公开(公告)号：KR101751626B1

公开(公告)日：2017-06-27

申请号：KR1020157020279

申请日：2014-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아미야미치타카 ,  사토다카미 ,  에시마카즈요시 ,  나카무라아키히로 ,  다나카코지 ,  고사이가즈키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B01D19/02 ,  B01F3/0865 ,  B01F15/00357 ,  B01F15/026 ,  B01F2215/0077 ,  B08B3/08 ,  G05D7/01 ,  G05D11/138 ,  H01L21/67017

Abstract: 일실시형태에있어서, 유량조정기구(208)는, 액체라인(202)에상류측으로부터순서대로직렬로설치된제1 유량조정기기(208A)와제2 유량조정기기(208B)를구비한다. 제1 유량조정기기는, 제2 유량조정기기를완전히개방한경우에, 액체라인을흐르는액체의유량이, 미리설정된유량의미리정해진배수가되는미리정해진개방도로조정된다. 제2 유량조정기기는, 제1 유량조정기기의개방도를상기미리정해진개방도로조정한상태로, 액체라인을흐르는액체의유량이, 상기미리설정된유량이되는개방도로조정된다.

公开(公告)号：KR1020150099857A

公开(公告)日：2015-09-01

申请号：KR1020157020279

申请日：2014-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아미야미치타카 ,  사토다카미 ,  에시마카즈요시 ,  나카무라아키히로 ,  다나카코지 ,  고사이가즈키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B01D19/02 ,  B01F3/0865 ,  B01F15/00357 ,  B01F15/026 ,  B01F2215/0077 ,  B08B3/08 ,  G05D7/01 ,  G05D11/138 ,  H01L21/67017

Abstract: 일실시형태에 있어서, 유량 조정 기구(208)는, 액체 라인(202)에 상류측으로부터 순서대로 직렬로 설치된 제1 유량 조정 기기(208A)와 제2 유량 조정 기기(208B)를 구비한다. 제1 유량 조정 기기는, 제2 유량 조정 기기를 완전히 개방한 경우에, 액체 라인을 흐르는 액체의 유량이, 미리 설정된 유량의 미리 정해진 배수가 되는 미리 정해진 개방도로 조정된다. 제2 유량 조정 기기는, 제1 유량 조정 기기의 개방도를 상기 미리 정해진 개방도로 조정한 상태로, 액체 라인을 흐르는 액체의 유량이, 상기 미리 설정된 유량이 되는 개방도로 조정된다.

公开(公告)号：KR1020160049985A

公开(公告)日：2016-05-10

申请号：KR1020150148637

申请日：2015-10-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 우메자키쇼우타 ,  가이요시히로 ,  고사이가즈키 ,  다나카미츠오

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/6708 ,  B05B1/28 ,  B05C11/02 ,  H01L21/67051

Abstract: 횡방향토출타입의노즐로부터액이기판의외방에있는기판액 처리장치의구성부재에낙하하는것을방지한다. 기판액 처리장치는, 기판(W)을수평으로유지하는기판유지부(31)와, 기판유지부에의해유지된기판상에설정된착액(着液) 목표위치를향하여, 이착액목표위치로부터수평방향으로미리정해진거리만큼떨어진토출위치에위치하는토출구로부터, 횡방향으로처리액을토출하는노즐(41, 410)과, 노즐의하방에마련되어, 노즐의토출구로부터낙하하는처리액을받아내는액 수용부(42)를구비하고있다.

Abstract translation: 用液体处理基板的装置防止液体从横排方向从喷出口防止液体落入用于处理基板的装置的部件，液体位于基板的外侧。 用于处理具有液体的基板的设备包括：用于水平地保持基板（W）的基板保持单元（31） 喷嘴（41,410），用于将设置在由基板保持单元保持的基板上的液体到达目标位置沿横向方向从处于与液体到达目标位置分离的排出位置的出口排出预定的 水平方向的距离; 以及液体接收单元，设置在喷嘴的下部，以接收从喷嘴的出口落下的处理液。

公开(公告)号：KR1020100050402A

公开(公告)日：2010-05-13

申请号：KR1020090102797

申请日：2009-10-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미데루오미 ,  야부타다카시 ,  고사이가즈키

IPC: H01L21/302 ,  B08B3/02

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/02057

Abstract: PURPOSE: A liquid processing method, a liquid processing apparatus and a storage medium are provided to reduce the amount of the drug solution in which the drug solution used amount is reduced to the utmost and annulled by supplying a little bit throw in the amount of liquid medicine in the polymer treatment than the amount of supplying liquid medicine in the polymer removal. CONSTITUTION: A chemical supply tool supplies a medicine liquid to the surface of the substrate placed in the holding mechanism(13). A rotation unit rotates the holding mechanism. A culture cup(6) is prepared for accepting the culture fluid of the distributed processing liquid from the substrate(W) in the outside of the rotation plate(11). The culture liquid pipe cultures the medicine liquid after receiving culture liquid. The collection unit collects the medicine liquid after culturing the culture liquid from the culture cup. A controller(40) controls the rotation unit and the chemical supply unit.

Abstract translation: 目的：提供液体处理方法，液体处理装置和存储介质，以通过将液体的量稍微减少来最大限度地减少药物溶液使用量的药物溶液的量减少 药物在聚合物处理中的用量超过供应液体药物在聚合物中的去除。 构成：化学品供给工具将药液供给到放置在保持机构（13）中的基板的表面。 旋转单元旋转保持机构。 准备用于从旋转板（11）的外侧的基板（W）接受分散处理液的培养液的培养杯（6）。 培养液管接受培养液培养药液。 收集单元在从培养杯培养培养液后收集药液。 控制器（40）控制旋转单元和化学品供应单元。

公开(公告)号：KR1020160012919A

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：KR1020150101130

申请日：2015-07-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오카무라나오유키 ,  고사이가즈키 ,  데라오카가즈히로 ,  가미무라후미히로

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  C07C15/085 ,  C07C31/10

CPC classification number: H01L21/02041 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67051

Abstract: 종래부터에칭처리한기판은폴리머제거액으로세정하고있다. 본발명에서는, 종래보다세정효과를향상시킬수 있는기판처리를제공한다. 본발명에서는, 에칭처리한기판(3)을폴리머제거액으로세정하는기판처리장치(1)(기판처리방법, 기판처리프로그램을기억한컴퓨터판독가능기억매체)에있어서, 상기기판(3)을폴리머제거액으로세정처리하기전에, 상기기판(3)에이소프로필알콜증기, 수증기, 순수및 이소프로필알콜, 암모니아수, 암모니아수및 이소프로필알콜중 임의의것을공급하는것으로했다.

Abstract translation: 传统上通过聚合物去除液体来清洗蚀刻的基底。 本发明提供了与现有方法相比提高清洗效果的基板处理。 根据本发明，公开了一种用聚合物去除液清洗蚀刻的基板（3）的基板处理装置（基板处理方法和记录基板处理程序的计算机可读记录介质），其中异丙醇 蒸汽，水蒸气，去离子水和异丙醇，氨水和氨水和异丙醇在用聚合物除去液体清洗基材（3）之前，供给到基材（3）。

公开(公告)号：KR101254845B1

公开(公告)日：2013-04-15

申请号：KR1020090102797

申请日：2009-10-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미데루오미 ,  야부타다카시 ,  고사이가즈키

IPC: H01L21/302 ,  B08B3/02

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/02057

Abstract: 본 발명은 약액을 이용하여 하드마스크를 제거할 때에, 약액을 회수하여 재이용할 수 있는 액처리 방법을 제공한다.
웨이퍼에 형성된 피에칭막을, 소정 패턴으로 형성된 하드마스크층을 에칭 마스크로서 이용하여 에칭한 후, 하드마스크층 및 에칭시에 부착된 폴리머를 약액으로 제거하는 액처리 방법은, 웨이퍼를 회전시키면서 웨이퍼에 약액을 공급하여 하드마스크층을 제거하고, 처리 후의 약액을 폐기하는 제1 공정과, 제1 공정에 의한 하드마스크층의 잔존량이, 처리 후의 약액을 회수하여 재이용하는 것이 가능해지는 양이 되었을 때에, 폐기하던 처리 후의 약액을 회수하여 이 액처리에 제공하도록 전환하는 제2 공정과, 제2 공정 후, 웨이퍼를 회전시키면서, 약액을 회수하여 재이용하고, 약액에 의해 하드마스크층의 잔부 및 폴리머, 또는 폴리머를 제거하는 제3 공정을 포함한다.