公开(公告)号：KR1020030014615A

公开(公告)日：2003-02-19

申请号：KR1020020046516

申请日：2002-08-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다노우에신야 ,  이와사키다쓰야 ,  오쓰카요시타카 ,  사가라노리히데 ,  구마가이노리토시 ,  하야시신야

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/13 ,  H01L21/6773 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/68 ,  Y10S414/14

Abstract: PURPOSE: A substrate carrier, a substrate processing system and a substrate carrying method are provided to detect the positional shift of a substrate in the direction orthogonal to the advancing/retracting direction through the simple structure without requiring an extra drive mechanism, and to correct the positional shift of the substrate by using the substrate processing system. CONSTITUTION: When a substrate(G) is taken out from a cassette(C) by pulling a pincette and the pincette is pulled, a sensor(9) located at position(P) before the substrate is taken out is moved to pass one side(Ga) of the substrate while drawing a locus T. Consequently, the position of a held substrate in the direction (Y direction) orthogonal to the advancing/retracting direction of the pincette is calculated from the timing for receiving reflected light when the sensor is moved through one side and the number of rotational pulses of a motor. The positional shift is detected by comparing the timing with the timing when the substrate is held at the normal position of the pincette.

Abstract translation: 目的：提供基板载体，基板处理系统和基板承载方法，以通过简单的结构检测基板在与前进/后退方向正交的方向上的位置偏移，而不需要额外的驱动机构，并且校正 通过使用基板处理系统的基板的位置偏移。 构成：当通过拉动卡扣并拉出卡扣来从盒（C）中取出基板（G）时，将取出基板之前的位于（P）的传感器（9）移动通过一侧 （Ga），从而根据传感器的接收反射光的定时计算保持的基板在与pincette的前进/后退方向正交的方向（Y方向）上的位置 通过一侧移动和电动机的旋转脉冲数。 通过将定时与基板保持在卡通的正常位置的定时进行比较来检测位置偏移。

公开(公告)号：KR100380646B1

公开(公告)日：2003-08-06

申请号：KR1019970037948

申请日：1997-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오타요시하루 ,  요시다마사아키 ,  다노우에신야 ,  이와사키다쓰야

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67748 ,  H01L21/67242 ,  H01L21/67259

Abstract: A processing system for processing a substrate. The processing system includes a plurality of processing machines, a machine movable along a transfer path for transferring the substrate to the machines, a drive unit for driving the machine, and a control unit. The control unit includes a memory for storing a teaching threshold in a teaching mode and a practical operation threshold in a practical operation mode that is higher than the teaching threshold when a moving parameter of the drive unit exceeds a given value. The control unit also includes a controller monitoring a parameter representing a moving state of the drive unit to stop the drive unit when the parameter exceeds the practical operation threshold in the practical operation mode or when the parameter exceeds the teaching threshold in the teaching mode.

Abstract translation: 一种处理基板的处理系统。 该处理系统包括多个处理机器，能够沿传送路径移动以将基板传送到机器的机器，用于驱动机器的驱动单元以及控制单元。 控制单元包括存储器，用于存储示教模式下的示教阈值和实际操作模式下的实际操作阈值，当驱动单元的移动参数超过给定值时，该实际操作阈值高于示教阈值。 控制单元还包括控制器，该控制器在实际操作模式中当参数超过实际操作阈值时或者当参数在示教模式中超过教学阈值时，监视表示驱动单元的移动状态的参数以停止驱动单元。

公开(公告)号：KR101847219B1

公开(公告)日：2018-04-09

申请号：KR1020120026703

申请日：2012-03-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오츠카요시타카 ,  요시토미와타루 ,  다노우에신야 ,  요네오카세이지

IPC: H01L21/027

Abstract: [과제] 슬릿형상의노즐토출구로부터피처리기판에대해서처리액을토출하여, 도포막을형성하는도포막형성방법에있어서, 노즐토출구의비드량및 노즐토출구로부터의토출압력의변화에관계없이, 현장오퍼레이터의숙련도에의존하지않고, 안정된막두께형성을행할수 있어, 기판에형성되는도포막의유효면적을광범위한것으로한다. [해결과제] 경과시간 Ts에서의추정막두께 Th는, 식(1)에의해규정되고, 상기식(1)의추정막두께 Th에목표막두께를대입하여, 기판(G)의상대적이동속도 V를변수로함으로써, 경과시간 Ts마다상기기판의상대적이동속도 V를구하는스텝과, 상기경과시간 Ts마다구해진상기기판의상대적이동속도 V에따라, 노즐토출구에대한상기기판의상대적이동속도를제어하는스텝을포함한다.

Abstract translation: 一种从狭缝状的喷嘴排出口向被处理基板排出处理液而形成涂膜的方法，其特征在于，包括： 可以形成稳定的膜厚而不依赖于基板的技术水平，并且在基板上形成的涂膜的有效面积变宽。 经过时间Ts的估计膜厚Th由公式（1）定义，并且目标膜厚代替公式（1）中的估计膜厚Th， 通过一个变量，根据基片的相对移动速度V的经过时间为每个TS以获得基片步骤的一个相对移动速度V，在各经过时间Ts而得到，用于控制衬底相对于所述相对移动速度与喷嘴排放口 以及步骤。

公开(公告)号：KR1019980018526A

公开(公告)日：1998-06-05

申请号：KR1019970037948

申请日：1997-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오타요시하루 ,  요시다마사아키 ,  다노우에신야 ,  이와사키다쓰야

IPC: H01L21/68

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
LCD기판이나 반도체웨이퍼 등의 기판을 반송하기 위한 기판반송장치의 인터로크장치에 관한 것이다.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
스루풋을 향상시킬 수 있고, 또한 안전성이 높은 기판반송장치의 인터로크기구를 얻는다.
3. 발명의 해결방법의 요지
LCD기판 등을 이송하기 위한 반송장치의 아암을 구동시키는 구동유니트와, 아암의 이동상태를 감시하기 위하여 구동유니트의 동작상태를 감시하고, 이 동작상태가 규정치를 넘으면 구동유니트를 정지시키는 기능 및 규정치를 아암의 위치적 조정을 행하는 티칭모드와 반송장치를 생산운전하는 생산운전모드로 선택적으로 전환하는 기능을 가지는 제어유니트를 구비한 반송장치의 인터로크장치이다.
4. 발명의 중요한 용도
기판반송장치의 인터로크장치로서 이용한다.

公开(公告)号：KR1020120106628A

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：KR1020120026703

申请日：2012-03-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오츠카요시타카 ,  요시토미와타루 ,  다노우에신야 ,  요네오카세이지

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273 ,  B05D1/26

Abstract: PURPOSE: A method and apparatus for forming a coating layer and a storage medium are provided to control the thickness of the coating layer by controlling a relative moving speed of a substrate. CONSTITUTION: A nozzle outlet is connected to the upper side of a substrate by resist solutions(St3). The resist solutions are discharged from the nozzle outlet by an initial pressure value(St4). A substrate transfer speed is calculated to equalize the actual film thickness with a target film thickness(St5). A coating process is performed on the substrate and a transfer driving unit is controlled to transfer the substrate at the substrate transfer speed(St6). If the rear end of the transferred substrate approaches the lower side of the nozzle, the resist solutions from the nozzle outlet are not discharged(St10). A nozzle is lifted by a nozzle lifting unit(St11). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) Finish; (St1) Setting a parameter like a film thickness target value; (St10) Stop at a coating finish position; (St11) Raising a nozzle; (St2) Transferring a substrate to a coating start position; (St3) Moving a nozzle down and coating resist solutions on a substrate; (St4) Transferring a substrate at a preset speed(initial value) and discharging resist solutions with preset pressure; (St5) Calculating and setting a substrate transfer speed V based on a film thickness estimation formula; (St6) Coating process; (St7) Time Ts elapse; (St8,St9) Coating finish?

Abstract translation: 目的：提供一种用于形成涂层和存储介质的方法和装置，以通过控制基板的相对移动速度来控制涂层的厚度。 构成：通过抗蚀剂溶液（St3）将喷嘴出口连接到基板的上侧。 抗蚀剂溶液通过初始压力值（St4）从喷嘴出口排出。 计算基板转印速度以使实际的膜厚度与目标膜厚度（St5）相等。 在基板上进行涂布处理，并且控制传送驱动单元以基板传送速度（St6）传送基板。 如果转印的基板的后端接近喷嘴的下侧，则不排出来自喷嘴出口的抗蚀剂溶液（St10）。 喷嘴由喷嘴提升单元（St11）提升。 （附图标记）（AA）开始; （BB）完成; （St1）设定膜厚目标值等参数; （St10）停在涂层处理位置; （St11）提升喷嘴; （St2）将基材转移到涂层开始位置; （St3）向下移动喷嘴并在基板上涂布抗蚀剂溶液; （St4）以预设速度（初始值）转移基板并以预设压力排出抗蚀剂溶液; （St5）基于膜厚估计公式计算并设定基板转印速度V; （St6）涂装工艺; （St7）时间Ts逝去; （St8，St9）涂层处理？

公开(公告)号：KR100840853B1

公开(公告)日：2008-06-23

申请号：KR1020020046516

申请日：2002-08-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다노우에신야 ,  이와사키다쓰야 ,  오쓰카요시타카 ,  사가라노리히데 ,  구마가이노리토시 ,  하야시신야

IPC: G02F1/13

Abstract: 핀셋(43)을 당겨 카세트(C)로부터 기판(G)을 꺼내고, 핀셋(43)을 당겨 나가면, 기판(G)을 꺼내기 전에는 위치 P에 있던 센서(9)가, 궤적 T를 그리며 기판(G)의 한 변(Ga)을 통과하며 이동한다. 이에 따라, 유지된 기판(G)의 핀셋(43)의 전진·후퇴방향과 직교하는 방향(Y방향)에 관한 위치는, 센서(9)가 한 변(Ga)을 통과하여 이동했을 때의 반사광을 수광하는 타이밍과, 모터(6)의 회전 펄스 수에 의해 산출된다. 따라서, 핀셋(43)이 정상위치에 유지된 경우의 타이밍과 비교함으로써 위치 어긋남을 검출할 수 있다.