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公开(公告)号：KR102114500B1
公开(公告)日：2020-05-22
申请号：KR1020140005497
申请日：2014-01-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , H01L21/205
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公开(公告)号：KR1020120031911A
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：KR1020110097001
申请日：2011-09-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/32449 , C23C16/455 , C23C16/45561 , C23C16/45563 , C23C16/45565 , C23C16/505 , C23C16/509 , H01J37/32009 , H01J37/3244 , H01J37/32541
Abstract: PURPOSE: A plasma etching processing apparatus and an electrode plate are provided to form different types of vents on the electrode plate, thereby optimizing vent arrangements. CONSTITUTION: A plurality of vents is formed on a plurality of different circumferences. The circumference has a concentric circle shape. The vent vertically penetrates one surface of an electrode plate(160). The vents of different types are formed on each region in which the electrode plate is divided into two or more regions in a diameter direction. A bent type vent is included in the vents of the different types.
Abstract translation: 目的：提供等离子体蚀刻处理装置和电极板，以在电极板上形成不同类型的通风孔，从而优化排气装置。 构成：在多个不同的圆周上形成多个通风口。 圆周具有同心圆形。 通气孔垂直地穿过电极板（160）的一个表面。 不同类型的通风口形成在电极板沿直径方向分成两个或更多个区域的每个区域上。 不同类型的通风口中包括弯曲型通风口。
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公开(公告)号：KR100810772B1
公开(公告)日：2008-03-07
申请号：KR1020057000553
申请日：2003-07-07
Applicant: 가부시끼가이샤 오크테크 , 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/20 , G03F1/50 , H01J37/3174 , H01J2237/31788 , H01J2237/31794
Abstract: 본 발명은, 각각에 소정 패턴의 개구가 형성된 복수의 셀을 갖는 마스크부를 구비한 노광용 전사 마스크이다. 상기 복수의 셀의 각각은, 당해 셀에 형성된 개구의 패턴에 따라, 하전입자빔이 당해 셀의 한쪽에서 조사되었을 때 당해 하전입자빔을 당해 셀의 다른 쪽에 투과시키도록 되어 있다. 이에 따라, 당해 셀의 다른 쪽에 피처리 기판이 배치되었을 때에 당해 피처리 기판에 상기 셀의 개구의 패턴이 전사되어, 당해 피처리 기판 상에 노광 패턴이 형성되도록 되어 있다. 그리고, 상기 마스크부에서 상기 복수의 셀의 일부 또는 전부가 교환 가능한 것이, 본 발명의 특징이다.
Abstract translation: 本发明是用于曝光的转印掩模，其包括具有多个单元的掩模部分，每个单元都形成有预定图案的开口。当多个单元的一侧暴露于带电粒子束时， 多个单元适于基于形成在单元中的开口的图案使带电粒子束自身通过其自身的另一侧。 因此，当待处理基板布置在单元的另一侧时，形成在单元中的开口的图案被转移到待处理的基板，因此在待处理的基板上形成曝光图案。 本发明的特征在于，可以在掩模部分更换多个单元的一部分或全部。
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公开(公告)号：KR101783886B1
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：KR1020110097001
申请日：2011-09-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/32449 , C23C16/455 , C23C16/45561 , C23C16/45563 , C23C16/45565 , C23C16/505 , C23C16/509 , H01J37/32009 , H01J37/3244 , H01J37/32541
Abstract: (과제) 전극판을관통하는복수타입의가스구멍의배치를최적화하는것이가능한, 플라즈마에칭용의전극판을제공한다. (해결수단) 플라즈마에칭용의전극판(160)은, 소정의두께를갖는원판형상이며, 동심원형상의복수의상이한원주상에는, 전극판(160)의한쪽의면을수직으로관통하는복수의가스구멍이형성되고, 전극판(160)을지름방향으로 2 이상의영역으로나눈각 영역에상이한타입의가스구멍이형성되어있다.
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公开(公告)号：KR1020160074409A
公开(公告)日：2016-06-28
申请号：KR1020150178822
申请日：2015-12-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/687 , H01L21/324 , H01L51/00 , H01L21/02
Abstract: 소정의인장특성을갖는밀착성이높은전열시트를공급한다. 실리콘을포함하는부재와알루미늄을포함하는부재의사이에전열시트를사이에두고소정시간가압한후, 전열시트를사이에둔 2개의부재의일단을제 1 클램프로파지하고, 제 1 클램프와대향하는위치에서다른쪽의부재의일단을제 2 클램프로파지하고, 제 1 및제 2 클램프의한쪽의클램프를고정하고, 다른쪽의클램프를반대측에 0.1㎜/분내지 0.5㎜/분의속도로인장하는시험을 N회(2≤N≤10) 실시했을때에전열시트의변위량(X)이 0.2㎜≤X≤0.4㎜의범위일때의인장력의경사(Y)가 0.1N/㎜≤Y≤50N/㎜의범위이며, 또한인장력의불균일은전열시트의변위량(X)이 0.2㎜≤X≤0.4㎜의범위에있어서인장력의중앙값의 ±25%의범위내인인장특성을갖는전열시트가제공된다.
Abstract translation: 本发明提供一种具有高附着力和预定拉伸性能的加热片。 将加热片放置在硅构件和铝构件之间并加压预定时间，然后通过第一夹具保持两个构件中的一个构件的端部，另一个构件的端部由第二夹具保持 面向第一夹具的位置。 第一和第二夹具中的一个被固定，另一个夹具以0.1mm / min和0.5mm / min的速度延伸到相对侧。 如果进行N（2 <= N <= 10）次的测试，拉力的倾角（Y）为：0.1N / mm <= Y <= 50N / mm，当加热的位移（X） 片材为：0.2mm <= X <= 0.4mm。 此外，当加热片的位移（X）为：0.2mm <= X <= 0.4mm时，拉力的不平衡是拉伸力的中心值的±25％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160019375A
公开(公告)日：2016-02-19
申请号：KR1020150110666
申请日：2015-08-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/32724 , H01J37/32522 , H01J37/32642
Abstract: 전열시트의열화를억제하는것을목적으로한다. 온도조절기구를갖는배치대에배치된기판의외측에설치되고전열시트를통해상기배치대와접촉되는포커스링을갖는플라즈마처리장치로서, 상기포커스링의열 전도율보다낮은열 전도율을갖는단열층이상기포커스링의면들중 상기전열시트측의면에설치되는플라즈마처리장치가제공된다.
Abstract translation: 本发明是为了防止电热片的劣化。 等离子体处理装置技术领域本发明涉及一种具有聚焦环的等离子体处理装置，该聚焦环安装在布置在具有温度控制单元的布置单元中的基板的外侧，并且通过电加热片接触该布置单元。 等离子体处理装置包括导热率低于聚焦环的导热率的绝缘层。 绝缘层安装在聚焦环表面之间的电加热片的表面上。
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公开(公告)号：KR1020150048081A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：KR1020140146075
申请日：2014-10-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 그린, 트위드 테크놀로지스, 인코포레이티드
IPC: H01L21/3065 , H01L21/324
CPC classification number: H01J37/32642 , H01J37/32091
Abstract: (과제) 충분한열전도성을확보하는것. (해결수단) 포커스링은, 처리챔버내에서피처리기판을탑재유지하는탑재대의외주상부에착탈가능하게장착되는포커스링이다. 이포커스링은, 피처리기판을유지하는쪽의표면과탑재대의외주상부에장착되는쪽의이면을갖는링 형상의링 본체와, 링본체의이면에미리고정되고, 이링 본체를탑재대의외주상부에장착할때에, 링본체와탑재대의외주상부의사이에개재하도록장착된점착성의열전도시트를갖는다. 열전도시트는, 링본체에미리접착되어일체화된것이고, 열전도시트의한쪽의면에이 열전도시트와동질의미가황고무를도포한후, 이면을링 본체에접합하고, 링본체와함께가열처리하는것에의해링 본체에가황접착되는것에의해일체화된것이다.
Abstract translation: （问题）确保足够的导热性。 （解决方案）聚焦环可拆卸地安装在安装台的外周的上侧，以保持待处理基板的安装在处理室中。 该聚焦环包括一环形环形体，该环形体包括一侧的前表面，用于保持待处理的基底和一侧的后表面，该背面将安装在安装台的外周的上侧;以及 预先固定在环形体的后表面上的粘合性导热片，当将环体安装在环状体的上侧时，插入在环状体与安装台的外周的上侧之间 安装支架的外周。 导热片通过预先粘附在环体上而被一体化。 在与导热片材相同材料的未硫化橡胶涂覆在导热片的一个表面上之后，表面粘附在环体上。 通过加热导热片和环体，通过硫化和粘合在环体上将导热片与环体一体化。
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公开(公告)号：KR1020150021889A
公开(公告)日：2015-03-03
申请号：KR1020140105794
申请日：2014-08-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , H01L21/324 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/32642 , H01J37/32513 , H01J37/32522 , H01J37/3266 , H01J37/32669 , H01J37/32715
Abstract: 배치대와 포커스 링 사이의 열 전달 효율을 향상시켜, 포커스 링의 온도를 가변적으로 제어하는 것을 목적으로 한다.
기판을 배치하는 배치대와, 상기 배치대의 주연부의 둘레에 놓여진 포커스 링, 을 갖는 플라즈마 처리 장치로서, 상기 포커스 링과 상기 배치대가 대향하는 면에 마련된 복수의 자성 부재와, 상기 포커스 링과 상기 배치대가 대향하는 면 사이에 전열 가스를 도입하여, 상기 포커스 링을 온도 조정하는 온도 조절 수단, 을 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치가 제공된다.Abstract translation: 本发明是通过提高配置台和对焦环之间的传热效率来可变地控制聚焦环的温度。 提供了一种等离子体处理装置，包括：安装在聚焦环和配置台面对的表面上的多个磁性部件; 以及温度调节装置，通过将导热气体引导到聚焦环和配置台面对面的表面来调节聚焦环的温度，作为配备有布置基板的配置台的等离子体处理装置和焦点 环放置在配置表的外围部分上。
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公开(公告)号：KR1020050060060A
公开(公告)日：2005-06-21
申请号：KR1020057000553
申请日：2003-07-07
Applicant: 가부시끼가이샤 오크테크 , 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/20 , G03F1/50 , H01J37/3174 , H01J2237/31788 , H01J2237/31794
Abstract: An exposure transfer mask includes a mask section having a plurality of cells on each of which an opening of a predetermined pattern is formed. When a charged particle beam is applied to one side of the cells, the charged particle beam is transmitted to the other side of the cells according to the pattern of the opening formed on the cells. When a substrate to be processed is arranged at the other side of the cells, the opening pattern of the cells is transferred to the substrate to be processed so that an exposure pattern is formed on the substrate to be processed. In the aforementioned mask section, some or all of the plurality of cells can be exchanged.
Abstract translation: 曝光转印掩模包括具有多个单元的掩模部，每个单元形成有预定图案的开口。 当将带电粒子束施加到单元的一侧时，根据在单元上形成的开口的图案，带电粒子束被传输到单元的另一侧。 当待处理的基板布置在单元的另一侧时，单元的开口图案被转移到待处理的基板，使得在待处理的基板上形成曝光图案。 在上述掩模部分中，可以交换多个单元中的一些或全部。
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公开(公告)号：KR101814201B1
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：KR1020100055307
申请日：2010-06-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/465 , C23C16/0227 , C23C16/325 , C23C16/4418 , H01J37/32467 , H01J37/32862
Abstract: 본발명은낭비를줄일수 있는플라즈마처리장치용의소모부품의재이용방법을제공한다. 본발명에따르면, 탄화규소가 CVD에의해적층되어탄화규소괴(41)가생성되고, 탄화규소괴(41)가가공되어포커스링(25)이제조되며, 제조된포커스링(25)이플라즈마처리장치(10)에장착된후, 플라즈마에칭처리가소정회수로반복되고, 플라즈마에칭처리중에소모된포커스링(25')의표면이산세정되고, 세정된포커스링(25)의표면에 CVD에의해탄화규소가적층되어탄화규소괴(42)가생성되고, 탄화규소괴(42)가가공되어포커스링(25")이재제조되며, 재제조된포커스링(25")이플라즈마처리장치(10)에장착된후, 플라즈마에칭처리가소정회수로반복된다.
Abstract translation: 本发明提供了一种用于能够减少浪费的等离子体处理设备的可消耗部件的再使用方法。 根据本发明，碳化硅通过CVD层压以制造碳化硅块41，碳化硅块41被加工以聚焦聚焦环25，并且所产生的聚焦环25被等离子体照射 在等离子体蚀刻处理重复预定次数之后，在等离子体蚀刻处理期间消耗的聚焦环25'的表面经历表面离散清洁，并且清洁后的聚焦环25的表面经受CVD 聚焦环25“通过机械加工碳化硅质块42制造，并且再制造的聚焦环25”安装在等离子体处理设备10上 ），等离子体蚀刻过程重复预定次数。
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