公开(公告)号：KR1020120075419A

公开(公告)日：2012-07-06

申请号：KR1020110143378

申请日：2011-12-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야따아끼라 ,  하라요시따까 ,  후지무라고오지

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/16

Abstract: PURPOSE: A storage media, and a coating method and apparatus are provided to rapidly process a substrate of a following lot by sucking air in a nozzle for a preceding lot and forming a bottom air layer within the nozzle. CONSTITUTION: A resist discharge nozzle(N2) for a preceding lot and a resist discharge nozzle(N1) for a following lot move an interval between coating processors(1a, 1b) and a bus. A thinner layer is formed at the tip-end portion of the resist discharge nozzle for the preceding lot. A resist liquid(RA) is provided to the last wafer(WA25) of the preceding lot from the resist discharge nozzle. Air is sucked in the resist discharge nozzle for the preceding lot and a first air layer is formed within the resist discharge nozzle for the preceding lot. The air is sucked in the resist discharge nozzle for the following lot and a second air layer is formed within the resist discharge nozzle for the following lot.

Abstract translation: 目的：提供一种存储介质和涂覆方法和装置，通过在前一批中的喷嘴中吸入空气并在喷嘴内形成底部空气层来快速处理随后的批料。 构成：用于以前批次的抗蚀剂排出喷嘴（N2）和用于后续批次的抗蚀剂排出喷嘴（N1）移动涂覆处理器（1a，1b）和总线之间的间隔。 在前面的批次的抗蚀剂排出喷嘴的前端部形成有较薄的层。 抗蚀剂液体（RA）从抗蚀剂排出喷嘴提供给前一批次的最后一个晶片（WA25）。 空气被吸入前一批次的抗蚀剂排出喷嘴中，并且在前面的批次的抗蚀剂排出喷嘴内形成第一空气层。 空气被吸入用于后续批次的抗蚀剂排出喷嘴中，并且在后续批次的抗蚀剂排出喷嘴内形成第二空气层。

公开(公告)号：KR101018517B1

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：KR1020070093527

申请日：2007-09-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시따까

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67225

Abstract: 본 발명의 과제는 복수의 액 처리용 모듈에 대해 처리액을 토출하는 노즐부를 공통화하는 구성을 채용하는 데 있어서, 높은 스루풋을 얻는 것이다.
웨이퍼를 흡착하는 스핀 척 및 이 주위를 둘러싸는 컵을 각각 포함하는, 4개 이상의 짝수개의 모듈, 예를 들어 6개의 모듈과, 이들 모듈을 각각 동일 복수 개수씩 포함하는, 예를 들어 3개씩 포함하는 2개의 그룹으로 나누고, 각 그룹마다 웨이퍼에 액 처리용 처리액을 토출하기 위한 공유화 노즐부를 설치한다. 그리고 1번째의 웨이퍼를 한쪽 그룹의 모듈로, 2번째의 웨이퍼를 다른 쪽 그룹의 모듈로, 3번째의 웨이퍼를 한쪽 모듈로 각각 순차 반송하는 것과 같은 방식으로, 양쪽의 그룹에 대해 교대로 웨이퍼를 반송한다.
웨이퍼, 노즐부, 모듈, 아암, 현상 유닛

公开(公告)号：KR1020090075687A

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：KR1020097007376

申请日：2007-09-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시따까 ,  가네꼬도모히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67276 ,  G03F7/16 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  H01L21/673 ,  H01L21/67703

Abstract: A time that when a substrate wastefully stays at an inspection module is reduced, and the throughput of the coating/developing apparatus is improved. A coating/developing apparatus is provided with a plurality of inspection modules having different times required for inspecting substrates, which have been processed at a process station, at an inspection station for receiving the substrate and transferring them to a carrier station; a buffer unit for having the substrate temporarily stay; and a substrate transfer means of which operation is controlled by a control section. While the inspection module processes the substrate, a subsequent substrate to be inspected by the inspection module is transferred to the buffer unit by the substrate transfer means to stay at the buffer unit. Thus, the stay of the substrate at the inspection module is suppressed and the throughput can be improved.

Abstract translation: 当基板浪费地停留在检查模块时的时间减少，并且提高了涂布/显影装置的生产量。 涂布显影装置具有多个检查模块，该检查模块具有在检测站处理的基板的检查所需时间不同的时间，用于接收基板并将其传送到承载站; 用于使衬底暂时停留的缓冲单元; 以及由控制部控制操作的基板转印单元。 当检查模块处理衬底时，由检查模块检查的随后的衬底被衬底转移装置转移到缓冲单元以停留在缓冲单元上。 因此，能够抑制基板在检查模块的滞留，能够提高生产率。

公开(公告)号：KR101266735B1

公开(公告)日：2013-05-28

申请号：KR1020097007376

申请日：2007-09-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시따까 ,  가네꼬도모히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67276

Abstract: 본발명은검사모듈로기판이불필요하게체류하는시간을삭감하고, 이에의해도포, 현상장치의처리량을향상시킬수 있는기술을제공하는것이다. 처리스테이션에서처리를받은기판을, 캐리어스테이션으로전달하는검사스테이션에있어서, 검사에필요로하는시간이서로상이한복수의검사모듈과, 기판을일시적으로체류시키는버퍼유닛과, 제어부에의해그 동작이제어되는기판반송수단이마련되고, 검사모듈이기판의처리를행하는동안, 후속의, 그검사모듈에의한검사대상으로되어있는기판은상기기판반송수단에의해버퍼유닛으로반송되어체류됨으로써, 검사모듈에있어서의기판의체류를억제하여처리량의향상을도모할수 있다.

公开(公告)号：KR1020130025826A

公开(公告)日：2013-03-12

申请号：KR1020120095423

申请日：2012-08-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까시마도모히로 ,  이노우에신 ,  하라요시따까 ,  하세가와이즈미 ,  오가따구니에 ,  모리다꾸야

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67288

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method and a storage medium are provided to improve the process efficiency for substrates by using only the normal nozzle for a liquid process. CONSTITUTION: A liquid process unit(2) includes nozzles and a liquid process module(20). A transfer unit(4) moves a substrate to a process block. A monitoring unit detects the discharging state of the nozzles. A control unit selects normal nozzles among the nozzles to perform a liquid process on the substrate. [Reference numerals] (2) Liquid process module; (3) Inspection module; (A2) Liquid process unit; (C1) Carrier block; (C2) Process block; (C3) Interface block; (C4) Exposing block; (C5) Inspection block

Abstract translation: 目的：提供基板处理装置，基板处理方法和存储介质，以通过仅使用用于液体处理的普通喷嘴来提高基板的处理效率。 构成：液体处理单元（2）包括喷嘴和液体处理模块（20）。 传送单元（4）将基板移动到处理块。 监视单元检测喷嘴的排出状态。 控制单元选择喷嘴中的普通喷嘴，以在基板上进行液体处理。 （附图标记）（2）液体处理模块; （3）检验模块; （A2）液体处理单元; （C1）载体块; （C2）过程块; （C3）接口块; （C4）暴露块; （C5）检验块

公开(公告)号：KR101743303B1

公开(公告)日：2017-06-02

申请号：KR1020110143378

申请日：2011-12-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야따아끼라 ,  하라요시따까 ,  후지무라고오지

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 본발명의과제는기판에도포액을도포하는장치에있어서, 기판의로트의전환시에, 후속로트의기판의처리로빠르게이행할수 있는기술을제공하는것이다. 선행로트(A)용레지스트토출노즐(N1)과후속로트(B)용레지스트토출노즐(N2)이공통의이동기구에의해일체로되어, 도포처리부(1a, 1b)와노즐버스(5) 사이를이동하고, 또한사용하고있지않은레지스트토출노즐의선단부에, 시너층(T)이 2개의공기층에의해끼워진층 구조를형성하는경우에, 선행로트(A)의최후의웨이퍼(WA25)에대해노즐(N1)로부터레지스트액(RA)을공급한후, 노즐(N1)을노즐버스(5)로이동하는공정과더불어, 노즐(N1)에공기를흡입시켜당해노즐(N1) 내에제1 공기층을형성한다. 또한, 노즐(N2)을후속로트(B)의선두의웨이퍼(WB)의상방으로이동시키는공정에더불어, 노즐(N2)에공기를흡입시켜당해노즐(N2) 내에제2 공기층을형성한다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是提供一种用于在大量的所述基板的转换时将涂敷液施加到基材上，可以很快的装置转移到随后的许多基片的处理的技术。 前面批次（A）的抗蚀剂喷嘴（N1）和后续的很多（B）的抗蚀剂喷射喷嘴（N2）用于此通过在共同的，涂层处理单元移动机构被集成（1A，1B）和喷嘴总线（5）之间 并且，在未使用的抗蚀剂喷出喷嘴的前端的两个空气层夹着薄层T的厚度， 从喷嘴（N1）供给抗蚀剂溶液（RA），与喷嘴（N1）移动至喷嘴总线5的步骤中，通过吸入egong其喷嘴内的第一空气层的喷嘴（N1）之后（N1） 形式。 此外，利用移动喷嘴（N 2）到随后的许多装备室的晶片（WB）（B）的顶部的步骤中，以形成在本领域，以组吸嘴（N2）egong喷嘴（N2）中的第二空气层。

公开(公告)号：KR101195712B1

公开(公告)日：2012-10-29

申请号：KR1020110005657

申请日：2011-01-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기시따나오후미 ,  후지무라고오지 ,  하라요시따까

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/08

CPC classification number: B05D1/02 ,  B05C11/00 ,  B05D1/00 ,  B05D1/30

Abstract: 본 발명의 과제는 기판에 액처리를 행하는 액처리 장치에 있어서, 장치를 구성하는 각 부를 사용할 수 없는 상태로 되었을 때에 처리량의 저하를 억제할 수 있는 장치를 제공하는 것이다.
제1 노즐, 제2 노즐을 구비한 액처리 장치를 구성한다. 이 액처리 장치에 있어서, 통상 시에는 제1 컵군과 제2 컵군 사이에서 교대로 기판을 전달하고, 양 컵군에 있어서 컵이 순서대로 사용되도록 기판 반송 기구를 제어하는 동시에, 기판 보유 지지부, 처리액 공급계 또는 노즐 지지 기구를 사용할 수 없는 상태로 된 것에 의해 제1 컵군 및 제2 컵군의 한쪽에 있어서 기판의 처리를 할 수 없는 상태로 되었을 때에, 당해 한쪽의 컵군 중 사용 가능한 컵에 의해 기판을 처리하기 위해, 다른 쪽의 컵군을 담당하는 노즐이 이동한다.

公开(公告)号：KR1020080025336A

公开(公告)日：2008-03-20

申请号：KR1020070093527

申请日：2007-09-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시따까

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67225 ,  G03F7/30

Abstract: A system and a method for processing liquids, and a storage medium are provided to obtain high throughput by reducing a wait time required for utilization of a nozzle part based on the holding of another module. A system for processing liquids includes even numbered modules, a nozzle unit, a moving unit(B), substrate carrier units(A1,A2,A3,A4), and a controller(100). The modules include a substrate supporting unit for supporting horizontally a substrate and a cup unit for surrounding the substrate supporting unit. The nozzle unit shared at divided groups of the modules sprays treatment liquids on the substrate. The moving unit moves the nozzle unit between respective modules. The substrate carrier units deliver the substrate between the modules. The controller controls the substrate carrier units to be delivered the substrate to another group except for the group delivered the substrate.

Abstract translation: 提供一种用于处理液体的系统和方法以及存储介质，以通过基于另一模块的保持减少使用喷嘴部分所需的等待时间来获得高产量。 用于处理液体的系统包括偶数编号的模块，喷嘴单元，移动单元（B），基板载体单元（A1，A2，A3，A4）和控制器（100）。 模块包括用于水平地支撑基板的基板支撑单元和用于围绕基板支撑单元的杯单元。 分组的模块共享的喷嘴单元喷射基板上的处理液。 移动单元在相应模块之间移动喷嘴单元。 衬底载体单元在模块之间传送衬底。 该控制器控制基板载体单元将基板输送到另一组，除了传送基板的组之外。

公开(公告)号：KR1020080012187A

公开(公告)日：2008-02-11

申请号：KR1020070076214

申请日：2007-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시따까

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67276 ,  G02F1/1303 ,  G05B19/41865 ,  G05B2219/31428 ,  G05B2219/32097 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/67745 ,  Y02P90/20 ,  H01L21/6715

Abstract: A deposition and development apparatus is provided to improve throughput when the heating temperature of a second heating unit transferred after a second deposition unit is varied, by including a carrier having a plurality of substrates, a carrier block having an exchange unit for exchanging substrates between carriers, and a process block for developing the substrate after exposing while forming a deposition layer on a received substrate from the exchanging unit. When a wafer is sequentially transferred to a temperature control unit, a deposition unit, a heating unit, a temperature control unit, a deposition unit, a heating unit and a cooling unit, a final wafer in a lot A is processed to be changed to a heating temperature of a corresponding heating unit. A wafer heated by a heating unit is sequentially filled in a retreat unit from a next transfer cycle of a transfer cycle in which the front wafer in a lot B is transferred to a temperature control unit, following the front wafer. After the temperature of the heating unit varies, the wafer in the retreat unit is sequentially transferred to a downstream module.

Abstract translation: 提供了一种沉积和显影装置，用于通过包括具有多个基板的载体，具有用于在载体之间更换基板的交换单元的载体块来提高在第二沉积单元之后转移的第二加热单元的加热温度时的生产量 以及用于在曝光之后显影衬底的处理块，同时从所述交换单元在接收的衬底上形成沉积层。 当将晶片顺序地转移到温度控制单元，沉积单元，加热单元，温度控制单元，沉积单元，加热单元和冷却单元时，处理批次A中的最终晶片以改变为 加热单元的加热温度。 由加热单元加热的晶片从转移循环的下一个转移循环中顺序地填充到后退单元中，其中批次B中的前晶片转移到遵循前晶片的温度控制单元。 在加热单元的温度变化之后，退避单元中的晶片被顺序地转移到下游模块。

公开(公告)号：KR101449117B1

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：KR1020120095423

申请日：2012-08-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까시마도모히로 ,  이노우에신 ,  하라요시따까 ,  하세가와이즈미 ,  오가따구니에 ,  모리다꾸야

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67288

Abstract: 본 발명의 과제는, 기판의 로트에 대응하는 처리액의 종별마다 준비된 복수의 노즐을 포함하는 액처리부를 구비한 액처리 장치에 있어서, 액처리부에 발생한 트러블에 대하여 처리 효율의 저하를 억제할 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
하나의 로트의 웨이퍼(W)의 액처리에 사용하는 약액 노즐(25a)에 있어서 트러블이 발생한 경우에, 그 하나의 로트에 대응하는 약액 노즐(25a)의 사용을 정지하고, 당해 약액 노즐(25a)과는 다른 약액 노즐(25b)을 사용하여 처리를 행하는 다음 로트에 대해서는 처리를 행하는 것으로 한다. 약액 노즐에 있어서의 트러블 발생의 판단에 대해서는, 처리한 각 웨이퍼(W)의 액처리 상태를 순차적으로 검사하여 그 양부를 판정하고, 동일한 약액 노즐을 사용하여 다른 액처리부(COT1 내지 COT3)에서 처리된 웨이퍼(W)에 있어서, 예를 들어 3회 연속으로 불량 판정으로 된 경우에, 약액 노즐에 있어서의 트러블 발생이라고 판단한다.

Abstract translation: 发明内容本发明的目的在于提供一种液体处理装置，该液体处理装置具备液体处理部，该液体处理部具备：针对与多个基板对应的各种处理液而准备的多个喷嘴; 提供技术。