公开(公告)号：KR1020130025826A

公开(公告)日：2013-03-12

申请号：KR1020120095423

申请日：2012-08-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까시마도모히로 ,  이노우에신 ,  하라요시따까 ,  하세가와이즈미 ,  오가따구니에 ,  모리다꾸야

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67288

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method and a storage medium are provided to improve the process efficiency for substrates by using only the normal nozzle for a liquid process. CONSTITUTION: A liquid process unit(2) includes nozzles and a liquid process module(20). A transfer unit(4) moves a substrate to a process block. A monitoring unit detects the discharging state of the nozzles. A control unit selects normal nozzles among the nozzles to perform a liquid process on the substrate. [Reference numerals] (2) Liquid process module; (3) Inspection module; (A2) Liquid process unit; (C1) Carrier block; (C2) Process block; (C3) Interface block; (C4) Exposing block; (C5) Inspection block

Abstract translation: 目的：提供基板处理装置，基板处理方法和存储介质，以通过仅使用用于液体处理的普通喷嘴来提高基板的处理效率。 构成：液体处理单元（2）包括喷嘴和液体处理模块（20）。 传送单元（4）将基板移动到处理块。 监视单元检测喷嘴的排出状态。 控制单元选择喷嘴中的普通喷嘴，以在基板上进行液体处理。 （附图标记）（2）液体处理模块; （3）检验模块; （A2）液体处理单元; （C1）载体块; （C2）过程块; （C3）接口块; （C4）暴露块; （C5）检验块

公开(公告)号：KR101449117B1

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：KR1020120095423

申请日：2012-08-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까시마도모히로 ,  이노우에신 ,  하라요시따까 ,  하세가와이즈미 ,  오가따구니에 ,  모리다꾸야

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67288

Abstract: 본 발명의 과제는, 기판의 로트에 대응하는 처리액의 종별마다 준비된 복수의 노즐을 포함하는 액처리부를 구비한 액처리 장치에 있어서, 액처리부에 발생한 트러블에 대하여 처리 효율의 저하를 억제할 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
하나의 로트의 웨이퍼(W)의 액처리에 사용하는 약액 노즐(25a)에 있어서 트러블이 발생한 경우에, 그 하나의 로트에 대응하는 약액 노즐(25a)의 사용을 정지하고, 당해 약액 노즐(25a)과는 다른 약액 노즐(25b)을 사용하여 처리를 행하는 다음 로트에 대해서는 처리를 행하는 것으로 한다. 약액 노즐에 있어서의 트러블 발생의 판단에 대해서는, 처리한 각 웨이퍼(W)의 액처리 상태를 순차적으로 검사하여 그 양부를 판정하고, 동일한 약액 노즐을 사용하여 다른 액처리부(COT1 내지 COT3)에서 처리된 웨이퍼(W)에 있어서, 예를 들어 3회 연속으로 불량 판정으로 된 경우에, 약액 노즐에 있어서의 트러블 발생이라고 판단한다.

Abstract translation: 发明内容本发明的目的在于提供一种液体处理装置，该液体处理装置具备液体处理部，该液体处理部具备：针对与多个基板对应的各种处理液而准备的多个喷嘴; 提供技术。