处理设备，其能够在设备中存储足够数量的容纳直径为450mm的晶片的运输容器，同时保持与对应于基板热处理设备的基板热处理设备相同的占地面积 晶片直径为300mm。 根据本发明，基板热处理装置包括：重新转移存储单元，包括用于存储容纳多个晶片的多个转移容器的第一和第二存储单元，以及重新传送转移容器的再传输装置单元; 以及热处理单元，用于容纳将多个晶片保持在多级中的保持构件，并且其中安装有热处理炉，对所述晶片进行热处理。 将配置转移容器的转移单元的放置台安装在再转储存单元的第一存储单元的下面，以将转移容器中的晶片转移到热处理单元的保持构件。 此外，第二存储单元设置在再转印器件单元下方，并且设置第二存储单元的转印容器的表面设置在低于设置转印单元的放置台的转印容器的表面 。
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公开(公告)号：KR102053489B1
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：KR1020160031992
申请日：2016-03-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/60
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公开(公告)号：KR101646824B1
公开(公告)日：2016-08-08
申请号：KR1020130069880
申请日：2013-06-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , B65G49/07
Abstract: 본발명의과제는, 보유지지부에의해기판을보유지지하여반송하는데 있어서, 보유지지부를승강시키기위한승강기구에있어서발생하는파티클에의한기판의오염을억제하는것이다. 웨이퍼(W)를보유지지하여반송하기위한아암(3)과, 당해아암(3)을승강시키기위한승강기구인볼 나사(4) 사이에, 파티클을흡입하기위한가스흡입구(53)가볼 나사(4)측을향하도록, 또한당해볼 나사(4)의길이방향을따라형성된국소배기덕트(50)를배치한다. 또한, 이볼 나사(4)에대해국소배기덕트(50)를근접배치한다.
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