公开(公告)号：KR1020160039547A

公开(公告)日：2016-04-11

申请号：KR1020150136659

申请日：2015-09-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가이아키코 ,  니와다카후미 ,  다카하시소고 ,  니시하타히로시 ,  데라시타유이치 ,  고다마데루히코

IPC: H01L51/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/68742

Abstract: 기판을회전시키면서기판의표면전체에대하여처리액에의해액 처리를행하는데 있어서, 기판의회전수를높게하여도처리액의액 튐을억제할수 있고, 이에의해기판의주연부에대하여양호한액 처리를행할수 있는액 처리방법등을제공한다. 기판(W)을회전가능한기판유지부(11)에수평으로유지하며, 처리액에의해액 처리를행하는데 있어서, 적어도기판(W)의주연부보다중심측의부위에대하여처리액에의해액 처리를행한후, 기판(W)을회전시키면서, 처리액노즐(32)의토출구(321)를회전방향의하류측을향하여, 기판(W)의표면에대하여비스듬하게또한기판(W)의접선방향을따라처리액을기판(W)의주연부에토출한다. 상기처리액의토출을행하면서, 상기처리액의착액(着液) 위치로부터기판(W)의중심부를향하여인접하는위치를향하여가스노즐(31)로부터가스를수직으로토출한다.

Abstract translation: 提供一种液体处理方法，其中当在基板旋转时使用处理液在基板的整个表面上进行液体处理时，即使当基板的旋转速度增加时也可以抑制处理液体的飞溅 ，因此可以进行对基板的周边部分的期望的液体处理。 液体处理方法包括：在基板保持单元（11）上设置基板（W），基板保持单元（11）使基板（W）旋转，使得基板（W）保持在水平位置，将处理液体供应到基板的中心部分 使得相对于基板的周边部位于中心侧的中心部分被液体处理，将处理液喷嘴（32）的排出口（321）朝向旋转方向的下游侧定位，使得 液体在基板旋转的同时沿着基板（W）的切线方向倾斜地向基板（W）的表面排出到周边部分，并且从气体喷嘴（31）垂直于 基板朝向与基板的表面上的液体的液着色位置相邻的位置，并且在液体被排出到周边部分的同时位于基板的中心侧。