公开(公告)号：KR100715054B1

公开(公告)日：2007-05-07

申请号：KR1020057015823

申请日：2004-02-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  가토수수무 ,  고마츠도모히토 ,  사이토데츠야 ,  다나카스미

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45521 ,  C23C16/455

Abstract: 본 발명의 진공 처리 장치는, 바닥부를 갖는 진공 가능한 처리용기와, 처리용기 내에 설치되는 탑재대와, 탑재대 상의 기판을 가열하는 가열부와, 처리용기 내에 처리가스를 공급하는 처리가스공급부와, 탑재대와 처리용기의 바닥부 사이의 공간을 둘러싸서, 당해 공간을 처리용기 내의 처리공간으로부터 구획하는 구획부와, 구획부에 의해 둘러싸인 공간 내에 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스공급부와, 구획부에 의해 둘러싸인 공간 내로부터 퍼지가스를 배기하는 퍼지가스배기부와, 구획부에 의해 둘러싸인 공간 내의 압력을 조정하도록, 퍼지가스공급부 및/또는 퍼지가스배기부를 제어하는 제어부와, 처리용기의 바닥부를 관통하여, 구획부에 의해 둘러싸인 공간 내에 삽입되고, 탑재대에 접촉하는 선단부를 갖는 온도검출부를 구비하며, 구획부는 처리용기의 바닥부와 면 접촉하는 하단부를 갖고, 제어부는 구획부에 의해 둘러싸인 공간 내의 압력을 처리용기 내의 처리공간 내의 압력보다 높게 조정하도록 되어 있다.

Abstract translation: 和处理气体供给到本发明的真空处理装置，并且可以具有一个底部部分真空处理容器，配备在该处理容器中提供了一种用于将处理气体供应到加热单元，以及一个处理容器进行加热载置台的基板， 封闭带的安装底部和处理容器中，并与该分区之间的空间，用于从处理室中的处理空间分隔艺术空间，吹扫气体供给用于供应吹扫气体到由隔壁包围的空间中，分区 并且通过吹扫气体排气和用于控制吹扫气体供给和/或吹扫气体排气部，以调整在由隔板用于从所包围的空间中排出的吹扫气体所包围的空间中的压力的​​控制器，通过穿透所述处理容器的底部部分 以及温度检测部分，其插入由分隔部分围绕的空间中并具有接触安装台的前端部分， 它具有与容器的底部部分接触，所述控制器适于调整在由比在处理容器内的处理空间中的压力分隔部包围的空间内的高压的底面。

公开(公告)号：KR1020050105249A

公开(公告)日：2005-11-03

申请号：KR1020057015823

申请日：2004-02-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  가토수수무 ,  고마츠도모히토 ,  사이토데츠야 ,  다나카스미

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45521 ,  C23C16/455

Abstract: A vacuum processing apparatus is constituted of the following portions: a processing container with the bottom, capable of drawing vacuum; a placement platform installed in the container; a heating portion for heating a substrate on the platform; a processing gas-feeding portion for feeding a processing gas into the container; a partitioning portion surrounding a space between the platform and the bottom of the container and partitioning off the space from a processing space in the container; a purge gas-feeding portion for feeding a purge gas into the space surrounded by the partitioning portion; a purge gas-discharging portion for discharging the purge gas from the space surrounded by the partitioning portion; a control portion for controlling the purge gas-feeding portion and/or the purge gas- discharging portion so as to regulate the pressure in the space surrounded by the partitioning portion; and a temperature-detecting portion penetrating the bottom of the container, inserted in the space surrounded by the partitioning portion, and having the top end in contact with the platform. The partitioning portion has the lower end in surface- contact with the bottom of the container. The control portion regulates the pressure in the space surrounded by the partitioning portion to a pressure higher than that in the processing space in the container.

Abstract translation: 真空处理装置由以下部分构成：具有底部的能够抽真空的处理容器; 安装在容器中的放置平台; 用于加热所述平台上的基板的加热部分; 处理气体供给部，用于将处理气体供给到所述容器中; 围绕所述平台和所述容器的底部之间的空间并将所述空间与所述容器中的处理空间分隔开的分隔部分; 净化气体供给部分，用于将净化气体供给到由分隔部分包围的空间中; 净化气体排出部，用于从由分隔部包围的空间排出净化气体; 用于控制吹扫气体供给部分和/或吹扫气体排出部分以控制由分隔部分围绕的空间中的压力的​​控制部分; 以及穿过容器底部的温度检测部分，插入到由分隔部分包围的空间中，并且顶端与平台接触。 分隔部分的下端与容器的底部表面接触。 控制部将由分隔部包围的空间的压力调整为比容器内的处理空间高的压力。