公开(公告)号：KR1020140137450A

公开(公告)日：2014-12-02

申请号：KR1020147029665

申请日：2013-02-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이케다다로 ,  고마츠토모히토 ,  가사이시게루 ,  나카고미준

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H01P5/103

CPC classification number: H01Q1/26 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/463 ,  H01Q1/38

Abstract: 마이크로파 전송로를 전송된 마이크로파를 챔버 내에 방사하여, 표면파 플라즈마를 생성하기 위한 마이크로파 방사 안테나(45)는, 도체로 이루어지는 안테나 본체(121)와, 안테나 본체(121)에 설치된, 마이크로파를 방사하는 복수의 슬롯(122)과, 안테나 본체(121)에 설치된, 처리 가스를 챔버 내에 토출하는 복수의 가스 토출 구멍(125)을 갖고, 마이크로파에 의해 표면에 금속 표면파가 형성되고, 이 금속 표면파에 의해 표면파 플라즈마가 생성되고, 안테나 본체(121)의 금속 표면의 적어도 일부가 표면파 플라즈마로부터 직류적으로 절연되도록 유전체층(126)이 설치되어 있다.

公开(公告)号：KR101722307B1

公开(公告)日：2017-03-31

申请号：KR1020147029665

申请日：2013-02-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이케다다로 ,  고마츠토모히토 ,  가사이시게루 ,  나카고미준

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H01P5/103

CPC classification number: H01Q1/26 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/463

Abstract: 마이크로파전송로를전송된마이크로파를챔버내에방사하여, 표면파플라즈마를생성하기위한마이크로파방사안테나(45)는, 도체로이루어지는안테나본체(121)와, 안테나본체(121)에설치된, 마이크로파를방사하는복수의슬롯(122)과, 안테나본체(121)에설치된, 처리가스를챔버내에토출하는복수의가스토출구멍(125)을갖고, 마이크로파에의해표면에금속표면파가형성되고, 이금속표면파에의해표면파플라즈마가생성되고, 안테나본체(121)의금속표면의적어도일부가표면파플라즈마로부터직류적으로절연되도록유전체층(126)이설치되어있다.

Abstract translation: 用于将通过微波传输路径传输的微波辐射到腔室中以产生表面波等离子体的微波辐射天线45包括由导体制成的天线主体121和多个微波辐射天线 以及多个气体排出孔125，用于将处理气体排出到设置在天线主体121中的腔室中。金属表面波通过微波形成在表面上，并且表面波 产生等离子体，形成电介质层126，使得天线主体121的至少一部分金属表面与表面波等离子体直流隔离。

公开(公告)号：KR1020120112261A

公开(公告)日：2012-10-11

申请号：KR1020120033519

申请日：2012-03-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이케다타로 ,  고마츠토모히토 ,  가사이시게루

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01J37/3211 ,  H01J37/3244 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4667

Abstract: PURPOSE: A plasma processing apparatus and a plasma generation antenna are provided to supply gas and electromagnetic waves which are separated from each other by providing a structure of separating the gas and the electromagnetic waves. CONSTITUTION: A plasma processing apparatus(10) has a process container(100) which processes a wafer with plasma in an internal space hermetically maintained. The process container is grounded in a cylindrical shape. A susceptor(105) mounting the wafer is installed in the bottom of the process container. A shower head is installed to be contiguous to the susceptor. The shower head is formed into a conductor having a plurality of gas holes. The shower head has the plurality of slots passing through electromagnetic waves in a separated location. The plasma processing apparatus includes a plurality of plasma generation antenna(200). [Reference numerals] (120) Matcher; (135) Exhaust device; (255) DC power supply; (300) Microwave output unit; (410) Antenna module; (505) Control unit; (510) Memory unit; (600) Gas supply source; (AA) Microwave transfer mechanism; (BB) Recipe

Abstract translation: 目的：提供等离子体处理装置和等离子体产生天线，以通过提供分离气体和电磁波的结构来提供彼此分离的气体和电磁波。 构成：等离子体处理装置（10）具有处理容器（100），该处理容器（100）在密封保持的内部空间中的等离子体处理晶片。 处理容器接地为圆柱形。 安装晶片的感受器（105）安装在处理容器的底部。 淋浴头安装成与基座相邻。 淋浴头形成为具有多个气孔的导体。 淋浴头具有通过分离位置的电磁波的多个槽。 等离子体处理装置包括多个等离子体产生天线（200）。 （附图标记）（120）匹配器; （135）排气装置; （255）直流电源; （300）微波输出单元; （410）天线模块; （505）控制单元; （510）存储单元; （600）供气源; （AA）微波传输机制; （BB）食谱