公开(公告)号：KR100432440B1

公开(公告)日：2004-08-04

申请号：KR1019970014372

申请日：1997-04-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야시타마사히로 ,  야마가겐이치 ,  미하라가츠히코

IPC: H01L21/50 ,  H01L21/22

CPC classification number: C30B35/005

Abstract: A vertical heat treating apparatus includes a first boat elevator for carrying a first wafer boat between a wafer transfer region and a predetermined position in a heat treating furnace, and a second boat elevator for carrying a second wafer boat between the wafer transfer region and the predetermined position in the heat treating furnace. With this construction, it is possible to eliminate the problems of causing the position shift of the wafer boat, so that and it is possible to prevent the wafer boat from overturning. The apparatus also has cutouts formed in the lower end portion of the wafer boat, and guide members formed on the upper surface of a wafer transfer stage so as to be engageable with the cutouts. With this construction, if the positioning is forcibly carried out when the wafer boat is loaded on the wafer transfer stage, it is possible to correct the position shift to prevent the shift from accumulating, so that it is possible to prevent the wafer boat from overturning.

Abstract translation: 一种立式热处理设备包括：第一舟皿升降机，用于在晶片传送区域与热处理炉中的预定位置之间运送第一晶舟;以及第二舟皿升降机，用于在晶片传送区域与预定位置之间运送第二晶舟， 在热处理炉中的位置。 利用这种结构，可以消除引起晶舟的位置偏移的问题，从而可以防止晶舟发生翻倒。 该设备还具有形成在晶舟的下端部分中的切口，以及形成在晶片传送台的上表面上以便可与切口啮合的导向构件。 根据该结构，在将晶圆舟装载于晶圆输送台时强制地进行定位的情况下，能够修正位置偏移，防止偏移的积累，能够防止晶舟发生翻倒 。

公开(公告)号：KR100367021B1

公开(公告)日：2003-03-15

申请号：KR1019950047685

申请日：1995-12-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와카모리츠토무 ,  이와이히로유키 ,  미하라가츠히코

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67757 ,  H01L21/67769 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/139 ,  Y10S414/14

Abstract: A processing apparatus is provided with a reaction furnace for subjecting semiconductor wafers, which are objects to be processed, to a predetermined processing; a storage rack for storing carriers (wafer cassettes), each containing a predetermined number of semiconductor wafers; and a conveyor for conveying the carriers into and out of the reaction furnace and the storage rack. In this case, a second conveyor mechanism, which comprises the storage portion and at least part of the conveyor, and a third conveyor mechanism are disposed within a sealed chamber in such a manner that they are isolated from the outer atmosphere. An exchange chamber that can be isolated from the outer atmosphere is further provided, for temporarily storing carriers that are to be conveyed into or out of the storage portion, through the sealed chamber via a communicating port. The interiors of the sealed chamber and the exchange chamber are formed so that they can be supplied with nitrogen. This ensures that unprocessed and processed semiconductor wafers can be held in an inert gas environment, so that contamination of the semiconductor wafers by organic substances and heavy metals can be prevented.

Abstract translation: 处理装置具备用于对作为处理对象的半导体晶片实施规定的处理的反应炉， 用于存储载体（晶片盒）的存储架，每个载体包含预定数量的半导体晶片; 以及用于输送载体进出反应炉和储存架的输送机。 在这种情况下，包括储存部分和至少部分输送器的第二输送器机构和第三输送器机构被设置在密封室内，使得它们与外部大气隔离。 进一步提供可与外部大气隔离的交换腔室，用于临时存储将被输送到存储部分或从存储部分输出的载体，通过密封腔室经由连通端口。 密封室和交换室的内部形成为可供应氮气。 这确保未处理和处理的半导体晶片可以保持在惰性气体环境中，从而可以防止有机物质和重金属污染半导体晶片。

公开(公告)号：KR1019970072219A

公开(公告)日：1997-11-07

申请号：KR1019970014372

申请日：1997-04-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야시타마사히로 ,  야마가겐이치 ,  미하라가츠히코

IPC: H01L21/50 ,  H01L21/22

Abstract: 제1웨이퍼보트를 싣고서 웨이퍼 이재(移載)영역과 열처리로내의 위치 사이를 이동하는 제1보트 엘리베이터와, 제2웨이퍼보트를 싣고서 웨이퍼 이재영영과 열처리로내의 위치 사이를 이동하는 제2보트 엘리베이터를 설치하면, 웨이퍼보트의 이재를 행하지 않기 때문에 웨이퍼보트의 위치어긋남의 문제가 없어져서 웨이퍼보트의 전도(轉倒)를 방지할 수 있다. 또한, 웨이퍼보트의 이재를 행하는 경우에도, 웨이퍼보트의 하단측에 절결부를 형성하고, 웨이퍼 이재스테이지의 상면에 절결부와 적합(適合)하는 가이드부재를 설치하여 웨이퍼보트를 웨이퍼 이재스테이지로 재치할 때에, 강제적으로 위치맞춤을 행하면 위치어긋남이 보정되고, 어긋남의 누적이 없기 때문에, 웨이퍼보트의 전도를 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019960026535A

公开(公告)日：1996-07-22

申请号：KR1019950047685

申请日：1995-12-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와카모리츠토무 ,  이와이히로유키 ,  미하라가츠히코

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은, 피처리체인 반도체 웨이퍼에 소정의 처리를 시행하는 반응로와, 복수의 반도체 웨이퍼를 수용하는 캐리어(웨이퍼 카세트)를 수납하는 수납선반, 반응로, 수납부에 대하여 캐리어의 반입·반출을 행하는 반송 수단을 구비한다. 여기서, 수납부와 적어도 반송수단의 일부를 구성하는 제2반송기구를 대기로부터 차단하도록 밀폐실 내에 배열설치한다. 더욱이, 연통구를 매개로 밀폐실에 연통되고, 수납부에 대하여 반입·반출하는 캐리어를 가수납하는 치환실을 대기와 차단가능하게 설치한다. 또한, 밀폐실 내 및 치환실 내에 N
2 가스를 공급 가능하게 형성한다. 이에 의해, 미처리 또는 처리완료의 반도체 웨이퍼를 불활성가스 분위기로 보존할 수 있으며, 반도체 웨이퍼로의 유기물 또는 중금속으로부터의 오염을 방지할 수 있다.