公开(公告)号：KR1020100064346A

公开(公告)日：2010-06-14

申请号：KR1020090119209

申请日：2009-12-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나베야마유키 ,  아마노츠토무 ,  와카모리츠토무

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67772 ,  F16K3/029 ,  F16K51/02 ,  H01L21/67201

Abstract: PURPOSE: A load lock device and a vacuum processing system are provided to prevent the generation of a particle due to an abrasion of a seal material by controlling the displacement of s seal surface on both ends of a partition. CONSTITUTION: A load lock device includes a vacuum preparing chamber with two up and down stages blocked with a partition(47). A pair of slits(101,102) are formed on the partition to vertically pass through the partition. The inside of the slit is a cavity and the upper and lower openings of the slit are sealed with an elastic plate. A reinforcement member is arranged to resist compressive force applied to the width direction of the slit. A partition includes a pressure control hole(50) from the inside of the slit to the seal surface.

Abstract translation: 目的：提供一种装载锁定装置和真空处理系统，以通过控制分隔件两端的密封表面的位移来防止由于密封材料的磨损而产生的颗粒。 构成：装载锁定装置包括具有用分隔件（47）封闭的两个上下级的真空准备室。 在隔板上形成一对狭缝（101,102），以垂直地穿过隔板。 狭缝的内部是空腔，狭缝的上下开口用弹性板密封。 加强构件被布置成抵抗施加到狭缝的宽度方向的压缩力。 分隔件包括从狭缝的内部到密封表面的压力控制孔（50）。

公开(公告)号：KR1020150104035A

公开(公告)日：2015-09-14

申请号：KR1020150027559

申请日：2015-02-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기쿠치히로시 ,  와카모리츠토무

IPC: H01L21/22 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67

CPC classification number: F27B17/0025 ,  F27D3/0084 ,  F27D2003/0065 ,  F27D2003/0086 ,  H01L21/67757 ,  H01L21/22 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67098

Abstract: 열처리로의 노 입구를 덮개부에 의해 막았을 때의 밀폐성이 우수한 종형 열처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
하단부에 노 입구를 구비한 열처리로와,
상기 열처리로의 상기 노 입구에 배치되는 덮개부와,
상기 덮개부를 상기 덮개부의 하면측으로부터 캔틸레버 지지하는 덮개부 개폐 기구와,
상기 덮개부를 상기 노 입구에 배치했을 때에 상기 덮개부를 상기 덮개부의 하면측으로부터 압박하는 보조 수단을 가지며,
상기 보조 수단이 토글 기구를 구비하는 종형 열처리 장치를 제공한다.

Abstract translation: 本发明提供一种当热处理炉的入口被盖部覆盖时具有优异的密封性的立式热处理装置。 该立式热处理装置包括：下部具有入口的热处理炉; 所述盖部设置在所述热处理炉的入口上; 盖部分开闭单元，其将盖部从盖部的下侧支撑到悬臂; 以及辅助单元，当所述盖部布置在所述入口上时，所述辅助单元从所述盖部的下部对所述盖部进行加压。 辅助单元包括肘节工具。

公开(公告)号：KR1020090037337A

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：KR1020080099280

申请日：2008-10-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와카모리츠토무

IPC: H01L21/02

Abstract: A gate valve and a substrate treating device using the same are provided to prevent a particle sprayed to an outer part of a frame by maintaining a contact state of an elongate member and a support member in an inner part of the frame. A housing(202) is formed on a side wall(110) of a chamber(100) in order to surround a substrate entrance(112). A valve body(210) is lifted inside the housing in order to open/close the substrate entrance. A lift driving unit lifts the valve body in between a position faced with the substrate entrance and a position evacuated from the substrate entrance. An open/close driving unit includes a cam unit(260). The cam unit includes an elongate chuck member(261) and a cam(270). The elongate chuck member is arranged in a rear side of the valve body, and is supported in the housing. The cam drives the valve body according to an operation of the elongate chuck member.

Abstract translation: 提供了一种闸阀和使用其的基板处理装置，以通过将细长构件和支撑构件的接触状态保持在框架的内部部分来防止喷射到框架的外部的颗粒。 在室（100）的侧壁（110）上形成外壳（202），以围绕基板入口（112）。 阀体（210）在壳体内提升以便打开/关闭基板入口。 升降驱动单元将阀体提升到面对基板入口的位置与从基板入口排出的位置之间。 打开/关闭驱动单元包括凸轮单元（260）。 凸轮单元包括细长卡盘构件（261）和凸轮（270）。 细长卡盘构件布置在阀体的后侧，并被支撑在壳体中。 凸轮根据细长卡盘构件的操作驱动阀体。

公开(公告)号：KR1020100122884A

公开(公告)日：2010-11-23

申请号：KR1020100094984

申请日：2010-09-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와카모리츠토무

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67772 ,  F16K3/04 ,  F16K3/314 ,  H01L21/02

Abstract: PURPOSE: The gate valve keeps the valve body without the active force of actuator in the substrate carry-out entrance with the state pressurized. CONSTITUTION: It prepares so that the housing(202) surround the substrate carry-out entrance with the sidewall of the chamber(100). The valve body(210) prepares in the housing to be ascended and descended. The valve body opens and closes the substrate carry-out entrance. In the location in which the elevating-drive means faces in the substrate carry-out entrance and the between location evacuating from the substrate carry-out entrance, the valve body is raised.

Abstract translation: 目的：闸阀将阀体在执行器的主动力保持在基体进出口的状态下保持压力。 构成：其准备使得壳体（202）围绕具有室（100）的侧壁的基板进出口。 阀体（210）准备在壳体上升和下降。 阀体打开和关闭基板进出口。 在升降驱动装置面对基板输出口的位置和从基板输出口排出的位置之间，阀体升高。

公开(公告)号：KR100367021B1

公开(公告)日：2003-03-15

申请号：KR1019950047685

申请日：1995-12-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와카모리츠토무 ,  이와이히로유키 ,  미하라가츠히코

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67757 ,  H01L21/67769 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/139 ,  Y10S414/14

Abstract: A processing apparatus is provided with a reaction furnace for subjecting semiconductor wafers, which are objects to be processed, to a predetermined processing; a storage rack for storing carriers (wafer cassettes), each containing a predetermined number of semiconductor wafers; and a conveyor for conveying the carriers into and out of the reaction furnace and the storage rack. In this case, a second conveyor mechanism, which comprises the storage portion and at least part of the conveyor, and a third conveyor mechanism are disposed within a sealed chamber in such a manner that they are isolated from the outer atmosphere. An exchange chamber that can be isolated from the outer atmosphere is further provided, for temporarily storing carriers that are to be conveyed into or out of the storage portion, through the sealed chamber via a communicating port. The interiors of the sealed chamber and the exchange chamber are formed so that they can be supplied with nitrogen. This ensures that unprocessed and processed semiconductor wafers can be held in an inert gas environment, so that contamination of the semiconductor wafers by organic substances and heavy metals can be prevented.

Abstract translation: 处理装置具备用于对作为处理对象的半导体晶片实施规定的处理的反应炉， 用于存储载体（晶片盒）的存储架，每个载体包含预定数量的半导体晶片; 以及用于输送载体进出反应炉和储存架的输送机。 在这种情况下，包括储存部分和至少部分输送器的第二输送器机构和第三输送器机构被设置在密封室内，使得它们与外部大气隔离。 进一步提供可与外部大气隔离的交换腔室，用于临时存储将被输送到存储部分或从存储部分输出的载体，通过密封腔室经由连通端口。 密封室和交换室的内部形成为可供应氮气。 这确保未处理和处理的半导体晶片可以保持在惰性气体环境中，从而可以防止有机物质和重金属污染半导体晶片。

公开(公告)号：KR101924675B1

公开(公告)日：2018-12-03

申请号：KR1020150027559

申请日：2015-02-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기쿠치히로시 ,  와카모리츠토무

IPC: H01L21/22 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67

Abstract: 열처리로의 노 입구를 덮개부에 의해 막았을 때의 밀폐성이 우수한 종형 열처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
하단부에 노 입구를 구비한 열처리로와,
상기 열처리로의 상기 노 입구에 배치되는 덮개부와,
상기 덮개부를 상기 덮개부의 하면측으로부터 캔틸레버 지지하는 덮개부 개폐 기구와,
상기 덮개부를 상기 노 입구에 배치했을 때에 상기 덮개부를 상기 덮개부의 하면측으로부터 압박하는 보조 수단을 가지며,
상기 보조 수단이 토글 기구를 구비하는 종형 열처리 장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR101124922B1

公开(公告)日：2012-03-27

申请号：KR1020090119209

申请日：2009-12-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나베야마유키 ,  아마노츠토무 ,  와카모리츠토무

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67

Abstract: 본 발명은 다단의 진공 예비실을 갖는 로드록 장치에 있어서, 격벽의 변형에 기인하는 파티클의 발생을 방지한다. 로드록 장치(5)는 격벽(47)에 의해 가로막힌 상하 2단의 진공 예비실(27a, 27b)을 갖고 있다. 격벽(47)에는 상하로 관통하는 한쌍의 슬릿(101, 102)이 형성되어 있다. 슬릿(101)의 내부는 공동이며, 슬릿(101)의 상하의 개구 부분은 탄성판(61)에 의해 밀봉되어 있다. 슬릿(101) 내에는 슬릿(101)의 폭방향으로 가해지는 압축력에 저항하도록 보강 부재(71)가 배치되어 있다. 격벽(47)에는 슬릿(101, 102)의 내부로부터 시일면(47a, 47b)에 각각 도달하는 압력 조정 구멍(50)이 마련되어 있다.

公开(公告)号：KR101020364B1

公开(公告)日：2011-03-08

申请号：KR1020080099280

申请日：2008-10-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와카모리츠토무

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명의 과제는 액추에이터의 작동력 없이, 밸브체를 기판 반출입구에 가압한 상태로 유지하는 것을 가능하게 하는 것이다. 게이트 밸브(200)는, 캠 기구(260)에 의해 밸브체(210)를 진퇴시켜서 기판 반출입구(112)를 개폐하도록 구성한다. 캠 기구는 예를 들면 밸브체의 진퇴방향에 직교하는 방향으로 슬라이딩 가능한 장척 부재(261)와, 장척 부재를 하우징의 배면판으로부터 지지하는 지지 롤러(290)와 이것에 대향하도록 밸브체(210)에 마련된 밸브체 구동용 롤러(280)와, 장척 부재의 밸브체 구동용 롤러측에 마련된 판형상 캠(270)을 갖고, 장척 부재를 한방향으로 슬라이딩시켜서 밸브체 구동용 롤러를 거쳐서 밸브체를 폐쇄하는 방향으로 전진시켜서 기판 반출입구를 가압하면서 폐색하는 위치에서, 기판 반출입구측으로부터 되밀려지는 힘을 장척 부재에서 받는 것에 의해 밸브체를 폐색 위치에서 유지한다.

公开(公告)号：KR1019960026535A

公开(公告)日：1996-07-22

申请号：KR1019950047685

申请日：1995-12-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와카모리츠토무 ,  이와이히로유키 ,  미하라가츠히코

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은, 피처리체인 반도체 웨이퍼에 소정의 처리를 시행하는 반응로와, 복수의 반도체 웨이퍼를 수용하는 캐리어(웨이퍼 카세트)를 수납하는 수납선반, 반응로, 수납부에 대하여 캐리어의 반입·반출을 행하는 반송 수단을 구비한다. 여기서, 수납부와 적어도 반송수단의 일부를 구성하는 제2반송기구를 대기로부터 차단하도록 밀폐실 내에 배열설치한다. 더욱이, 연통구를 매개로 밀폐실에 연통되고, 수납부에 대하여 반입·반출하는 캐리어를 가수납하는 치환실을 대기와 차단가능하게 설치한다. 또한, 밀폐실 내 및 치환실 내에 N
2 가스를 공급 가능하게 형성한다. 이에 의해, 미처리 또는 처리완료의 반도체 웨이퍼를 불활성가스 분위기로 보존할 수 있으며, 반도체 웨이퍼로의 유기물 또는 중금속으로부터의 오염을 방지할 수 있다.