公开(公告)号：KR1020000006275A

公开(公告)日：2000-01-25

申请号：KR1019990022851

申请日：1999-06-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타노타카히로 ,  모리카와마사테루 ,  아키모토마사미 ,  타케시타가즈히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C5/0216 ,  B05C11/08 ,  G03F7/162

Abstract: PURPOSE: A film forming apparatus and a film fabrication method are provided to prevent a stream of a resist solution. CONSTITUTION: The film forming apparatus comprises: a substrate maintaining part for maintaining a substrate(1) to be processed; a nozzle unit(2) disposed so as to oppose the substrate maintaining part, wherein the nozzle unit(2) has a discharge opening for successively applying a solution(3) onto the substrate maintained by the substrate maintaining part in a thin stream shape; and a deposition drive equipment for relatively driving the substrate maintaining part and the nozzle unit and for performing a film formation while discharging the solution with the thin stream shape and depositing on a non-process substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种成膜装置和膜制造方法，以防止抗蚀剂溶液流。 构成：成膜装置包括：用于保持待处理的基板（1）的基板保持部; 喷嘴单元（2），其设置成与所述基板保持部相对，其中，所述喷嘴单元（2）具有排出口，用于将由所述基板保持部保持的所述基板上的溶液（3）依次施加到薄流的形状; 以及用于相对驱动基板保持部分和喷嘴单元并用于在以薄流形状排出溶液的同时进行成膜并沉积在非处理基板上的沉积驱动设备。

公开(公告)号：KR100610048B1

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：KR1019990022851

申请日：1999-06-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타노타카히로 ,  모리카와마사테루 ,  아키모토마사미 ,  타케시타가즈히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C5/0216 ,  B05C11/08 ,  G03F7/162

Abstract: 막형성장치는 피처리기판을 유지하기 위한 기판유지부와, 이 기판유지부에 의해서 유지된 기판상에 막형성용 용액을 가는 스트림(stream)의 형상으로 연속하여 인가하기 위한 방출구를 가지며, 상기 기판유지부에 대향하여 배치되는 노즐유닛 및 상기 기판과 노즐유닛을 서로 상대적으로 구동하여, 노즐유닛이 가는 스트림(stream)의 형상으로 상기 용액을 기판의 표면에 인가하면서 상기 기판의 표면에 상기 용액을 도포하는 구동기구를 포함한다.