公开(公告)号：KR1020170098694A

公开(公告)日：2017-08-30

申请号：KR1020170018051

申请日：2017-02-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고가노리히사 ,  니시야마다다시 ,  노다야스아키

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/66 ,  H01L21/027

CPC classification number: H04N7/183 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/9501 ,  G01N2021/8812 ,  G06T7/0004 ,  G06T2207/30148 ,  H04N5/2256

Abstract: 기기트러블을억제하면서, 기판촬상장치의소형화및 저비용화를도모한다. 검사유닛(U3)은웨이퍼(W)를유지하여회전시키도록구성된유지대와, 유지대의회전축에대해경사짐과함께, 유지대에유지된웨이퍼(W)의단부면(Wc)과이면(Wb)의주연영역(Wd)에대향하는반사면(432)을갖는미러부재(430)와, 유지대에유지된웨이퍼(W)의표면(Wa)의주연영역(Wd)으로부터의광과, 유지대에유지된웨이퍼(W)의단부면(Wc)으로부터의광이미러부재(430)의반사면(432)에서반사된반사광이모두렌즈를통해입력되는촬상소자를갖는카메라를구비한다.

Abstract translation: 衬底图像拾取装置可以小型化并降低成本，同时抑制装置故障。 检查单元U3具备保持晶圆W以及保持在保持台上的晶圆W的端面Wc和背面Wb并使其旋转的保持台， 具有与晶片W的周边区域Wd相对的反射面432，来自保持在保持基座上的晶片W的表面Wa的周边区域Wd的光， 并且，从反射镜部件430所保持的晶圆W的端面Wc反射并被反射镜部件430的反射面432反射的光通过透镜入射的摄像元件。

公开(公告)号：KR1020010082581A

公开(公告)日：2001-08-30

申请号：KR1020000076997

申请日：2000-12-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타노다카히로 ,  모리카와마사테루 ,  에사키유키히코 ,  이시자카노부카즈 ,  고가노리히사 ,  다케시타가즈히로 ,  오쿠마히로후미 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: PURPOSE: A film forming unit is provided to apply the resist solution linearly on the wafer when it moves along the guide shaft. Meanwhile the wafer which is supported horizontally is moved by another drive mechanism in a direction perpendicular to the direction in which the discharge nozzle slides. CONSTITUTION: The film forming unit comprises moving means(86) for moving a discharge nozzle(85), wherein the moving means(86) includes a support member for supporting the discharge nozzle(85), a moving member for moving support member, a guide shaft passing through bearing portion formed in the supporting member, and a gas supplying part for supplying gas into a space between the bearing portion and guide shaft.

Abstract translation: 目的：提供一种成膜单元，当其沿着导向轴移动时，将抗蚀剂溶液线性地施加到晶片上。 同时水平支撑的晶片在垂直于排出喷嘴滑动方向的另一驱动机构上移动。 构成：成膜单元包括用于移动排放喷嘴（85）的移动装置（86），其中移动装置（86）包括用于支撑排放喷嘴（85）的支撑构件，用于移动支撑构件的移动构件， 引导轴穿过形成在支撑构件中的支承部分，以及气体供应部分，用于将气体供应到轴承部分和引导轴之间的空间中。

公开(公告)号：KR100954895B1

公开(公告)日：2010-04-27

申请号：KR1020040029410

申请日：2004-04-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고바야시신지 ,  고가노리히사

IPC: H01L21/30

CPC classification number: H01L21/6708 ,  Y10S134/902 ,  Y10T156/1111 ,  Y10T156/1928 ,  Y10T156/1989

Abstract: 각형(角形)기판의 각부(角部)에서의 박막제거면의 직진성을 얻을 수 있고, 또한 미스트의 발생을 억제하는 박막제거장치 및 박막제거방법을 제공한다.
얹어놓음대(22)에 놓여지는 기판(M)의 둘레가장자리부에 근접하여, 기판표면과 대략 동일평면의 평탄보조부(23)를 가진 보조스테이지(20)를 배열설치하고, 이동기구(40)의 구동에 의해서 제거 노즐(30)을, 기판(M)의 둘레가장자리부 및 이에 근접하는 보조스테이지(20)를 따라 이동시키면서 기판(M)의 둘레가장자리부를 향해 용제를 분사하는 동시에, 용해물을 흡인함으로써, 용제의 공급과 흡인상태를 바꾸지 않고 기판(M)의 변부(邊部)에서 각부(角部)에 걸쳐 제거 노즐(30)로부터 용제를 균일하게 공급하는 동시에, 용해물을 흡인한다. 이에 따라, 기판 (M)의 각부에서의 박막제거면의 직진성을 얻을 수 있는 동시에, 미스트의 발생을 억제할 수가 있다.

公开(公告)号：KR1020040098526A

公开(公告)日：2004-11-20

申请号：KR1020040029410

申请日：2004-04-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고바야시신지 ,  고가노리히사

IPC: H01L21/30

CPC classification number: H01L21/6708 ,  Y10S134/902 ,  Y10T156/1111 ,  Y10T156/1928 ,  Y10T156/1989

Abstract: PURPOSE: An apparatus for eliminating a thin film is provided to obtain straightness of a thin film removing surface at an angled part of a substrate and control generation of mist by uniformly supplying a solvent from a thin film eliminating unit to an angled part and an edge part of a substrate without varying the supply and absorption states of the solvent while absorbing a melted material. CONSTITUTION: A substrate(M) is placed on a placement unit(22). A sub stage(20) is disposed in a position adjacent to the edge part of the substrate placed on the placement unit while the sub stage has a flat sub part(23) of almost the same plane as the surface of the substrate. A thin film removing unit injects a solvent toward the edge of the substrate placed on the placement unit while absorbing a melted material. A transfer unit(40) transfers the thin film removing unit along the edge of the substrate and the sub stage adjacent to the edge of the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种用于消除薄膜的装置，以在基板的倾斜部分处获得薄膜去除表面的平直度，并且通过从薄膜消除单元均匀地将溶剂供应到成角度的部分和边缘来控制雾气的产生 在不改变溶剂的供应和吸收状态的同时吸收熔融材料的基板的一部分。 构成：将衬底（M）放置在放置单元（22）上。 副台（20）设置在与放置单元的基板的边缘部分相邻的位置，而副台具有与基板的表面几乎相同的平面的子部分（23）。 薄膜去除单元在吸收熔融材料的同时将溶剂注入放置在放置单元上的基板的边缘。 传送单元（40）沿着基板的边缘和与基板的边缘相邻的副台传送薄膜去除单元。

公开(公告)号：KR101849411B1

公开(公告)日：2018-04-16

申请号：KR1020120045224

申请日：2012-04-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히사노가즈야 ,  도미따히로시 ,  고가노리히사 ,  니시야마다다시 ,  하야까와마꼬또

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01N21/956 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/93 ,  G01N21/9501 ,  G01N2021/9513 ,  G06T7/0004

Abstract: 본발명의과제는검사용기판을사용하는일 없이조명부의조도의저하에의한검사의문제가발생하는것을방지할수 있는기술을제공하는것이다. 하우징내에설치된적재대에적재된기판을피사체로서촬상하여검사를행하는검사모드와, 조명부의조도를확인하기위한메인터넌스모드사이에서모드를선택하기위한모드선택부와, 상기하우징내에설치되어, 상기조명부의광을촬상부의촬상소자에도광하기위한도광부재와, 메인터넌스모드실행시에상기도광부재를통해촬상소자에의해취득한조명부의광의휘도가, 미리설정된허용범위내인지여부를판정하는판정부와, 상기판정부에의해상기휘도가상기허용범위로부터벗어나있다고판정되었을때에조명부의교환을필요로하는것을통지하기위한통지부를구비하도록기판검사장치를구성한다.

公开(公告)号：KR1020040017271A

公开(公告)日：2004-02-26

申请号：KR1020047000004

申请日：2002-07-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고바야시신지 ,  기타노다카히로 ,  모리카와마사테루 ,  이시자카노부카즈 ,  고가노리히사 ,  미나미도모히데 ,  스기모토신이치 ,  오쿠라준 ,  구리시마히로아키

IPC: H01L21/20

CPC classification number: H01L21/67253 ,  B05C5/0216 ,  B05C5/0291 ,  B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: 미리 제품기판과 같은 기판에 대하여 노즐에 의해 스캔하면서 도포액을 공급하여 도포액의 선을 형성하여, 이것을 예를 들어 CCD 카메라로 촬상하여 도포액의 접촉각을 구하여, 이 접촉각에 기초하여 기하학 모델을 이용하여, 실제 도포를 할 때의 스캔속도에 있어서의 도포액 노즐의 토출유량과, 피치의 허용범위와의 관계데이터를 구한다. 그리고 미리 목표막두께마다 도포액 노즐의 토출유량과 피치와의 관계 데이터를 작성해 두고, 양자의 관계데이터에 기초하여 피치를 결정한다.

公开(公告)号：KR1020030023498A

公开(公告)日：2003-03-19

申请号：KR1020020053729

申请日：2002-09-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타노다카히로 ,  가와후치요시유키 ,  고가노리히사 ,  다케이도시치카

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: PURPOSE: To prevent the adhesion of particles to the surface of a substrate and to enhance the yield of a coating film formed on the surface of the substrate in an apparatus for supplying a chemical liquid to the substrate to form the liquid film of the chemical liquid. CONSTITUTION: A plate having a slit is provided between a nozzle part movable in a left and right direction and the substrate held by a substrate holding part movable in a forward and rearward direction and impact relaxing parts for suppressing the generation of mist from a coating liquid supplied to the outside of the slit are provided to the left and right ends of the slit and a pair of shutters capable of washing off the coating liquid received by the surface thereof are provided. A suction port is provided at the position in the vicinity of the slit over the range corresponding to the moving region of the nozzle part to suck mist generated at the time of scanning coating of the nozzle part. Further, a slit for dispersing a falling flow to the outside of the slit is provided to the plate.

Abstract translation: 目的：为了防止颗粒附着在基材表面，并提高在基材表面上形成的涂膜的产率，在用于向基材供给化学液体的装置中形成药液的液膜 。 构成：具有狭缝的板设置在可沿左右方向移动的喷嘴部分和由可沿前后方向移动的基板保持部保持的基板之间，并且用于抑制从涂布液产生雾的缓冲部件 提供给缝隙的外侧的狭缝设置在缝隙的左端和右端，并且提供能够洗涤其表面所接收的涂布液的一对百叶窗。 在与喷嘴部的移动区域对应的范围内的狭缝附近的位置处设置吸入口，以吸收在喷嘴部的扫描涂布时产生的雾。 此外，在板上设置用于将下落流分散到狭缝外侧的狭缝。

公开(公告)号：KR101605698B1

公开(公告)日：2016-03-23

申请号：KR1020110068788

申请日：2011-07-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고가노리히사

IPC: H01L21/66 ,  G01N21/956 ,  G01B11/30 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67288

Abstract: 주변노광처리후의기판의검사를적절히행하면서, 당해검사를포함한기판처리의스루풋을향상시킨다. 웨이퍼처리장치(42)는, 웨이퍼(W)를보지하는보지부(120)와, 보지부(120)를회전시키고또한전달위치(P1)와주변노광위치(P2) 간에보지부(120)를이동시키는구동부(121)와, 주변노광위치(P2)에서웨이퍼(W)의주연부를노광하는노광부(140)와, 노광부(140)의상방에설치되고웨이퍼(W)를촬상하는촬상부(150)와, 보지부(120)에보지된웨이퍼(W)와촬상부(150) 간에형성되는광로의방향을변경시키는방향변환부(153)를가지고있다. 방향변환부(153)는제 1 반사경(154), 제 2 반사경(155) 및제 3 반사경(156)을가지고, 제 2 반사경(155) 및제 3 반사경(156)에의해웨이퍼(W)와촬상부(150) 간에형성되는광로가되돌아온다.

公开(公告)号：KR1020130089176A

公开(公告)日：2013-08-09

申请号：KR1020130000614

申请日：2013-01-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고가노리히사

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/24

Abstract: PURPOSE: An edge exposing apparatus, an edge exposing method, and a storage medium are provided to prevent the edge of a thin film from being swelled by preventing an exposure out of a light radiation region. CONSTITUTION: A stage unit (10) moves along a guide device (15). The stage unit includes a moving unit (14), a rotating unit (13), a rotary shaft (12), and a rotary stage (11). The rotary stage horizontally maintains a substrate. An exposing unit radiates light for an exposure to the edge of a substrate maintained on the rotary stage. An edge detector (3) optically detects the edge of the substrate maintained on the rotary stage.

Abstract translation: 目的：提供边缘曝光装置，边缘曝光方法和存储介质，以防止通过防止光辐射区域的曝光而使薄膜的边缘膨胀。 构成：台架单元（10）沿导向装置（15）移动。 舞台单元包括移动单元（14），旋转单元（13），旋转轴（12）和旋转台（11）。 旋转台水平地保持基板。 曝光单元辐射光以暴露于保持在旋转台上的基板的边缘。 边缘检测器（3）光学地检测保持在旋转台上的基板的边缘。

公开(公告)号：KR100600924B1

公开(公告)日：2006-07-13

申请号：KR1020000076997

申请日：2000-12-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타노다카히로 ,  모리카와마사테루 ,  에사키유키히코 ,  이시자카노부카즈 ,  고가노리히사 ,  다케시타가즈히로 ,  오쿠마히로후미 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 본 발명은 토출노즐로부터 기판상에 도포액을 공급하여 이 기판상에 막을 형성하는 막형성장치로서, 상기 토출노즐을 이동시키는 이동수단을 구비하여, 상기 이동수단, 상기 토출노즐을 지지하는 지지부재와, 상기 지지부재를 이동시키는 이동부재와, 상기 지지부재에 형성된 축받이부를 지나는 가이드축과 상기 축받이부와 상기 가이드축의 틈에, 기체를 공급하는 기체공급기구를 구비하고 있다.
토출노즐은 가이드축으로 따라 이동하면서 도포액을 토출한다. 기판상에서는, 토출노즐의 이동궤적에 따른 도포액의 도포가 행하여진다. 축받이부와 가이드축의 틈에, 기체공급기구로부터 기체가 공급되기 때문에, 가이드축으로 대하여 지지부재를 중공부상시킨 상태로 할 수 있다. 따라서, 축받이부와 가이드축에 기계적인 접촉이 없으므로, 접동저항이 거의 생기지 않는다. 그 결과, 토출노즐을 고속으로 이동시키더라도, 접동저항에 의한 진동을 억제할 수 있고, 토출노즐의 미동에 의해 도포액 토출이 흐트러지는 것은 없고, 소정의 도포액의 도포가 정확히 행하여진다.