公开(公告)号：KR1020110041996A

公开(公告)日：2011-04-22

申请号：KR1020100096443

申请日：2010-10-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  미나미데루오미 ,  가와부치요스케 ,  이토노리히로 ,  가미무라후미히로 ,  야부타다카시 ,  가즈키고사이 ,  다카시우노 ,  세키구치겐지 ,  후지이야스시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67051

Abstract: PURPOSE: A substrate liquid processing apparatus, a substrate liquid processing method, and a storage medium having substrate liquid processing program stored therein are provided to prevent the electrostatic destruction by discharging the electric charges charged on a substrate through a chuck for maintaining the substrate. CONSTITUTION: A first processing liquid discharge unit discharges the processing liquid to the circuit-forming surface of a substrate(2). A second processing solution discharge unit(25) discharges the processing liquid to the opposite side of the circuit-forming surface of the substrate. A control unit(26) controls the substrate maintaining unit and the first and the second processing solution discharge unit.

Abstract translation: 目的：提供基板液体处理装置，基板液体处理方法和存储有基板液体处理程序的存储介质，以通过用于维持基板的卡盘将填充在基板上的电荷放电来防止静电破坏。 构成：第一处理液体排出单元将处理液体排出到基板（2）的电路形成表面。 第二处理液排出单元（25）将处理液体排出到基板的电路形成表面的相对侧。 控制单元（26）控制基板保持单元和第一和第二处理液排出单元。

公开(公告)号：KR101633129B1

公开(公告)日：2016-06-23

申请号：KR1020100096443

申请日：2010-10-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  미나미데루오미 ,  가와부치요스케 ,  이토노리히로 ,  가미무라후미히로 ,  야부타다카시 ,  가즈키고사이 ,  다카시우노 ,  세키구치겐지 ,  후지이야스시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67051

Abstract: 본발명은기판에대전된전하가방전하는것에의한정전파괴의발생을방지하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판(2)에액처리를실시하기위한기판액처리장치(1), 기판액처리방법및 기판액처리프로그램을기록한컴퓨터판독가능한기록매체(48)에있어서, 기판(2)의회로형성면을기판처리약액으로액처리하는액처리공정을행하기전에, 기판(2)의회로형성면과는반대면을제전처리액으로처리하는것에의해기판(2)에대전된전하를방출시키는제전처리공정을행하도록하였다.