公开(公告)号：KR100532218B1

公开(公告)日：2005-11-30

申请号：KR1019990032185

申请日：1999-08-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아라키신이치로 ,  마쯔모토신코 ,  아나이노리유키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C11/08 ,  G02B5/201 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  Y10S430/136

Abstract: 복수의 색채 레지스트를 기판에 도포하고 또 노광후에 현상을 행하기 위한 도포·현상처리장치는 기판을 세정하기 위한 세정처리유니트와, 세정된 기판에 복수의 각 색채(色彩)레지스트를 기판에 토출하는 복수의 레지스트 토출노즐을 갖추는 레지시트 도포처리유니트와, 이 색채 레지스트가 도포된 기판을 노광 후에 현상하기 위한 현상처리유니트를 구비하고 있다. 따라서, 설비의 소형화, 설치면적을 작게 하는 것이 가능하여 제조 비용의 절감이 가능하다.

公开(公告)号：KR1020000017112A

公开(公告)日：2000-03-25

申请号：KR1019990032185

申请日：1999-08-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아라키신이치로 ,  마쯔모토신코 ,  아나이노리유키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C11/08 ,  G02B5/201 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  Y10S430/136

Abstract: PURPOSE: A coating and developing method is provided to miniaturize of an apparatus and reduce cost of the products by using a singular coating and development system. CONSTITUTION: The coating and development method comprises the steps of: coating of a selective resist among the plural color resist on a wafer; cleaning of a nozzle with cleaning solution; loading to the exposure apparatus to coated wafer with photoresist; developing of the wafer, repeat sequentially after; depositing of a cassette; and drying using a reduce pressure of the wafer. Thereby it is possible to reduce cost of the products and miniaturize of the apparatus by using a singular unit system instead of using in the each process, individually.

Abstract translation: 目的：提供涂料和显影方法以使装置小型化并且通过使用单一涂布和显影系统降低产品成本。 构成：涂布和显影方法包括以下步骤：在晶片上的多个着色抗蚀剂之间涂覆选择性抗蚀剂; 用清洗液清洗喷嘴; 将曝光装置加载到具有光致抗蚀剂的涂覆晶片; 开发晶圆后，依次重复; 存放盒子; 并使用晶片的减压进行干燥。 因此，可以通过使用单个单元系统来代替在每个处理中单独使用来降低产品的成本并使装置小型化。