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公开(公告)号：KR1020150039569A
公开(公告)日：2015-04-10
申请号：KR1020140130245
申请日：2014-09-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/02 , H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67017 , H01L21/0274
Abstract: 처리액을쓸데없이소비하지않고서, 처리액중의파티클의증가를효율적으로억제하는것을목적으로한다. 피처리체를처리하기위한처리액을공급하는처리액공급원과, 상기처리액공급원에공급로를통해접속되며, 상기처리액을피처리체에토출하는토출부와, 상기공급로에설치되며, 처리액중의이물을제거하기위한필터장치와, 상기공급로에있어서의필터장치의일차측및 이차측에각각설치된공급펌프및 토출펌프와, 상기처리액공급원으로부터공급된처리액을, 상기공급펌프및 토출펌프중 적어도한쪽을이용해서감압하여탈기하고, 계속해서탈기된처리액을상기공급펌프및 토출펌프를이용하여상기필터장치의일차측으로부터이 필터장치를통해이차측으로통과시키도록제어신호를출력하는제어부를구비하도록장치를구성한다.
Abstract translation: 本发明的目的是有效地防止工艺溶液中颗粒的增加，而不浪费工艺溶液。 本发明包括提供用于处理物体的处理液的处理液供给源，通过供给管线连接到处理液供给源的注入部，将该处理液注入到被检体内的过滤器装置， 安装在供给管路上，除去分别安装在供给管路中的过滤装置的主要部分和次要部分中的过程溶液中的异物，供给泵和注射泵，以及减压和 通过使用供给泵和注射泵中的一个来对从过程溶液供给源提供的过程溶液进行脱气，并且输出控制信号，以使脱模处理溶液从过滤装置的主要部分转移到次级部分，方法是使用 供应泵和注射泵。
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公开(公告)号：KR1020140080423A
公开(公告)日：2014-06-30
申请号：KR1020130157133
申请日：2013-12-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67017 , F04B43/0081 , F04B49/065 , F04B2205/503 , H01L21/6715
Abstract: A filtration efficiency, which is similar to the filtration efficiency obtained when a plurality of filters are provided, can be obtained by one filter, and decrease in throughput can be prevented. Based on a control signal from a control unit (101), a resist liquid (L) is sucked into a pump (70) through a filter. A part of the resist liquid sucked in the pump is discharged from a discharge nozzle (7). The remaining resist liquid is returned to a supply conduit (51b) on a primary side of the filter. A process is synthesized by adding a replenishment amount equal to the discharge amount to the return amount. The discharge of the synthesized resist liquid and the filtration thereof by the filter are performed the number of times corresponding to a rate between the discharge amount and the return amount.
Abstract translation: 可以通过一个过滤器获得与设置多个过滤器时获得的过滤效率类似的过滤效率，并且可以防止吞吐量的降低。 基于来自控制单元（101）的控制信号，抗蚀剂液体（L）通过过滤器被吸入到泵（70）中。 吸入到泵中的抗蚀剂液体的一部分从排出喷嘴（7）排出。 剩余的抗蚀剂液体返回到过滤器初级侧上的供应导管（51b）。 通过将等于放电量的补充量添加到返回量来合成处理。 合成的抗蚀剂液体的排出和由过滤器的过滤被执行与排出量和返回量之间的比率对应的次数。
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公开(公告)号：KR1020160030057A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：KR1020150126339
申请日：2015-09-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명의과제는노광후의기판에현상처리를행하는데 있어서, 기판의면내에있어서의레지스트패턴의선 폭의균일성을높게하는것이다. 현상액의토출구와상기기판의표면보다도작게형성된접촉부를구비한현상액노즐을사용하고, 상기기판의중앙부에서상기접촉부를기판의표면에대향시키는공정과, 계속해서상기현상액노즐의토출구로부터기판의표면에현상액을토출해서상기접촉부에서보아당해접촉부의외측테두리보다도외측으로현상액을비어져나오게하여액 고임부를형성하는공정과, 그와같이현상액이비어져나온상태를유지하여, 회전하고있는기판에상기토출구로부터현상액을토출하면서상기현상액노즐을기판의중앙부로부터주연부로이동시켜상기액 고임부를기판의전체면으로확장하는공정을포함하도록현상처리를행한다.
Abstract translation: 本发明涉及显影方法，显影装置和存储介质。 本发明旨在提高在曝光之后显影衬底期间衬底表面中的抗蚀剂图案的线的宽度的均匀性。 为此，使用的是包括显影剂排出孔和比基板表面小的接触部的显影剂喷嘴。 此外，通过包括以下处理进行显影：使接触部在基板的中央面对基板的表面; 通过从显影剂喷嘴的排出孔连续排出基板表面上的显影剂，然后基于接触部分使显影剂泄漏到比接触部分的外边缘更外侧的外侧，形成液体停滞部分 ; 并且通过将显影剂喷嘴从中心转移到基板的边缘，并将显影剂从排出孔排出到旋转的基板上，同时通过维持显影剂的泄漏状态将液体滞留部分扩展到基板的整个表面。
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公开(公告)号：KR1020150014383A
公开(公告)日：2015-02-06
申请号：KR1020140093833
申请日：2014-07-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/0273
Abstract: 본 발명의 과제는, 기판의 표면에 도포막을 형성하는 데 있어서, 스루풋을 높게 함과 함께 막 두께의 면내 균일성을 확보하는 것이다. 기판 보유 지지부에 보유 지지된 기판의 표면과 대향하도록, 승강 가능한 환 형상 부재를 소정의 높이에 배치한다. 당해 환 형상 부재는 개구부를 갖고, 개구부의 기판의 표면에의 투영 영역은 회전 중심을 중심으로 하는 진원과 일치하지 않도록 구성되어 있다. 기판을 회전시켜 도포액을 퍼지게 한 후, 기판을 더욱 고속 회전시켜 도포액을 건조시켜 도포막을 얻는다. 그때 환 형상 부재를 강하시키고, 기판 주연부의 기류를 제어함으로써 기판 주연부의 도포막의 막 두께를 균일화한다. 한편, 환 형상 부재의 개구부로부터의 기판에의 기류가 분산됨으로써, 개구부 바로 아래에 있어서의 도포막의 막 두께는 균일화된다. 따라서, 기판 전체적으로 막 두께를 균일화시킬 수 있다.
Abstract translation: 本发明的目的是确保膜厚度的均匀性，并且还提高在基材表面上形成涂膜的生产率。 能够提高的环状构件以预定高度布置，以面对由基板保持支撑部支撑的基板的表面。 环状构件具有开口部。 开口部的基板的表面的突出部不对应于以旋转中心为中心的地震中心。 在通过旋转基板涂布涂布溶液之后，通过高速旋转基板来干燥涂布溶液，从而获得涂膜。 此时，环状部件掉落，并且控制基板周边部分的气流，从而使基板周边部分的涂膜的膜厚均匀。 同时，从环状构件的开口部到基板的气流分散，使得涂膜的膜厚刚好在开口部下均匀。 因此，整个基板的膜厚变得均匀。
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公开(公告)号：KR1020140080469A
公开(公告)日：2014-06-30
申请号：KR1020140064224
申请日：2014-05-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67017 , F04B43/0081 , F04B49/065 , F04B2205/503 , H01L21/6715
Abstract: A filtration efficiency, which is similar to the filtration efficiency obtained when a plurality of filters are provided, can be obtained by one filter, and decrease in throughput can be prevented. Based on a control signal from a control unit (101), a resist liquid (L) is sucked into a pump (70) through a filter. A part of the resist liquid sucked in the pump is discharged from a discharge nozzle (7). The remaining resist liquid is returned to a supply conduit (51b) on a primary side of the filter. A process is synthesized by adding a replenishment amount equal to the discharge amount to the return amount. The discharge of the synthesized resist liquid and the filtration thereof by the filter are performed the number of times corresponding to a rate between the discharge amount and the return amount.
Abstract translation: 通过一个过滤器可以获得与提供多个过滤器时获得的过滤效率类似的过滤效率，并且可以防止生产量的降低。 基于来自控制单元（101）的控制信号，通过过滤器将抗蚀剂液体（L）吸入泵（70）。 吸入泵中的抗蚀剂液体的一部分从排出喷嘴（7）排出。 剩余的抗蚀剂液体返回到过滤器的初级侧的供给管道（51b）。 通过将等于排出量的补充量加到返回量来合成过程。 对合成的抗蚀剂液体的排出及其过滤器的过滤进行与排出量与返回量之间的比例对应的次数。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR101973216B1
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：KR1020140064224
申请日：2014-05-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/02
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公开(公告)号：KR101517303B1
公开(公告)日：2015-05-04
申请号：KR1020130157133
申请日：2013-12-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
Abstract: 하나의 필터로 복수의 필터를 설치한 경우와 마찬가지의 여과 효율을 얻음과 함께, 스루풋 저하의 방지를 도모한다. 제어부(101)로부터의 제어 신호에 기초하여, 레지스트액(L)을 필터(52)를 통하여 펌프(70)에 흡입하고, 펌프에 흡입된 레지스트액의 일부를 토출 노즐(7)로부터 토출하고, 나머지 레지스트액을 필터의 1차측의 공급관로(51b)에 복귀시켜, 토출량과 동등한 보충량을 복귀량에 추가하여 합성하고, 합성된 레지스트액을 토출량과 복귀량의 비율의 합성에 따른 횟수로, 레지스트액의 토출과 필터에 의한 여과를 행한다.
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公开(公告)号：KR102243841B1
公开(公告)日：2021-04-22
申请号：KR1020140093833
申请日：2014-07-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/683
Abstract: 본발명의과제는, 기판의표면에도포막을형성하는데 있어서, 스루풋을높게함과함께막 두께의면내균일성을확보하는것이다. 기판보유지지부에보유지지된기판의표면과대향하도록, 승강가능한환 형상부재를소정의높이에배치한다. 당해환 형상부재는개구부를갖고, 개구부의기판의표면에의투영영역은회전중심을중심으로하는진원과일치하지않도록구성되어있다. 기판을회전시켜도포액을퍼지게한 후, 기판을더욱고속회전시켜도포액을건조시켜도포막을얻는다. 그때환 형상부재를강하시키고, 기판주연부의기류를제어함으로써기판주연부의도포막의막 두께를균일화한다. 한편, 환형상부재의개구부로부터의기판에의기류가분산됨으로써, 개구부바로아래에있어서의도포막의막 두께는균일화된다. 따라서, 기판전체적으로막 두께를균일화시킬수 있다.
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