公开(公告)号：KR1020120116490A

公开(公告)日：2012-10-22

申请号：KR1020127021449

申请日：2011-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와사키히로오 ,  사이토우데츠야 ,  나가오카히데키

IPC: H01L21/683 ,  B23Q3/08 ,  H02N13/00

CPC classification number: H01L21/68785 ,  H01L21/68792

Abstract: 배기 가능하게 이루어진 처리 용기 내에 마련되며 처리해야할 피처리체를 탑재하기 위한 탑재대 구조체에 있어서, 상기 피처리체를 탑재하기 위한, 적어도 가열 수단이 마련된 유전체로 이루어지는 탑재대와, 상기 탑재대를 지지하기 위해서 상기 처리 용기의 저부측으로부터 기립시켜서 마련되는 동시에, 상단부가 상기 탑재대 하면에 연결되며, 내부에 길이 방향을 따라서 형성된 복수의 관통 구멍을 갖는 유전체로 이루어지는 지주를 구비하는 것을 특징으로 하는 탑재대 구조체이다.

公开(公告)号：KR1020120112661A

公开(公告)日：2012-10-11

申请号：KR1020127019798

申请日：2010-12-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와사키히로오 ,  사이토우데츠야 ,  나가오카히데키 ,  무라오카다카시 ,  야마모토히로히코

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/68742 ,  C23C16/4586 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/68785

Abstract: 본 발명은, 배기 가능하게 이루어진 처리 용기 내에 마련되어 처리하기 위한 피처리체를 탑재하기 위한 탑재대 구조에 관한 것이다. 본 발명의 탑재대 구조는, 판 형상의 탑재대 본체 상에 상기 피처리체를 탑재하기 위한 열확산판을 지지시키는 동시에, 상기 탑재대 본체와 상기 열확산판의 경계 부분에 가스 확산실을 마련하여 이루어지는 탑재대와, 상기 탑재대에 마련된 가열 수단과, 상기 탑재대를 지지하기 위해서 상기 처리 용기의 저부로부터 기립시켜서 마련되고 상단부가 상기 탑재대 하면에 접속되는 동시에 상기 가스 확산실에 연통되어 퍼지 가스를 흐르게 하도록 되어 있는 1개 또는 복수의 지주관과, 상기 탑재대 본체의 측면과 하면을 덮도록 하여 마련된 탑재대 커버 부재와, 상기 지주관의 주위를 둘러싸는 동시에 상단부가 상기 탑재대 커버 부재에 연결되어, 상기 가스 확산실로부터 상기 탑재대 본체와 상기 탑재대 커버 부재 사이의 간극으로 흐른 상기 퍼지 가스를 하방으로 안내하여 가스 출구로부터 배출하도록 되어 있는 지주관 커버 부재를 구비한다.

公开(公告)号：KR100427563B1

公开(公告)日：2004-04-27

申请号：KR1020007014228

申请日：2000-04-03

Applicant: 가부시키가이샤 후지킨 ,  오미 다다히로 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오미다다히로 ,  카가츠메사토시 ,  스기야마카즈히코 ,  히로세준 ,  후카자와카즈오 ,  코이즈미히로시 ,  나가오카히데키 ,  미나미유키오 ,  니시노코지 ,  도히료스케 ,  요네하나카츠노리 ,  이케다노부카즈 ,  야마지미치오 ,  모리모토아키히로 ,  우노토미오 ,  이데타에이지 ,  마츠모토아츠시 ,  우에노야마토요미 ,  히로세타카시

IPC: G05D7/06

CPC classification number: G05D7/0658 ,  G05D7/0664 ,  Y10S438/935 ,  Y10T137/0396 ,  Y10T137/7759 ,  Y10T137/7761 ,  Y10T137/86389 ,  Y10T137/87877 ,  Y10T137/87917

Abstract: 압력조정용의 1개의 레귤레이터로부터 복수개의 유로를 병렬적으로 설치한 유체공급장치에 있어서, 각 유로의 유체공급의 개폐조작이 다른 유로의 정상공급에 과도적 변동을 주지 않도록 한다. 그를 위하여 각 유로에 유량제어용의 매스플로 컨트롤러(MFC) 또는 압력식 유량제어장치(FCS)를 설치하고, 어느 유로의 유체공급이 닫힌 상태에서 열린 상태로 되었을 때, 그 유로의 매스플로 컨트롤러(MFC)가 동작개시로부터 일정한 지연시간(Δt)만큼 지연되어 설정유량(Qs)에 도달하도록 구성한다.
또, 1대의 압력식 유량제어장치에 의해 복수의 가스종류를 고밀도로 유량제어할 수 있는 방법과 그 장치를 실현한다. 그를 위하여, 임계압력비 이하의 조건에서 오리피스를 통과하는 가스의 유량계산식을 이론적으로 도출하고, 그 식으로부터 플로팩터를 정의하고, 이 플로팩터를 사용하여 다수의 가스종류에 대응할 수 있도록 하였다.
즉, 오리피스(8)의 상류측 압력(P
1 )을 하류측 압력(P
2 )의 약 2배 이상으로 확보한 상태에서 오리피스를 통과하는 가스의 연산유량(Qc)을 Qc=KP
1 (K는 정수)로서 연산하는 유량제어방법에 있어서, 가스종류마다 플로팩터(FF)를
FF = (k/ν
S ){2/(κ+1)}
1/(κ-1) [κ/{(κ+1)R}]
1/2 에 의해 계산하고, 가스종류 A의 연산유량이 Q
A 인 경우에, 동일 오리피스, 동일 상류측 압력 및 동일 상류측 온도의 조건하에서 가스종류 B를 유통시켰을 때, 그 연산유량(Q
B )을 Q
B =(FF
B /FF
A )Q
A 로서 산출한다. 여기서 ν
S 는 가스의 표준상태 밀도, κ는 가스의 비열비, R은 가스정수, k는 가스종류에 의존하지 않는 비례정수, FF
A , FF
B 는 가스종류 A, B의 플로팩터이다.

Abstract translation: 一种流体供应装置，其具有从一个调节器分支出来用于调节压力的多条流动管线，所述流动管线平行布置，其中采取措施，即操作，即一个流动通道的打开或关闭将不具有 对其他流动通道的稳定流动产生瞬态影响。 为此，每个流道设置有延时型质量流量控制器MFC，使得当打开一个封闭流体通道时，该流道上的质量流量控制器在特定延迟时间Δt内达到设定流量Qs 从起点。 还提供了一种上述方法和装置，其中可以通过一个压力型流量控制系统高精度地控制多种气体类型的流量。 为此，理论上导出用于计算气体流量的公式，其中压力比不高于临界压力比。 根据该公式，定义流量因子，以便可以使用流量因子将公式应用于多种气体类型。 该方法包括在孔口的上游侧的压力P1设定为高于下游侧的压力P2两倍以上的压力P1的情况下，根据公式Qc = KP1（K =常数）计算通过孔口的气体的流量Qc ，其中每种气体的流量因子FF计算如下：其中，每种气体的流量因子FF被计算如下：其中，每种气体的流量因子FF被计算为如下：其中，每种气体的流量因子FF被计算为如下：＆Delta; FF =（k / ＆AUML; kappa / auml;（kappa + 1）R＆lt; uuml; 1/2＆gt; ＆LT; / DF＆GT; 并且其中，如果所计算的气体类型A的流量是QA，并且当允许气体类型B在上游侧上的相同压力下和上游侧上相同温度下流过同一孔口时， QB计算如下：＆lt; DF＆gt; QB =（FFB / FFA）QA＆lt; / DF＆gt; ys =标准状态下的气体浓度; kappa =气体比热比; R =气体的常数; K =不依赖于气体类型的比例常数; FFA = A型气体流量系数; 和FFB =气体类型B的流量因子。

公开(公告)号：KR100908514B1

公开(公告)日：2009-07-20

申请号：KR1020070067435

申请日：2007-07-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라오카스나오 ,  나가오카히데키 ,  반마사카즈 ,  티안카이종

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32192 ,  H01J37/32275 ,  H01J2237/0206

Abstract: 게이트 밸브(26)는, 처리 챔버(1)의 개구(25)의 형상에 맞춰 직사각형 형상으로 구성되고, 개구(25)보다 큰 치수를 갖는 판 형상의 밸브체(26a)를 갖고 있다. 밸브체(26a)에는, 처리 챔버(1)의 바깥쪽에 접촉, 가압되어 기밀하게 밀봉하기 위한 기밀 밀봉 부재(26d)가 마련된다. 이 기밀 밀봉 부재(26d)의 외주부에는, 기밀 밀봉 부재(26d)의 주위를 둘러싸도록, 홈 형상으로 형성된 마이크로파 반사 기구(26e)가 마련된다.

Abstract translation: 闸阀包括矩形形状的板形阀元件以适应处理室的开口的形状并且具有大于开口的尺寸。 在阀芯上设置密封部件，该密封部件通过与处理室的外侧抵接并按压而进行气密密封。 微波反射机构设置在气密密封部件的外周部上，该微波反射机构形成为槽状以包围气密密封部件的周围。

公开(公告)号：KR1020010074890A

公开(公告)日：2001-08-09

申请号：KR1020017002666

申请日：2000-07-27

Applicant: 오미 다다히로 ,  이이다 세이이찌 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  가부시키가이샤 후지킨

Inventor： 오미다다히로 ,  이이다세이이찌 ,  카가쯔메사토시 ,  히로세준 ,  후카사와카주오 ,  코이주미히로시 ,  나가오카히데키 ,  우노토미오 ,  니시노코우지 ,  이케다노부카주 ,  도히료우수케 ,  이데타에이지

IPC: F16K17/22

Abstract: 오리피스를 이용한 압력식 유량제어장치에 있어서, 유체의 유량제어를 하면서 간단히 오리피스의 막힘의 검출을 행하도록 한 것이다. 즉, 상류측압력P
1 을 하류측압력P
2 의 약 2배이상으로 유지하여 하류측의 유량Q
C 을 Q
C =KP
1 (K:정수)로 연산하고, 이 연산유량Q
C 과 설정유량Q
S 과의 차신호Q
Y 에 의해 컨트롤밸브(CV)를 개폐제어하는 유량제어장치(FCS)에 있어서, 별도로 설치한 검정회로 또는 유량설정회로로부터, 검정진폭V
O 을 보유하는 검정용 신호ΔQ
S 를 컨트롤밸브(CV)로 출력하고, 이 컨트롤밸브 (CV)의 개폐에 응답하여 생기는 상류측압력P
1 의 변동압력ΔP
1 의 압력진폭V을 측정하고, 이 압력진폭V이 한계진폭V
t 보다 작게 되었을 때에, 오리피스의 막힘을 유지하도록 한 유량이상검지방법이다. 상기 검정회로 또는 유량설정회로로부터, 정상설정유량신호Q
SO 에 중복하여 검정용 신호ΔQ
S 를 컨트롤밸브(CV)로 출력하면, 정상설정유량신호Q
SO 에 의해 유량제어하면서 유량이상을 검지할 수 있다.

公开(公告)号：KR100432632B1

公开(公告)日：2004-05-22

申请号：KR1020017002666

申请日：2000-07-27

Applicant: 오미 다다히로 ,  이이다 세이이찌 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  가부시키가이샤 후지킨

Inventor： 오미다다히로 ,  이이다세이이찌 ,  카가쯔메사토시 ,  히로세준 ,  후카사와카주오 ,  코이주미히로시 ,  나가오카히데키 ,  우노토미오 ,  니시노코우지 ,  이케다노부카주 ,  도히료우수케 ,  이데타에이지

IPC: F16K17/22

CPC classification number: G05B23/0235 ,  G05B23/0256 ,  G05D7/0635 ,  Y10T137/0396 ,  Y10T137/7759 ,  Y10T137/7761 ,  Y10T137/8326

Abstract: A method checks the flow rate for abnormalities while controlling the flow rate of fluid in a pressure-type flow controller FCS using an orifice - the pressure-type flow controller wherein with the upstream pressure P1 maintained about two or more times higher than the downstream pressure P2, the downstream flow rate QC is calculated by the equation QC = KP1 (K: constant) and wherein the control valve CV is controlled on the basis of the difference signal QY between the calculated flow rate QC and the set flow rate QS. The method comprises, outputting a testing signal DELTA Qs having a testing amplitude Vo from a testing circuit provided separately or a flow rate setting circuit to the control valve CV, measuring the pressure amplitude V of the variable pressure DELTA P1 of the pressure P1 on the upstream side of the orifice that arises in response to actuation of the control valve CV and setting off an alarm for the clogging of the orifice when the pressure amplitude V is smaller than a limit amplitude Vt. If the testing signal DELTA Qs is superimposed on a steady-state set flow rate signal Qso and outputted to control the valve CV from the testing circuit or the flow rate setting circuit, the flow rate can be checked for abnormalities while controlling the flow rate by the steady-state set flow rate signal Qso.

Abstract translation: 在利用节流孔来控制压力型流量控制器FCS中的流体的流量的同时，检查流量的异常，该压力型流量控制器在上游压力P1维持比下游压力高大约两倍或更多倍的情况下 P2，通过公式QC = KP1（K：常数）计算下游流量QC，并且其中基于计算出的流量QC和设定流量QS之间的差值信号QY来控制控制阀CV。 该方法包括：从另外提供的测试电路或流量设定电路向控制阀CV输出具有测试振幅Vo的测试信号ΔQs，测量在控制阀CV上的压力P1的可变压力ΔP1的压力振幅V 当压力振幅V小于极限振幅Vt时，响应于控制阀CV的动作而产生的节流孔的上游侧，并发出堵塞节流孔的警报，如果测试信号ΔQs叠加在 稳定状态设定流量信号Qso并输出以从测试电路或流量设定电路控制阀CV时，可以在通过稳态设定流量信号Qso控制流量的同时检查流量异常。 ＆lt;图像＆GT;

公开(公告)号：KR100401576B1

公开(公告)日：2003-10-17

申请号：KR1020017004136

申请日：2000-08-03

Applicant: 가부시키가이샤 후지킨 ,  오미 다다히로 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오미다다히로 ,  히로세타카시 ,  이데타에이지 ,  이케다노부카주 ,  도히료우수케 ,  니시노코우지 ,  요시카와카주히로 ,  카가쯔메사토시 ,  히로세준 ,  후카사와카주오 ,  코이주미히로시 ,  나가오카히데키

IPC: G01L7/08

CPC classification number: G01L19/0023 ,  G01L19/0645 ,  G01L19/145 ,  G01L19/147

Abstract: A construction for mounting a pressure detector prevents the detector diaphragm from being strained by stress applied to the pressure detector as the detector is mounted in a fixture main body provided in a pipe line or the like, thereby keeping the output characteristics and temperature characteristics of the detector from greatly differing before and after the mounting. The pressure detector is constructed by combining and fastening together a diaphragm base having a diaphragm and a sensor base having a sensor element therein that is activated by displacement of the diaphragm base. The pressure detector, with a gasket placed thereunder, is disposed in a mounting hole of a fixture main body that is mounted in a pipe line. The pressure detector is airtightly pressed and fastened by a presser member inserted from above in the mounting hole. The presser member is brought in contact with a block upper surface of the diaphragm base, and the gasket is also brought in contact with the block lower surface of the diaphragm base. A shallow groove is defined in the form of a ring on the lower surface of the block at a place inward of the portion contacting the metal gasket so that the shallow groove absorbs strain caused by the presser member.

Abstract translation: 用于安装压力检测器的结构防止检测器膜片由于施加到压力检测器的应力而受到应变，因为检测器安装在设置在管线等中的夹具主体中，从而保持检测器的输出特性和温度特性 探测器在安装之前和之后差别很大。 压力检测器通过将具有膜片的膜片基座和其中具有传感器元件的传感器基座组合并紧固在一起而构成，所述传感器基座通过膜片基座的位移而被激活。 压力检测器，在其下方放置有垫圈的压力检测器布置在安装在管线中的夹具主体的安装孔中。 压力检测器通过从上方插入安装孔的按压部件被气密地按压并紧固。 按压构件与膜片基座的块上表面接触，并且垫片也与膜片基座的块下表面接触。 在与金属垫片接触的部分的内侧的位置处，在块体的下表面上以环的形式限定浅槽，使得浅槽吸收由压紧构件引起的应变。 ＆lt;图像＆GT;

公开(公告)号：KR1020010075514A

公开(公告)日：2001-08-09

申请号：KR1020017004136

申请日：2000-08-03

Applicant: 가부시키가이샤 후지킨 ,  오미 다다히로 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오미다다히로 ,  히로세타카시 ,  이데타에이지 ,  이케다노부카주 ,  도히료우수케 ,  니시노코우지 ,  요시카와카주히로 ,  카가쯔메사토시 ,  히로세준 ,  후카사와카주오 ,  코이주미히로시 ,  나가오카히데키

IPC: G01L7/08

Abstract: 다이어프램형 압력검출기를 관로나 기계등에 설치한 설치구 본체에 조합했을 때에 압력검출기에 작용하는 응력에 의해서 다이어프램이 변형하여, 조합후의 출력특성이나 온도 특성이 조합전의 특성에 비교하여 크게 변동하는 것을 방지할 수 있도록한 압력검출기의 설비구조를 제공한다.
그러기 위해, 본 발명에서는 다이어프램을 구비한 다이어프램 베이스와, 상기 다이어프램의 변위에 의하여 작동하는 센서소자를 내장한 센서베이스를 조합고착해서 이루어지는 압력검출기를, 배관로나 기계장치에 설치된 설치구 본체의 삽입부착구멍 내로 개스킷을 매개로 끼워붙이고, 상방에서 삽입부착구멍 내로 삽입한 누름부재에 의하여 압력검출기를 기밀하게 압압고정하도록 한 압력검출기 설치구조에 있어서, 상기 다이어프램 베이스의 본체부 상면에 누름부재를, 또한, 다이어프램 베이스의 본체부 하면에 개스킷을 각각 접촉시킴과 아울러, 상기 본체부 하면의 개스킷과의 접촉부의 내측 위치에 얕은 홈을 링형상으로 형성하고, 누름부재에 의한 압압에 의하여 발생된 변형을 얕은 홈에 의하여 흡수한다.

公开(公告)号：KR1020080005095A

公开(公告)日：2008-01-10

申请号：KR1020070067435

申请日：2007-07-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라오카스나오 ,  나가오카히데키 ,  반마사카즈 ,  티안카이종

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32192 ,  H01J37/32275 ,  H01J2237/0206

Abstract: A microwave plasma processing device and a gate valve for the microwave plasma processing device are provided to decrease a discharge due to a leakage of a microwave by preventing the microwave from leaking out of a chamber while discharging a plasma. A microwave plasma processing device includes a process chamber(1), a microwave input unit, a valve member(26a), a ventilating member(24), a sealing member, and a microwave reflector(26e). The process chamber includes an opening, through which an object to be processed is received and outputted. The microwave input unit introduces a microwave into the process chamber. The valve member opens and closes the opening. The ventilating member sucks in the process chamber using a vacuum condition. When the opening is closed by the valve member, the sealing member tightly encloses an interface between an outer area from the opening and the valve member. When the opening is closed by the valve member, the microwave reflector is arranged to surround the opening and reflect the microwave, which is leaked from the opening to outside.

Abstract translation: 提供微波等离子体处理装置和微波等离子体处理装置的闸阀，以通过在排出等离子体的同时防止微波从室内泄漏而减少微波泄漏引起的放电。 微波等离子体处理装置包括处理室（1），微波输入单元，阀构件（26a），通风构件（24），密封构件和微波反射器（26e）。 处理室包括开口，待处理对象被接收和输出。 微波输入单元将微波引入处理室。 阀构件打开和关闭开口。 通风部件使用真空条件吸入处理室。 当开口被阀构件封闭时，密封构件紧密地包围在开口的外部区域和阀构件之间的界面。 当开口被阀构件关闭时，微波反射器被布置成围绕开口并且反射从开口泄漏到外部的微波。

公开(公告)号：KR1020010052885A

公开(公告)日：2001-06-25

申请号：KR1020007014228

申请日：2000-04-03

Applicant: 가부시키가이샤 후지킨 ,  오미 다다히로 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오미다다히로 ,  카가츠메사토시 ,  스기야마카즈히코 ,  히로세준 ,  후카자와카즈오 ,  코이즈미히로시 ,  나가오카히데키 ,  미나미유키오 ,  니시노코지 ,  도히료스케 ,  요네하나카츠노리 ,  이케다노부카즈 ,  야마지미치오 ,  모리모토아키히로 ,  우노토미오 ,  이데타에이지 ,  마츠모토아츠시 ,  우에노야마토요미 ,  히로세타카시

IPC: G05D7/06

Abstract: 압력조정용의 1개의 레귤레이터로부터 복수개의 유로를 병렬적으로 설치한 유체공급장치에 있어서, 각 유로의 유체공급의 개폐조작이 다른 유로의 정상공급에 과도적 변동을 주지 않도록 한다. 그를 위하여 각 유로에 유량제어용의 매스플로 컨트롤러(MFC) 또는 압력식 유량제어장치(FCS)를 설치하고, 어느 유로의 유체공급이 닫힘에서 열림으로 되었을 때, 그 유로의 매스플로 컨트롤러(MFC)가 동작개시로부터 일정한 지연시간(Δt)만큼 지연되어 설정유량(Qs)에 도달하도록 구성한다.
또, 1대의 압력식 유량제어장치에 의해 복수의 가스종류를 고밀도로 유량제어할 수 있는 방법과 그 장치를 실현한다. 그를 위하여, 임계압력비 이하의 조건에서 오리피스를 통과하는 가스의 유량계산식을 이론적으로 도출하고, 그 식으로부터 플로팩터를 정의하고, 이 플로팩터를 사용하여 다수의 가스종류에 대응할 수 있도록 하였다.
즉, 오리피스(8)의 상류측 압력(P
1 )을 하류측 압력(P
2 )의 약 2배 이상으로 확보한 상태에서 오리피스를 통과하는 가스의 연산유량(Qc)을 Qc=KP
1 (K는 정수)로서 연산하는 유량제어방법에 있어서, 가스종류마다 플로팩터(FF)를 FF=(k/ν
S ){2/(κ+1)}
1/(κ-1) [κ/{(κ+1)R}]
1/2 에 의해 계산하고, 가스종류 A의 연산유량이 Q
A 인 경우에, 동일 오리피스, 동일 상류측 압력 및 동일 상류측 온도의 조건하에서 가스종류 B를 유통시켰을 때, 그 연산유량(Q
B )을 Q
B =(FF
B /FF
A )Q
A 로서 산출한다. 여기서 ν
S 는 가스의 표준상태 밀도, κ는 가스의 비열비, R은 가스정수, k는 가스종류에 의존하지 않는 비례정수, FF
A , FF
B 는 가스종류 A, B의 플로팩터이다.