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公开(公告)号：KR1020170098695A
公开(公告)日：2017-08-30
申请号：KR1020170018163
申请日：2017-02-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/66 , H01L21/67 , G03F7/20 , G03F7/40
CPC classification number: H01L21/0274 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/2028 , G03F7/26 , G06T7/0008 , G06T7/60 , G06T2207/30148 , H01L21/6715 , H01L21/67173 , H01L21/67253 , H01L21/67288 , H01L21/681 , H01L21/68714 , H01L22/12 , H01L22/20
Abstract: 웨이퍼가휨을갖는경우이더라도당해웨이퍼의주연에대하여적절한처리를행한다. 웨이퍼의처리방법은, 휨량이기지인기준웨이퍼의주연전체주위에걸쳐기준웨이퍼의단부면을카메라에의해촬상하고, 기준웨이퍼의단부면의형상데이터를기준웨이퍼의주연전체주위에걸쳐취득하는공정과, 웨이퍼의주연전체주위에걸쳐웨이퍼의단부면을카메라에의해촬상하고, 웨이퍼의단부면의형상데이터를웨이퍼의주연전체주위에걸쳐취득하는공정과, 각형상데이터에기초하여웨이퍼의휨량을산출하는공정과, 웨이퍼의표면에레지스트막을형성하는공정과, 레지스트막의주연부에대한유기용제의공급위치를당해휨량에기초하여결정하고, 당해공급위치로부터공급되는유기용제에의해당해주연부를녹여서웨이퍼위로부터제거하는제7 공정을포함한다.
Abstract translation: 即使晶片发生翘曲，也会在晶片周围进行适当的处理。 晶片的处理，弯曲量的步骤中拾取通过在基准晶片基座到照相机的整个圆周周围的基准晶片的端面，并且获取在基准晶片的周围的基准晶片的整个外周端面形状数据 通过照相机在晶片的整个外围拾取晶片的端面并获取晶片的整个外围周围的晶片的端面的形状数据的步骤; 计算步骤中，并且形成在晶片的表面上的工序的抗蚀剂膜，在本领域中的有机溶剂对通过基于翘曲量的抗蚀剂膜，以所述周缘的进料位置，在本领域是通过从现有技术的供给位置供给有机溶剂溶解周边晶片 第七步从上面删除。
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公开(公告)号：KR1020110128231A
公开(公告)日：2011-11-29
申请号：KR1020110036902
申请日：2011-04-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67253 , H01L21/6715 , H01L21/0274 , G03F7/16
Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus is provided to improve the accuracy of image pickup by irradiating laser to an area between the end of a nozzle and a wafer surface. CONSTITUTION: A processing solution nozzle forms a flow path of process solutions. A light source irradiates light to an area between the leading tip(10d) of the nozzle and the substrate surface. An image pickup unit(17) picks up an area between the nozzle and the substrate surface. A control unit outputs a discharge signal for discharging the process solutions from the nozzle to the substrate and controls the image pickup unit. A determining unit determines the discharge variation of coating solutions from the nozzle based on the image process or process result of a camera.
Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置，通过对喷嘴的端部和晶片表面之间的区域照射激光来提高图像拾取的精度。 构成：处理溶液喷嘴形成工艺解决方案的流路。 光源将光照射到喷嘴的前端（10d）和基板表面之间的区域。 图像拾取单元（17）拾取喷嘴和基板表面之间的区域。 控制单元输出用于将处理液从喷嘴排出到基板的放电信号，并控制图像拾取单元。 确定单元基于相机的图像处理或处理结果确定来自喷嘴的涂布溶液的排出变化。
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公开(公告)号：KR1020170098694A
公开(公告)日：2017-08-30
申请号：KR1020170018051
申请日：2017-02-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G03F7/20 , H01L21/66 , H01L21/027
CPC classification number: H04N7/183 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N2021/8812 , G06T7/0004 , G06T2207/30148 , H04N5/2256
Abstract: 기기트러블을억제하면서, 기판촬상장치의소형화및 저비용화를도모한다. 검사유닛(U3)은웨이퍼(W)를유지하여회전시키도록구성된유지대와, 유지대의회전축에대해경사짐과함께, 유지대에유지된웨이퍼(W)의단부면(Wc)과이면(Wb)의주연영역(Wd)에대향하는반사면(432)을갖는미러부재(430)와, 유지대에유지된웨이퍼(W)의표면(Wa)의주연영역(Wd)으로부터의광과, 유지대에유지된웨이퍼(W)의단부면(Wc)으로부터의광이미러부재(430)의반사면(432)에서반사된반사광이모두렌즈를통해입력되는촬상소자를갖는카메라를구비한다.
Abstract translation: 衬底图像拾取装置可以小型化并降低成本，同时抑制装置故障。 检查单元U3具备保持晶圆W以及保持在保持台上的晶圆W的端面Wc和背面Wb并使其旋转的保持台， 具有与晶片W的周边区域Wd相对的反射面432，来自保持在保持基座上的晶片W的表面Wa的周边区域Wd的光， 并且，从反射镜部件430所保持的晶圆W的端面Wc反射并被反射镜部件430的反射面432反射的光通过透镜入射的摄像元件。
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公开(公告)号：KR101605923B1
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：KR1020110036902
申请日：2011-04-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67253 , H01L21/6715
Abstract: 본발명은처리액노즐로부터의처리액의토출의유무및 처리액노즐로부터토출되는처리액의토출상태의변화의유무를정확하게판정할수 있는액 처리장치를제공하는것을과제로한다. 기판(W)의표면에, 처리액공급부(7)로부터도포액(R)을공급하여기판의표면을향해토출시켜액 처리를하는액 처리장치에있어서, 처리액의유로(10e)를형성한노즐(10)과, 노즐의선단부(10d)로부터기판표면(W1) 사이의영역에광(L)을조사하는광원(110)과, 노즐과기판표면사이의영역을촬상하는촬상부(17)와, 노즐로부터기판을향해처리액을토출하기위한토출신호를출력하고촬상부에의해촬상을개시시키는제어부(9a)와, 기판을향해토출되는처리액내에광이입사되어처리액에반사되었을때의광의명암을촬상하는촬상결과에기초하여식별함으로써, 노즐로부터의처리액의토출의유무및 노즐로부터토출되는처리액의토출상태의변화의유무를판정하는판정부(9b)를구비한다.
Abstract translation: 本发明将是零，并且，提供一种能够准确地确定存在或不存在于从处理液喷嘴喷出的处理液的排出状态变化，和处理液喷嘴robuteoui处理液的喷出的存在或不存在液体处理装置。 一种液体处理装置，用于从处理液供给单元（7）向基板（W）的表面供给涂敷液（R），并且将液体喷射到基板的表面上以执行液体处理， 用于将光L照射到喷嘴的顶端10d和基板表面W1之间的区域的光源110和用于对喷嘴和基板表面之间的区域进行成像的成像单元17， 并且，当放电信号的输出用于排出朝向从喷嘴向基板的处理液，和所述光进入处理液向基板和所述控制部（9A）喷出，用于启动由所述图像拾取部分的图像拾取反映在处理溶液 并且确定是否有从喷嘴排出的处理液以及从喷嘴排出的处理液的排出条件是否改变。
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