公开(公告)号：KR100588110B1

公开(公告)日：2007-04-25

申请号：KR1019980033631

申请日：1998-08-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아나이노리유키 ,  오모리쯔타에 ,  타키자와마사아키 ,  사카이미쯔히로

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 액정표시디스플레이(LCD)용 기판의 표면 또는 기판에 형성된 층(반도체층, 절연체층, 전극층 등)의 위에 포토레지스트막이나 반사방지막(Anti-Reflective Coating)과 같은 도막을 형성하기 위한 도막 형성방법에 관한 것이다.
본 발명의 도막 형성방법으로서, (a) 기판을 스핀척에 의해 회전가능하게 보지하는 공정과, (b) 도막의 용제를 상기 기판의 회전중심부로부터 떨어진 기판상의 제 1 부위에 공급하는 공정과, (c) 도포액을 상기 기판의 회전중심부인 제 2 부위에 공급하는 공정과, (d) 상기 기판을 회전시킴으로써 상기 도포액을 제 2 부위로부터 그 주변 각부에 확산시키는 공정을 포함하는 것을 제시한다.
본 발명에서는 도막 형성방법에서, 프리웨트에 이용한 것과 같은 노즐을 이용하여 기판주변부로부터 도막들 제거함으로써 레지스트도포액의 소비량을 저감하고, 기판 주변부로부터 도막을 제거하기 위한 부가적인 전용설비가 불필요해 지고, 또한 기판에 대한 노즐의 위치맞춤도 용이해 지는 효과를 얻을 수 있다.

公开(公告)号：KR100532218B1

公开(公告)日：2005-11-30

申请号：KR1019990032185

申请日：1999-08-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아라키신이치로 ,  마쯔모토신코 ,  아나이노리유키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C11/08 ,  G02B5/201 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  Y10S430/136

Abstract: 복수의 색채 레지스트를 기판에 도포하고 또 노광후에 현상을 행하기 위한 도포·현상처리장치는 기판을 세정하기 위한 세정처리유니트와, 세정된 기판에 복수의 각 색채(色彩)레지스트를 기판에 토출하는 복수의 레지스트 토출노즐을 갖추는 레지시트 도포처리유니트와, 이 색채 레지스트가 도포된 기판을 노광 후에 현상하기 위한 현상처리유니트를 구비하고 있다. 따라서, 설비의 소형화, 설치면적을 작게 하는 것이 가능하여 제조 비용의 절감이 가능하다.

公开(公告)号：KR1019990023710A

公开(公告)日：1999-03-25

申请号：KR1019980033631

申请日：1998-08-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아나이노리유키 ,  오모리쯔타에 ,  타키자와마사아키 ,  사카이미쯔히로

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 액정표시디스플레이(LCD)용 기판의 표면 또는 기판에 형성된 층(반도체층, 절연체층, 전극층 등)의 위에 포토레지스트막이나 반사방지막(Anti-Reflective Coating)과 같은 도막을 형성하기 위한 도막 형성방법에 관한 것이다.
본 발명의 도막 형성방법으로서, (a) 기판을 스핀척에 의해 회전가능하게 보지하는 공정과, (b) 도막의 용제를 상기 기판의 회전중심부로부터 떨어진 기판상의 제 1 부위에 공급하는 공정과, (c) 도포액을 상기 기판의 회전중심부인 제 2 부위에 공급하는 공정과, (d) 상기 기판을 회전시킴으로써 상기 도포액을 제 2 부위로부터 그 주변 각부에 확산시키는 공정을 포함하는 것을 제시한다.
본 발명에서는 도막 형성방법에서, 프리웨트에 이용한 것과 같은 노즐을 이용하여 기판주변부로부터 도막들 제거함으로써 레지스트도포액의 소비량을 저감하고, 기판 주변부로부터 도막을 제거하기 위한 부가적인 전용설비가 불필요해 지고, 또한 기판에 대한 노즐의 위치맞춤도 용이해 지는 효과를 얻을 수 있다.

公开(公告)号：KR1019900002412A

公开(公告)日：1990-02-28

申请号：KR1019890007138

申请日：1989-05-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  테루큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 우시지마미츠루 ,  히라카와오사무 ,  아키모토마사미 ,  아나이노리유키 ,  아나이노리유키

IPC: G03F7/16

Abstract: 내용 없음

公开(公告)号：KR100741153B1

公开(公告)日：2007-07-20

申请号：KR1020000038987

申请日：2000-07-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타테야마키요히사 ,  오오타요시하루 ,  아라키시니치로 ,  이와사키타츠야 ,  아나이노리유키 ,  이와츠하루오

IPC: G02F1/13

Abstract: 본 발명은 기판반송장치에 관한 것으로서, 반송방향 이동체에 대하여 수평회전이 가능한 회전축에 지지되어진 수용박스 내에 기판 전달부재를 설치함으로써, 유리기판이 수용박스 바깥에 부유하는 파티클과 접속하는 일이 거의 없어, 기판의 반송영역을 클린환경으로 만들 필요가 없으므로, 클린환경을 형성하기 위한 비용을 대폭적으로 삭감시킬 수 있는 기술이 제시된다.

公开(公告)号：KR100706381B1

公开(公告)日：2007-04-10

申请号：KR1020000030315

申请日：2000-06-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와사키다쓰야 ,  아나이노리유키 ,  다테야마기요히사 ,  오타요시하루 ,  아라키신이치로 ,  이와쓰하루오

IPC: H01L21/68

Abstract: 기판의 보유·유지부재가, 대향하는 측벽부의 폭이 기판 장변의 길이에 상당하는 길이를 가지고, 이 측벽부들의 대향방향으로 장변방향을 맞춘 상태에서 보유·유지할 수 있는 넓은 폭의 제 1의 보유·유지부와, 대향하는 측벽{단차부} 사이의 폭이 기판의 단변방향의 길이에 상당하는 길이를 갖추고, 이 단차부들의 대향방향으로 단변방향을 맞춘 상태에서 보유·유지부를 갖춘다. 따라서, 반입반출대상인 처리장치가 장변을 쥐는 경우에는, 기판방향 조정수단에 의해, 이 보유·유지부재보다도 상방으로 유리기판을 위치시킨 후, 당해 기판의 장변이 당해 처리장치의 반입반출부를 향하여 마주보도록 회전시켜 하강시킨다. 이에 의해, 제 1의 보유·유지부에 기판이 재치되어, 장변을 쥐는 당해 처리장치와의 사이에서 기판의 반입반출이 가능하게 된다. 마찬가지의 조작에 의해 제 2의 보유·유지부 상에 기판을 재치하면, 단변을 쥐는 처리장치와의 사이에서 기판의 반입반출이 가능하게 된다.

公开(公告)号：KR100543570B1

公开(公告)日：2006-01-20

申请号：KR1019990032186

申请日：1999-08-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타카모리히데유키 ,  타테야마키요히사 ,  미조사키켄고 ,  아나이노리유키 ,  마쯔다요시타카

IPC: H01L21/324

CPC classification number: B05D3/0209 ,  B05D1/005 ,  G03F7/168

Abstract: 도포액, 예를 들어 레지스트액이 도포된 기판을 제 1 소정온도로 가열하고, 이 가열 후에 기판을 비가열상태로 하여, 이 비가열공정 후에 기판을 제 2 소정온도로 가열한다. 또는, 레지스트액이 도포된 기판을 가열하는 가열공정과, 이 가열 후에 기판을 비가열상태로 하는 비가열공정을 여러번 반복한다. 이와 같은 처리방법을 사용함으로써, 레지스트액 등의 막두께 불균일 및 회로 패턴 선폭 변동의 지표인 전사의 발생을 억제시키는 것이 가능하여 기판처리의 수율(收率)을 향상시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR100366602B1

公开(公告)日：2003-05-01

申请号：KR1019970041992

申请日：1997-08-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  아나이노리유키

IPC: H01L21/02

CPC classification number: B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  B05D3/104 ,  G03F7/16 ,  G03F7/161

Abstract: A coating apparatus has a spin chuck for attracting and holding a semiconductor wafer in a horizontal state by means of vacuum. A movable beam is arranged above the spin chuck. The movable beam includes first and second nozzles integrally formed. The first nozzle is used for supplying a photo-resist liquid while the second nozzle is used for supplying a solvent for the photo-resist liquid. When a coating process is performed, the movable beam above the wafer is horizontally moved in one direction. The solvent is first supplied onto the wafer from the second nozzle, and the coating or photo-resist liquid is then supplied from the first nozzle, following the solvent. Wettability of the wafer relative to the photo-resist is increased by the solvent, prior to supply of the photo-resist liquid.

Abstract translation: 涂布设备具有旋转卡盘，用于通过真空吸引并保持水平状态的半导体晶片。 旋转卡盘上方设有可移动的横梁。 可移动梁包括整体形成的第一和第二喷嘴。 第一喷嘴用于供应光刻胶液体，而第二喷嘴用于供应光刻胶液体的溶剂。 当执行涂覆工艺时，晶片上方的可移动梁在一个方向上水平移动。 首先将溶剂从第二喷嘴供应到晶片上，然后从溶剂后的第一喷嘴供应涂层或光刻胶液体。 在提供光致抗蚀剂液体之前，通过溶剂增加晶片相对于光致抗蚀剂的润湿性。

公开(公告)号：KR1019960042125A

公开(公告)日：1996-12-21

申请号：KR1019960017656

申请日：1996-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모토다기미오 ,  다테야마기요히사 ,  아나이노리유키

IPC: G02F1/13

Abstract: 레지스트 도포장치는, 승강가능하게 설치되고, 수취한 기판을 유지하고, 기판과 함께 스핀회전하는 스핀척과, 이 스핀척상의 기판에 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급원과, 스핀척상의 기판을 둘러싸고, 스핀척과 연동하여 회전되고, 기판으로 부터 원심분리되는 레지스트액을 받는 회전컵과, 이 회전컵 주위에 설치되고, 회전컵내로 부터 방출되는 폐기물을 받아내고, 받아낸 폐기물이 모이는 집합공간을 가지는 드레인컵과, 이 집합공간에 개구하는 배액구를 가지며, 이 배액구를 통해서 집합공간에 모인 폐기물 중 액체성분을 배출하는 배액통로와, 집합공간에 연이어 통하는 배기구를 가지며,이 배기구를 통해서 집합공간에 모인 폐기물 중 가스성분을 배기하는 배기통로와, 가스성분을 집합공간로 부터 배기통로쪽으로 안내하기 위해서, 적 도 배액구보다도 높은 위치에 설치된 배기안내통로와, 이 배기안내통로에 설치되고, 가스성분을 따라 가는 기류가 충돌하면, 이것에 포함되는 액체성분은 응측시키고, 액체성분이 배기통로쪽으로 가는 것을 저지하는 기액분리부재를 구비한다.

公开(公告)号：KR100367163B1

公开(公告)日：2003-02-19

申请号：KR1019980031131

申请日：1998-07-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아나이노리유키

IPC: G02F1/13

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162 ,  Y10S134/902

Abstract: Disclosed is an apparatus for removing a coated film from a peripheral portion of a substrate, comprising a section for holding a rectangular substrate horizontal, a surrounding member for surrounding a peripheral portion of the substrate held by the holding section, a discharge section mounted to face an upper peripheral portion of the substrate held by the holding section, rotatable about its longitudinal axis, a supply mechanism for supplying a solvent capable of dissolving the coated film into the solvent discharge section, a discharge rate controller for controlling the discharge rate of the solvent from the discharge section, a rotating mechanism for rotating the discharge section about its longitudinal axis between a first position in which the discharge port faces perpendicularly downward the front surface of the substrate and a second position, a suction mechanism, and control means for controlling the operation of each of the controller and the rotating mechanism.

Abstract translation: 本发明公开了一种用于从基板的周边部分去除涂膜的装置，包括用于保持矩形基板水平的部分，用于围绕由保持部分保持的基板周边部分的围绕部件，放电部分， 由所述保持部保持的所述基板的上部周边部分，所述基板的上部周边部分可围绕其纵向轴线旋转;供应机构，用于将能够溶解所述涂布膜的溶剂供应到所述溶剂排出部分;放电率控制器，用于控制所述溶剂的放电率 从排出部分取出用于使排出部分围绕其纵向轴线在第一位置和第二位置之间旋转的旋转机构，该第一位置中排出口垂直面向基板的前表面面向第二位置，吸入机构和控制装置用于控制 操作每个控制器和旋转机构。