公开(公告)号：KR101928134B1

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：KR1020150156584

申请日：2015-11-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토,히토시 ,  미우라,시게히로 ,  기구치,히로유키 ,  아이카와,가츠요시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/683 ,  H01L21/205

Abstract: 본 발명의 과제는, 기판의 면내의 둘레 방향에 있어서의 막 두께의 균일성을 높게 함과 함께, 성막 장치의 제조 비용을 억제할 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
진공 용기 내에 있어서, 기판을 적재 영역에 적재하여 공전시키기 위한 회전 테이블과, 상기 회전 테이블의 가스 공급 영역에 상기 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급 기구와, 상기 회전 테이블의 타면측에 설치되고, 당해 회전 테이블의 회전 방향을 따라 회전 가능한 제1 기어와, 상기 제1 기어에 맞물리고, 상기 적재 영역과 함께 공전하도록 설치되고, 자전함으로써 기판이 자전하도록 당해 적재 영역을 회전시키는 유성 기어로 이루어지는 제2 기어와, 상기 제1 기어를 회전시켜, 상기 기판의 자전 속도를 조정하기 위한 회전 구동부를 구비하도록 장치를 구성한다. 그에 의해, 기판을 자전시키기 위한 상기 회전 구동부를 설치하는 수를 억제할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020160057322A

公开(公告)日：2016-05-23

申请号：KR1020150156584

申请日：2015-11-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토,히토시 ,  미우라,시게히로 ,  기구치,히로유키 ,  아이카와,가츠요시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/683 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4584 ,  C23C16/4408 ,  C23C16/45551 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H01L21/68792

Abstract: 본발명의과제는, 기판의면내의둘레방향에있어서의막 두께의균일성을높게함과함께, 성막장치의제조비용을억제할수 있는기술을제공하는것이다. 진공용기내에있어서, 기판을적재영역에적재하여공전시키기위한회전테이블과, 상기회전테이블의가스공급영역에상기처리가스를공급하는처리가스공급기구와, 상기회전테이블의타면측에설치되고, 당해회전테이블의회전방향을따라회전가능한제1 기어와, 상기제1 기어에맞물리고, 상기적재영역과함께공전하도록설치되고, 자전함으로써기판이자전하도록당해적재영역을회전시키는유성기어로이루어지는제2 기어와, 상기제1 기어를회전시켜, 상기기판의자전속도를조정하기위한회전구동부를구비하도록장치를구성한다. 그에의해, 기판을자전시키기위한상기회전구동부를설치하는수를억제할수 있다.

Abstract translation: 本发明提供一种在基板的平面上提高周向的膜厚均匀性的技术，并且抑制成膜装置的制造成本。 成膜装置包括：旋转台，其将基板装载在装载区域中并使基板旋转; 气体供给机构，其向所述旋转台的气体供给区域供给处理气体; 安装在所述旋转台的另一侧并沿所述旋转台的旋转方向旋转的第一齿轮; 与第一齿轮接合的第二齿轮被安装成与装载区域一起旋转，并且包括旋转装载区域的行星齿轮，以通过旋转来旋转基底; 以及旋转驱动单元，其旋转所述第一齿轮以调节所述基板的旋转速度。 根据本发明，可以抑制用于旋转基板的旋转驱动单元的安装次数。

公开(公告)号：KR101899634B1

公开(公告)日：2018-09-17

申请号：KR1020150151152

申请日：2015-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토,히토시 ,  미우라,시게히로 ,  기구치,히로유키 ,  아이카와,가츠요시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/683 ,  H01L21/205 ,  C23C16/455 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/52 ,  C23C16/4409 ,  C23C16/45542 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4584 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32926 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H01L21/68792

Abstract: 본발명은회전테이블에적재된기판을공전시켜서성막을행함에있어서, 기판의면내의둘레방향에서의막 두께의균일성을높게할 수있는기술을제공한다. 기판이자전하도록, 회전테이블에서의기판의적재영역을회전시키는회전기구와, 회전테이블의일면측에서의가스공급영역에처리가스를공급하여, 공전에의해당해가스공급영역을복수회반복통과하는기판에성막을행하기위한처리가스공급기구와, 회전테이블의회전속도를포함하는파라미터에기초하여, 기판의자전속도를연산하고, 연산된자전속도로기판을자전시키도록제어신호를출력하는제어부를구비하도록장치를구성한다. 이장치에서는, 가스공급영역에기판이위치할때마다기판의방향이바뀌도록처리를행할수 있기때문에, 둘레방향에서의막 두께의균일성을높게할 수있다.

公开(公告)号：KR1020160051650A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：KR1020150151152

申请日：2015-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토,히토시 ,  미우라,시게히로 ,  기구치,히로유키 ,  아이카와,가츠요시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/683 ,  H01L21/205 ,  C23C16/455 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/52 ,  C23C16/4409 ,  C23C16/45542 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4584 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32926 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H01L21/68792

Abstract: 본발명은회전테이블에적재된기판을공전시켜서성막을행함에있어서, 기판의면내의둘레방향에서의막 두께의균일성을높게할 수있는기술을제공한다. 기판이자전하도록, 회전테이블에서의기판의적재영역을회전시키는회전기구와, 회전테이블의일면측에서의가스공급영역에처리가스를공급하여, 공전에의해당해가스공급영역을복수회반복통과하는기판에성막을행하기위한처리가스공급기구와, 회전테이블의회전속도를포함하는파라미터에기초하여, 기판의자전속도를연산하고, 연산된자전속도로기판을자전시키도록제어신호를출력하는제어부를구비하도록장치를구성한다. 이장치에서는, 가스공급영역에기판이위치할때마다기판의방향이바뀌도록처리를행할수 있기때문에, 둘레방향에서의막 두께의균일성을높게할 수있다.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于通过旋转衬底在衬底上装载在旋转台上的成膜过程中改善衬底上的膜厚度在面上的面内均匀性的技术。 一种成膜装置，包括：旋转机构，其构造成使基板旋转的旋转台​​上的基板的装载区域旋转; 处理气体供给机构，其将处理气体供给到所述旋转台的一个表面侧的处理气体供给区域，使得在所述基板上形成薄膜，所述薄膜多次通过所述处理气体供给区域通过所述处理气体供给区域 基材革命; 以及控制部，其被配置为基于包括所述旋转台的旋转速度的参数来执行所述基板的旋转速度的计算，并且以所计算的旋转速度输出用于旋转所述基板的控制信号。 在成膜装置中，由于进行成膜处理，只要基板位于处理气体供给区域中，能够改变基板的取向，可以提高圆周方向的膜厚的均匀性。