公开(公告)号：KR100538714B1

公开(公告)日：2005-12-26

申请号：KR1019990001176

申请日：1999-01-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미조사키켄고 ,  요시다마사아키

IPC: G02F1/13

Abstract: 본 발명은 예를들면, LCD기판등과 같은 대형 기판을 가열해서 처리하는 열처리장치에 관한 것이다.
종래, 열처리장치에 사용되는 열판은 주조 타입으로서, 그 두께가 제조상의 한계 때문에 40㎜정도까지밖에 얇게 할 수 없기 때문에, 열 응답성이 나쁘고, 경량화가 곤란하며 장치의 높이가 높아지는 결점이 있었다.
본 발명은 케이스와, 그 위 또는 상방에 피처리체가 배치되고, 피처리체를 가열하는 열판과, 상기 열판을 가열하는 가열기와, 상기 열판에서 방사된 열을 반사하는 반사판과, 상기 열판의 피처리체 배치부분에 상기 피처리체를 둘러싸듯이 설치된 외곽과, 상기 열판의 상방에 처리공간을 매개로 하여 배치됨과 동시에 배기구를 갖는 배기 커버와, 상기 처리공간을 둘러싸듯이 배치되고, 상기 배기 커버에 대해 진퇴가능하게 설치된 셔터로 이루어져, 상기 열판의 열 균일성이 향상되도록 하는 효과가 있으며, 상기 가열기를 압입타입으로 하여, 종래의 열판에 비교해서, 얇게 만들 수 있기 때문에, 열에 대한 응답성이 높아지고, 경량화를 달성할 수 있는 열처리장치가 제시된다.

公开(公告)号：KR100332713B1

公开(公告)日：2002-12-18

申请号：KR1019970003738

申请日：1997-02-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미조사키겐고 ,  요시다마사아키

IPC: G02F1/13

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
처리장치 및 처리방법
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
오존을 유효하게 이용하여 피처리체에 부착한 유기오염물을 제거하는 처리장치 및 처리방법을 제공함
3. 발명의 해결방법의 요지
피처리체를 유치하는 피처리체 유지수단과, 피처리체 및 피처리체 유지수단을 수용하는 처리실과, 피처리체에 대하여 자외선을 조사하는 자외선 조사수단과, 자외선 조사수단을 수용하는 자외선 조사수단실과, 처리실과 자외선 조사수단실을 연이어 통하는 개구를 개폐하는 개폐수단과, 자외선 조사수단의 자외선 조사에 의하여 생성되고, 처리실 내에 존재하는 오존을 배기하는 제 1 의 배기수단과, 자외선 조사 수단실에 발생하는 오존을 배기하는 제 2 의 배기수단을 가진 처리장치 및 이것을 사용하는 처리방법.
4. 발명의 중요한 용도
LCD기판 등의 피처리체를 도포처리하기 전공정에 사용됨.

公开(公告)号：KR1019980018526A

公开(公告)日：1998-06-05

申请号：KR1019970037948

申请日：1997-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오타요시하루 ,  요시다마사아키 ,  다노우에신야 ,  이와사키다쓰야

IPC: H01L21/68

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
LCD기판이나 반도체웨이퍼 등의 기판을 반송하기 위한 기판반송장치의 인터로크장치에 관한 것이다.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
스루풋을 향상시킬 수 있고, 또한 안전성이 높은 기판반송장치의 인터로크기구를 얻는다.
3. 발명의 해결방법의 요지
LCD기판 등을 이송하기 위한 반송장치의 아암을 구동시키는 구동유니트와, 아암의 이동상태를 감시하기 위하여 구동유니트의 동작상태를 감시하고, 이 동작상태가 규정치를 넘으면 구동유니트를 정지시키는 기능 및 규정치를 아암의 위치적 조정을 행하는 티칭모드와 반송장치를 생산운전하는 생산운전모드로 선택적으로 전환하는 기능을 가지는 제어유니트를 구비한 반송장치의 인터로크장치이다.
4. 발명의 중요한 용도
기판반송장치의 인터로크장치로서 이용한다.

公开(公告)号：KR1019970062748A

公开(公告)日：1997-09-12

申请号：KR1019970003738

申请日：1997-02-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미조사키겐고 ,  요시다마사아키

IPC: G02F1/13

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
처리장치 및 처리방법.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
오존을 유효하게 이용하여 피처리체에 부착한 유기오염물을 제거하는 처리장치 및 처리방법을 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
피처리체를 유지하는 피처리체 유지수단과, 피처리체 및 피처리체 유지수단을 수용하는 처리실과, 피처리체에 대하여 자외선을 조사하는 자외선 조사수단과, 자외선 조사수단을 수용하는 자외선 조사수단실과, 처리실과 자외선 조사수단실을 연이어 통하는 개구를 개폐하는 개폐수단과, 자외선 조사수단의 자외선 조사에 의하여 생성되고, 처리실 내에 존재하는 오존을 배기하는 제1의 배기수단과, 자외선 조사 수단실에 발생하는 오존을 배기하는 제2의 배기수단을 가진 처리장치 및 이것을 사용는 처리방법.
4. 발명의 중요한 용도
LCD기판 등의 피처리체를 도포처리하기 전공정에 사용됨.

公开(公告)号：KR100380646B1

公开(公告)日：2003-08-06

申请号：KR1019970037948

申请日：1997-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오타요시하루 ,  요시다마사아키 ,  다노우에신야 ,  이와사키다쓰야

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67748 ,  H01L21/67242 ,  H01L21/67259

Abstract: A processing system for processing a substrate. The processing system includes a plurality of processing machines, a machine movable along a transfer path for transferring the substrate to the machines, a drive unit for driving the machine, and a control unit. The control unit includes a memory for storing a teaching threshold in a teaching mode and a practical operation threshold in a practical operation mode that is higher than the teaching threshold when a moving parameter of the drive unit exceeds a given value. The control unit also includes a controller monitoring a parameter representing a moving state of the drive unit to stop the drive unit when the parameter exceeds the practical operation threshold in the practical operation mode or when the parameter exceeds the teaching threshold in the teaching mode.

Abstract translation: 一种处理基板的处理系统。 该处理系统包括多个处理机器，能够沿传送路径移动以将基板传送到机器的机器，用于驱动机器的驱动单元以及控制单元。 控制单元包括存储器，用于存储示教模式下的示教阈值和实际操作模式下的实际操作阈值，当驱动单元的移动参数超过给定值时，该实际操作阈值高于示教阈值。 控制单元还包括控制器，该控制器在实际操作模式中当参数超过实际操作阈值时或者当参数在示教模式中超过教学阈值时，监视表示驱动单元的移动状态的参数以停止驱动单元。

公开(公告)号：KR1019990067945A

公开(公告)日：1999-08-25

申请号：KR1019990001176

申请日：1999-01-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미조사키켄고 ,  요시다마사아키

IPC: G02F1/13

Abstract: 본 발명은 예를들면, LCD기판등과 같은 대형 기판을 가열해서 처리하는 열처리장치에 관한 것이다.
종래, 열처리장치에 사용되는 열판은 주조 타입으로서, 그 두께가 제조상의 한계 때문에 40㎜정도까지밖에 얇게 할 수 없기 때문에, 열 응답성이 나쁘고, 경량화가 곤란하며 장치의 높이가 높아지는 결점이 있었다.
본 발명은 케이스와, 그 위 또는 상방에 피처리체가 배치되고, 피처리체를 가열하는 열판과, 상기 열판을 가열하는 가열기와, 상기 열판에서 방사된 열을 반사하는 반사판과, 상기 열판의 피처리체 배치부분에 상기 피처리체를 둘러싸듯이 설치된 외곽과, 상기 열판의 상방에 처리공간을 매개로 하여 배치됨과 동시에 배기구를 갖는 배기 커버와, 상기 처리공간을 둘러싸듯이 배치되고, 상기 배기 커버에 대해 진퇴가능하게 설치된 셔터로 이루어져, 상기 열판의 열 균일성이 향상되도록 하는 효과가 있으며, 상기 가열기를 압입타입으로 하여, 종래의 열판에 비교해서, 얇게 만들 수 있기 때문에, 열에 대한 응답성이 높아지고, 경량화를 달성할 수 있는 열처리장치가 제시된다.