公开(公告)号：KR1020160039547A

公开(公告)日：2016-04-11

申请号：KR1020150136659

申请日：2015-09-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가이아키코 ,  니와다카후미 ,  다카하시소고 ,  니시하타히로시 ,  데라시타유이치 ,  고다마데루히코

IPC: H01L51/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/68742

Abstract: 기판을회전시키면서기판의표면전체에대하여처리액에의해액 처리를행하는데 있어서, 기판의회전수를높게하여도처리액의액 튐을억제할수 있고, 이에의해기판의주연부에대하여양호한액 처리를행할수 있는액 처리방법등을제공한다. 기판(W)을회전가능한기판유지부(11)에수평으로유지하며, 처리액에의해액 처리를행하는데 있어서, 적어도기판(W)의주연부보다중심측의부위에대하여처리액에의해액 처리를행한후, 기판(W)을회전시키면서, 처리액노즐(32)의토출구(321)를회전방향의하류측을향하여, 기판(W)의표면에대하여비스듬하게또한기판(W)의접선방향을따라처리액을기판(W)의주연부에토출한다. 상기처리액의토출을행하면서, 상기처리액의착액(着液) 위치로부터기판(W)의중심부를향하여인접하는위치를향하여가스노즐(31)로부터가스를수직으로토출한다.

Abstract translation: 提供一种液体处理方法，其中当在基板旋转时使用处理液在基板的整个表面上进行液体处理时，即使当基板的旋转速度增加时也可以抑制处理液体的飞溅 ，因此可以进行对基板的周边部分的期望的液体处理。 液体处理方法包括：在基板保持单元（11）上设置基板（W），基板保持单元（11）使基板（W）旋转，使得基板（W）保持在水平位置，将处理液体供应到基板的中心部分 使得相对于基板的周边部位于中心侧的中心部分被液体处理，将处理液喷嘴（32）的排出口（321）朝向旋转方向的下游侧定位，使得 液体在基板旋转的同时沿着基板（W）的切线方向倾斜地向基板（W）的表面排出到周边部分，并且从气体喷嘴（31）垂直于 基板朝向与基板的表面上的液体的液着色位置相邻的位置，并且在液体被排出到周边部分的同时位于基板的中心侧。

公开(公告)号：KR102126591B1

公开(公告)日：2020-06-24

申请号：KR1020140062387

申请日：2014-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오코우치아츠시 ,  요시하라고우스케 ,  이치노미야히로시 ,  니시하타히로시 ,  나이토우료우이치로우

IPC: H01L21/67

公开(公告)号：KR1020160129768A

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：KR1020160052821

申请日：2016-04-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가이아키코 ,  니시하타히로시 ,  다나카고우이치로우 ,  아라키히로후미

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/423 ,  H01L21/324 ,  G03F7/00 ,  H01L21/677 ,  H01L21/60

Abstract: 레지스트패턴의평활성을보다간단하게높일수 있는방법, 장치및 시스템을제공한다. 기판처리방법은기판의표면상에형성된레지스트막에현상처리를실시하는단계, 현상처리후에, 기판이배치되는공간에불활성가스를공급하는단계, 불활성가스를통하여레지스트막에에너지선을조사하는단계를포함한다.

公开(公告)号：KR1020140139969A

公开(公告)日：2014-12-08

申请号：KR1020140062387

申请日：2014-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오코우치아츠시 ,  요시하라고우스케 ,  이치노미야히로시 ,  니시하타히로시 ,  나이토우료우이치로우

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 본 발명의 기판 세정 장치는, 기판을 회전시키면서 기판의 중심부에 세정액 및 가스를 순차 토출하고, 이들을 토출하는 노즐을 기판의 둘레 가장자리측으로 이동시킨 후, 제1 세정액 노즐의 이동 궤적으로부터 벗어나는 위치에 설정된 제2 세정액 노즐로 세정액의 토출을 전환하며, 세정액의 토출 및 가스의 토출을 행하면서 양 노즐을 기판의 둘레 가장자리측을 향해 이동시키고, 제2 세정액 노즐의 토출 위치로부터 기판의 중심부까지의 거리와, 가스 노즐의 토출 위치로부터 기판의 중심부까지의 거리의 차가 서서히 작아지도록 각 노즐이 이동한다.

Abstract translation: 根据本发明的基板清洗装置在旋转基板的同时在基板的中心连续地排出清洁溶液和气体，将清洗液的排放切换到第二清洗溶液喷嘴，该第二清洗溶液喷嘴从第一 将排出清洗液和气体的喷嘴喷出后的清洗液喷嘴移动到基板的周缘部，同时在清洗液和气体排出的同时将两个喷嘴移动到基板的周缘，并使各喷嘴逐渐减小 在从第二清洗溶液喷嘴的排出位置到基板的中心的距离与从气体喷嘴的排放位置到基板中心的距离之间。