公开(公告)号：KR100744860B1

公开(公告)日：2007-08-01

申请号：KR1020057019032

申请日：2004-04-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와사키히루 ,  이와타데루오 ,  아미쿠라마나부

IPC: H01L21/324

CPC classification number: H01L21/68757 ,  C23C16/4581 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792

Abstract: 처리 용기(4)의 바닥부로부터 지주를 거쳐 기립되어서 내부에 가열 수단(38)이 매설된 탑재대(32)의 상면에 피처리체(W)를 탑재하고, 상기 처리체에 대하여 소정의 열처리를 실시하도록 한 열처리 장치에 있어서, 상기 탑재대의 상면, 측면 및 하면에 각각 내열성의 커버 부재(72, 74, 76)를 설치한다. 이에 의해, 탑재대로부터 오염원이 되는 금속 원자 등이 열확산되는 것을 방지할 수 있고, 그에 따라 금속 오염 및 유기 오염 등의 각종 오염이 발생하는 것을 방지하는 것이 가능해진다.

公开(公告)号：KR101274864B1

公开(公告)日：2013-06-13

申请号：KR1020097026850

申请日：2008-06-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카스미 ,  가와사키히루

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/68792

Abstract: 본 발명은 동심원 형상으로 구획된 복수의 가열 구역에 각각 배치된 복수의 가열 히터부로 이루어지는 가열 수단을 갖는 동시에 열처리의 대상이 되는 피처리체를 그 위에 탑재하기 위한 탑재대와, 상기 복수의 가열 구역에 각각 마련된 복수의 온도 측정 수단과, 상기 탑재대를 기립시켜서 지지하기 위한 중공의 지주를 구비한 탑재대 구조에 관한 것이다. 상기 지주의 직경은 그 하단부측으로부터 상단부를 향함에 따라서, 순차적으로 확대되어 있으며, 상기 지주의 상단부는 상기 탑재대의 이면에 접합되어 있다. 각 온도 측정 수단의 측정 수단 본체는 상기 중공의 지주 내와 상기 지주의 측벽에 마련된 관통 삽입로 내에 관통 삽입되어 있다.

公开(公告)号：KR1020100031110A

公开(公告)日：2010-03-19

申请号：KR1020097026850

申请日：2008-06-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카스미 ,  가와사키히루

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/68792

Abstract: A placement table structure includes a placement table that has heating means constructed from heaters respectively arranged in concentrically divided heating zones and on which an object to be heat-treated is placed, temperature measurement means respectively arranged in the heating zones, and a hollow column for supporting the placement table in an upstanding position. The diameter of the column is gradually expanded from its lower end side to the upper end side, and the upper end of the column is joined to the rear surface of the placement table. A measurement means body of each temperature measurement means is inserted in both the inside of the hollow column and the inside of an insertion path provided in a side wall of the column.

Abstract translation: 放置台结构包括放置台，该放置台具有由分别设置在同心分割的加热区域中的加热器构成的加热装置，其上放置有待处理物体的温度测量装置，以及分别布置在加热区域中的温度测量装置，以及用于 支持放置表处于直立位置。 柱的直径从其下端侧向上端侧逐渐扩大，并且柱的上端与放置台的后表面接合。 每个温度测量装置的测量装置的主体插入到空心柱的内部和设置在柱的侧壁中的插入路径的内部。

公开(公告)号：KR101207696B1

公开(公告)日：2012-12-03

申请号：KR1020097019825

申请日：2008-03-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와사키히루

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32192 ,  H01J2237/2001 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/68757

Abstract: 본발명은마이크로파를이용하면서소정의열 처리를실시하는처리용기내에배치되는탑재대구조로서, 비금속재료로이루어지는발열체를갖는가열수단이매립되는동시에상기피처리체를탑재하는탑재대와, 상기탑재대를상기처리용기의바닥부로부터기립시켜지지하는지주를구비하고, 상기탑재대의상면에상기마이크로파를차단하기위한실드부재가마련되어있는것을특징으로하는탑재대구조이다.

公开(公告)号：KR1020090125127A

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：KR1020097019825

申请日：2008-03-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와사키히루

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32192 ,  H01J2237/2001 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/68757

Abstract: Provided is a placing table structure arranged in a processing container wherein prescribed heat treatment is performed by using a microwave. The placing table is provided with a placing table and a supporting column. The placing table has an embedded heating means having a heat generating body composed of a nonmagnetic material, and has a placing table for placing a body to be processed. The supporting column supports the placing table by having the placing table stand from the bottom portion of the processing container. On the upper surface of the placing table, a shield member against the microwave is arranged.

Abstract translation: 提供一种布置在处理容器中的放置台结构，其中通过使用微波进行规定的热处理。 放置台设置有放置台和支撑柱。 放置台具有嵌入式加热装置，其具有由非磁性材料构成的发热体，并具有放置待加工物体的放置台。 支撑柱通过使放置台从处理容器的底部竖立而支撑放置台。 在放置台的上表面上布置有抵靠微波的屏蔽构件。

公开(公告)号：KR1020050119684A

公开(公告)日：2005-12-21

申请号：KR1020057019032

申请日：2004-04-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와사키히루 ,  이와타데루오 ,  아미쿠라마나부

IPC: H01L21/324

CPC classification number: H01L21/68757 ,  C23C16/4581 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792

Abstract: A heat treating apparatus, wherein a treated body (W) is placed on the upper surface of a loading table (32) which is erected from the bottom part of a treatment container (4) through a column and in which a heating means (38) is buried and a specified heat treatment is applied to the treated body. Insulating cover members (72), (74), and (76) are installed on the upper surface, side surface, and lower surface of the loading table. Thus, since metallic atoms causing contamination can be prevented from being thermo-diffused from the loading table, various contaminations such as metallic contamination and organic substance contamination can be prevented from occurring.

Abstract translation: 一种热处理装置，其中处理体（W）被放置在从处理容器（4）的底部通过柱竖立的装载台（32）的上表面上，并且其中加热装置（38） ），并对被处理体施加特定的热处理。 绝缘盖构件（72），（74）和（76）安装在装载台的上表面，侧表面和下表面上。 因此，由于可以防止由于引起污染的金属原子从装载台热扩散，所以可以防止诸如金属污染物和有机物质污染的各种污染物发生。