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    기판반송장치
    1.
    发明公开
    기판반송장치 失效
    底板输送机和加工机

    公开(公告)号：KR1020010020943A

    公开(公告)日：2001-03-15

    申请号：KR1020000030315

    申请日：2000-06-02

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 이와사키다쓰야 ,  아나이노리유키 ,  다테야마기요히사 ,  오타요시하루 ,  아라키신이치로 ,  이와쓰하루오

    IPC: H01L21/68

    Abstract: PURPOSE: Provided is a substrate conveyor that can accommodate to both so to say transverse-feed and longitudinal-feel processors. CONSTITUTION: A substrate holding member has a first or wide holding part(55,56) that has opposite side walls(55a,56a) spaced at an interval corresponding to the length of the long sides of substrates and that can hold the substrates when their long sides extend in the direction of opposition of the side walls(55a,56a) and a second holding part(57,58) narrower than the first holding part(55,56), which has opposite side walls or steps(53a,54a) spaced at an interval according to the length of the shorter side of the substrates and that can hold the substrates when their shorter sides extend in the direction of opposition of the steps(53a,54a). For a conveyance-associated processor of a transverse-food type, substrate orientation control means position a glass substrate over the holding member and turn it to set one of its long sides in opposition to the inlet or outlet opening of the processor and lowers it.

    Abstract translation: 目的：提供可以适应于横向进给和纵向处理器的基底输送机。 构成：衬底保持构件具有第一或宽保持部分（55,56），其具有以对应于衬底的长边长度的间隔隔开的相对侧壁（55a，56a），并且当它们 长边相对于侧壁（55a，56a）相对的方向延伸，第二保持部（57,58）比第一保持部（55,56）窄，其具有相对的侧壁或台阶（53a，54a） ），其间隔根据基板的短边的长度间隔开，并且当基板的短边在台阶（53a，54a）的相反方向上延伸时可以保持基板。 对于横向食品类型的与输送相关的处理器，基板取向控制装置将玻璃基板定位在保持构件上方并将其设置成与处理器的入口或出口相对设置的一个长边并将其降低。

    처리시스템
    2.
    发明公开
    처리시스템 失效
    过程系统

    公开(公告)号：KR1020000035354A

    公开(公告)日：2000-06-26

    申请号：KR1019990049533

    申请日：1999-11-09

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 타테야마키요히사 ,  노무라마사후미 ,  오오타요시하루 ,  아라키신이치로 ,  야마키이쿠오 ,  시모후미오

    IPC: H01L21/00

    Abstract: PURPOSE: A process system is provided to reciprocate the processed between a region of a waiting stage and a region of a vacuum stage. CONSTITUTION: A process system comprises a plurality of guided units(11) each of which a main body(13), a base member(14), and upper and lower substrate support member(15a,15b). The main body(13) is able to be shifted along a guided path, and the base member(14) is able to execute an up and down shifting and a rotation shifting to the main body(13). The upper and lower substrate support member(15a,15b) are able to shift along a horizontal direction on the base member(14) independently. A center portion of the base member(14) and the main body(13) are connected by a connection portion(16). A glass substrate is guided by the up and down shifting and the rotation shifting of the base member(14) and by the horizontal shifting of the upper and lower substrate support member(15a,15b).

    Abstract translation: 目的：提供一种处理系统，用于在等待阶段的区域和真空级的区域之间往复运动。 构成：处理系统包括多个引导单元（11），每个引导单元（11）分别具有主体（13），基座构件（14）以及上下基板支撑构件（15a，15b）。 主体（13）能够沿着导引路径移动，并且基部构件（14）能够执行上下移动和向主体（13）的移动。 上下基板支撑构件（15a，15b）能够独立地沿着基部构件（14）上的水平方向移动。 基部构件（14）和主体（13）的中心部分通过连接部分（16）连接。 玻璃基板通过上下移动和基部构件（14）的旋转移动以及上下基板支撑构件（15a，15b）的水平移动而被引导。

    기판처리유니트, 기판처리시스템 및 기판처리장치
    5.
    发明公开
    기판처리유니트, 기판처리시스템 및 기판처리장치 失效
    基板处理单元，基板处理系统和基板处理设备

    公开(公告)号：KR1020010107682A

    公开(公告)日：2001-12-07

    申请号：KR1020010028397

    申请日：2001-05-23

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 아라키신이치로

    IPC: H01L21/00

    Abstract: 기판(G)에 대하여 복수의 공정에 의해 구성되는 처리를 행하기 위한 처리장치에 사용되고, 복수의 공정 중의 어느 하나의 처리를 행하는 처리유니트는, 그 프레임 측면의 적어도 3 방향으로 기판(G)을 반입 및/또는 반출하기 위한 개구를 갖춘다.

    열처리판의 부착물 검출 방법, 열처리 장치, 프로그램 및프로그램을 기록한 컴퓨터 독취 가능한 기록 매체
    7.
    发明公开
    열처리판의 부착물 검출 방법, 열처리 장치, 프로그램 및프로그램을 기록한 컴퓨터 독취 가능한 기록 매체 无效
    用于检测热处理板上的特殊物质的方法，包含程序的热处理装置，程序和计算机可读记录介质

    公开(公告)号：KR1020070084145A

    公开(公告)日：2007-08-24

    申请号：KR1020077010609

    申请日：2005-11-08

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 오카무라코우지 ,  토미타히로시 ,  이와나가슈지 ,  아라키신이치로

    IPC: H01L21/027

    CPC classification number: H01L21/67248 ,  H01L22/12

    Abstract: A thermal plate is divided into a plurality of sections. An accumulated values of temperature change of each section when a substrate is placed on the thermal plate in a normal state not having an extraneous matter is collected. According to the accumulated value during normal state, a Malanobis reference space in the judgment analysis method is created. During actual thermal treatment, an accumulated value of temperature change of each section when a substrate is placed on the thermal plate is detected. According to the accumulated value during the treatment and the Mahalanobis reference space obtained in advance, the Mahalanobis distance for the accumulated value during treatment is calculated. By comparing the calculated Mahalanobis distance to a predetermined threshold value, it is judged whether the thermal plate has any extraneous matter.

    Abstract translation: 热板被分成多个部分。 当基板被放置在不具有外来物质的正常状态下的热板上时，每个部分的温度变化的累积值被收集。 根据正常状态下的累积值，建立了判断分析方法中的马诺比斯参考空间。 在实际的热处理中，检测在将基板置于热板上时各部分的温度变化的累计值。 根据治疗期间的累积值和预先获得的马氏距离参考空间，计算治疗期间累积值的马氏距离。 通过将计算的马氏距离与预定阈值进行比较，判断热板是否具有任何外来物质。

    기판처리장치
    8.
    发明公开
    기판처리장치 失效
    基板处理装置

    公开(公告)号：KR1020000035698A

    公开(公告)日：2000-06-26

    申请号：KR1019990052754

    申请日：1999-11-25

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 혼다요이치 ,  시모무라유지 ,  타나카시노부 ,  아라키신이치로 ,  사카이미쯔히로

    IPC: H01L21/68

    Abstract: PURPOSE: An apparatus for substrate treatment is provided to perform first and second treatment at high throughput. CONSTITUTION: An apparatus for substrate treatment includes first and second treatment units(22b,29), a substrate input port, a substrate output port, a conveyor(10,38), and a controller. The first and second units(22b,29) perform different predetermined treatments on the substrate. The substrate input port inputs the substrate to the first treatment unit(22b). The substrate output port outputs the substrate treated. The conveyor conveys the input substrate from the first treatment unit(22b) to the second treatment unit(29), and from the substrate output port to a place conveyable. The controller controls the status of substrate convey by the conveyor(10,38) according to the timing of the main conveyor apparatus(10,38) to a corresponding place of the substrate output port.

    Abstract translation: 目的：提供一种用于基板处理的设备，以高产量进行第一和第二处理。 构成：用于衬底处理的装置包括第一和第二处理单元（22b，29），衬底输入端口，衬底输出端口，输送器（10,38）和控制器。 第一和第二单元（22b，29）在基板上执行不同的预定处理。 基板输入端口将基板输入到第一处理单元（22b）。 基板输出端口输出被处理的基板。 输送机将输入基板从第一处理单元（22b）传送​​到第二处理单元（29），并从基板输出端口传送到可输送的位置。 控制器根据主输送设备（10,38）的时间到基板输出端口的相应位置来控制输送机（10,38）输送基板的状态。

    반도체 처리시스템 및 기판의 교환방법 및 처리방법
    9.
    发明授权
    반도체 처리시스템 및 기판의 교환방법 및 처리방법 失效
    用于交换和处理基板的半导体处理系统和方法

    公开(公告)号：KR100242533B1

    公开(公告)日：2000-02-01

    申请号：KR1019940013799

    申请日：1994-06-18

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

    Inventor： 아라키신이치로

    IPC: H01L21/68

    CPC classification number: H01L21/68707 ,  Y10S414/135

    Abstract: 반도체 웨이퍼의 레지스트 도포 시스템은 처리유니트 및 반송유니트를 구비한다. 처리유니트에는 복수의 처리부가 설치되고, 처리부를 따라서 반송로보트가 이동이 자유롭게 배설된다. 반송로보트는, 승강가능한 구동블록과, 반도체웨이퍼를 유지하기 때문에, 개개로 진퇴동작이 가능하고 또한 상하방향으로 줄지어서 구동블록에 배설된 제1, 제2 및 제3아암과, 제1 및 제2아암과 제3아암과의 사이에 위치하도록 구동블록에 지지된 단열판을 구비한다. 제3아암은, 처리부의 하나인 냉각부로부터 웨이퍼를 꺼내기 위하여 사용된다. 처리부에 있어서의 웨이퍼의 교환은 상기 3개의 아암중의 2개의 아암에 의하여 행하여지며, 여기서, 처리후의 웨이퍼를 꺼내는 아암과, 처리전 웨이퍼를 삽입하는 아암이 동기하여서 조작된다.

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