公开(公告)号：KR1019970073250A

公开(公告)日：1997-11-07

申请号：KR1019970015370

申请日：1997-04-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야시타마사히로

IPC: H05K3/00

Abstract: 윗쪽으로 향해서 가늘게 되는 테이퍼핀(112)이 반도체웨이퍼의 주변에 따라 배치된 복수단의 재치대(111)와, 이들 재치대(111) 각각에 대해서 설치되고, 테이퍼핀(112)을 잇는 원의 중심의 주변에 회전하면서, 이 원보다도 안쪽측에 위치하는 복수단의 턴테이블(115)을 구비하고 있고, 재치대(111)가 턴테이블(115)에 대해서 상대적으로 상승할 수 있도록 되어 있다. 웨이퍼(W)가 이재아암(10a)에서 테이퍼핀(112)으로 수수되면, 웨이퍼(W)의 주변이 테이퍼핀(112)의 내주변에 접해서 중심위치맞춤이 행해지고, 다음으로 턴테이블(115)이 웨이퍼(W)를 수취해서 주방향의 위치맞춤이 행해진다. 이것에 의해, 복수매의 웨이퍼 중심의 위치맞춤 및 주방향의 위치맞춤을 간단히 행할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970072219A

公开(公告)日：1997-11-07

申请号：KR1019970014372

申请日：1997-04-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야시타마사히로 ,  야마가겐이치 ,  미하라가츠히코

IPC: H01L21/50 ,  H01L21/22

Abstract: 제1웨이퍼보트를 싣고서 웨이퍼 이재(移載)영역과 열처리로내의 위치 사이를 이동하는 제1보트 엘리베이터와, 제2웨이퍼보트를 싣고서 웨이퍼 이재영영과 열처리로내의 위치 사이를 이동하는 제2보트 엘리베이터를 설치하면, 웨이퍼보트의 이재를 행하지 않기 때문에 웨이퍼보트의 위치어긋남의 문제가 없어져서 웨이퍼보트의 전도(轉倒)를 방지할 수 있다. 또한, 웨이퍼보트의 이재를 행하는 경우에도, 웨이퍼보트의 하단측에 절결부를 형성하고, 웨이퍼 이재스테이지의 상면에 절결부와 적합(適合)하는 가이드부재를 설치하여 웨이퍼보트를 웨이퍼 이재스테이지로 재치할 때에, 강제적으로 위치맞춤을 행하면 위치어긋남이 보정되고, 어긋남의 누적이 없기 때문에, 웨이퍼보트의 전도를 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR100472341B1

公开(公告)日：2005-07-05

申请号：KR1019980019358

申请日：1998-05-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마가겐이치 ,  오노유지 ,  미야시타마사히로 ,  다니가와오사무

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명에 있어서는, 작업영역과 로딩영역을 구획하는 벽부의 개구부에 클로즈드형 카세트(closed-type cassette)가 작업영역의 카세트 탑재대상에 탑재된다. 카세트 탑재대상에 카세트가 탑재되면, 스위치로부터 콘트롤러로 신호가 출력되고, 이에 따라 개폐밸브가 닫히고, 로딩영역으로의 질소가스의 공급이 정지된다. 20~30초 후, 카세트의 덮개가 열리고, 이어서 질소가스의 공급이 개시된다. 질소가스의 공급을 정지함으로써, 로딩영역내와 카세트 내의 차압이 작아져서 용이하게 덮개를 열 수 있다.

公开(公告)号：KR100515908B1

公开(公告)日：2005-12-09

申请号：KR1019970015370

申请日：1997-04-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야시타마사히로

IPC: H05K3/00

Abstract: 위쪽으로 갈수록 가늘어지도록 된 테이퍼 핀(112)이 반도체웨이퍼의 주연을 따라 배치된 복수 단의 탑재대(111)와, 이들 탑재대(111) 각각에 대해 설치되어 테이퍼 핀(112)을 잇는 원의 중심 주위를 회전함과 더불어, 이 원보다 안쪽에 위치하는 복수 단의 턴테이블(115)을 구비하되, 탑재대(111)가 턴테이블(115)에 대해 상대적으로 승강할 수 있도록 구성되어 있다. 웨이퍼(W)가 이적 아암(10a)에서 테이퍼 핀(112)으로 수도되어 옮겨지면 웨이퍼(W)의 주연이 테이퍼 핀(112)의 내주면에 닿아 중심위치가 맞춰진 다음, 턴테이블(115)이 웨이퍼(W)를 수취해서 원주방향 위치가 맞춰지게 됨으로써, 복수 매 웨이퍼의 중심위치 및 원주방향의 위치맞춤이 간단히 이루어질 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR100432440B1

公开(公告)日：2004-08-04

申请号：KR1019970014372

申请日：1997-04-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야시타마사히로 ,  야마가겐이치 ,  미하라가츠히코

IPC: H01L21/50 ,  H01L21/22

CPC classification number: C30B35/005

Abstract: A vertical heat treating apparatus includes a first boat elevator for carrying a first wafer boat between a wafer transfer region and a predetermined position in a heat treating furnace, and a second boat elevator for carrying a second wafer boat between the wafer transfer region and the predetermined position in the heat treating furnace. With this construction, it is possible to eliminate the problems of causing the position shift of the wafer boat, so that and it is possible to prevent the wafer boat from overturning. The apparatus also has cutouts formed in the lower end portion of the wafer boat, and guide members formed on the upper surface of a wafer transfer stage so as to be engageable with the cutouts. With this construction, if the positioning is forcibly carried out when the wafer boat is loaded on the wafer transfer stage, it is possible to correct the position shift to prevent the shift from accumulating, so that it is possible to prevent the wafer boat from overturning.

Abstract translation: 一种立式热处理设备包括：第一舟皿升降机，用于在晶片传送区域与热处理炉中的预定位置之间运送第一晶舟;以及第二舟皿升降机，用于在晶片传送区域与预定位置之间运送第二晶舟， 在热处理炉中的位置。 利用这种结构，可以消除引起晶舟的位置偏移的问题，从而可以防止晶舟发生翻倒。 该设备还具有形成在晶舟的下端部分中的切口，以及形成在晶片传送台的上表面上以便可与切口啮合的导向构件。 根据该结构，在将晶圆舟装载于晶圆输送台时强制地进行定位的情况下，能够修正位置偏移，防止偏移的积累，能够防止晶舟发生翻倒 。

公开(公告)号：KR1019980087424A

公开(公告)日：1998-12-05

申请号：KR1019980019358

申请日：1998-05-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마가겐이치 ,  오노유지 ,  미야시타마사히로 ,  다니가와오사무

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명에 있어서는, 작업영역과 로딩영역을 구획하는 벽부의 개구부에 클로우즈형 카세트가 작업영역의 카세트 탑재대상에 탑재된다. 카세트 탑재대상에 카세트가 탑재되면, 스위치로부터 콘트롤러로 신호가 출력되고, 개폐밸브가 닫혀 로딩영역으로의 질소가스의 공급이 정지된다. 20~30초 후 카세트의 덮개가 열리고, 이어서 질소가스의 공급이 개시된다. 질소가스의 공급을 정지함으로써, 로딩영역내와 카세트내의 차압이 작아져서 용이하게 덮개를 열 수 있다.