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公开(公告)号：KR100753704B1
公开(公告)日：2007-08-30
申请号：KR1020057005446
申请日：2003-09-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/3244 , H01J37/3255
Abstract: 본 발명은 플라즈마 처리 시스템의 상부 어셈블리에 연결하도록 구성되어, 전극판을 상부 어셈블리에 연결하는 제 1 표면, 제 1 표면의 반대편에, 플라즈마 처리 시스템내의 처리 플라즈마를 향하도록 구성된 플라즈마 표면과 플라즈마 처리 시스템에 결합하는 결합면을 포함하는 제 2 표면, 및 주위 가장자리를 포함하는 전극판을 제공하는데 있다.
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公开(公告)号：KR100704069B1
公开(公告)日：2007-04-06
申请号：KR1020057005435
申请日：2003-09-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32477 , Y10S156/916
Abstract: 본 발명은 플라즈마 처리시스템내의 처리공간을 둘러싸기 위한 개선된 증착차폐부를 개시하며, 여기에서, 증착차폐부의 설계 및 제조는 증착차폐부의 실질적인 최소한의 부식을 허용하면서 처리공간내의 청정한 처리플라즈마를 유효하게 제공한다.
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公开(公告)号：KR100699636B1
公开(公告)日：2007-03-23
申请号：KR1020057005450
申请日：2003-09-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32477
Abstract: 플라즈마 처리시스템의 기판홀더에 연결되어 있는 벨로우즈 실드를 제공하는 것이다. 상기 플라즈마 처리시스템은 안쪽면, 바깥면, 제1단, 제2단을 가진 실린더형상의 벽을 구비하고 있다
실린더형상의 벽의 제1단은 부착플랜지를 구비하고 있으며, 상기 부착플랜지는 내부면, 안쪽지름면과 외부면을 구비하고 있다. 상기 내부면은 실린더형상의 벽의 안쪽면에 연결되어 있으며, 기판홀더에 접촉할 수 있도록 형상을 이루고 있다. 상기 외부면은 실린더형상의 벽의 바깥면에 연결되어 있다. 실린더형상의 벽의 제2단은 끝단면을 구비할 수 있다.-
公开(公告)号：KR1020050053711A
公开(公告)日：2005-06-08
申请号：KR1020057005446
申请日：2003-09-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/3244 , H01J37/3255
Abstract: The present invention presents an improved upper electrode for a plasma processing system, wherein the design and fabrication of an electrode plate coupled to an upper assembly advantageously provides gas injection of a process gas with substantially minimal erosion of the electrode plate.
Abstract translation: 本发明提出了一种用于等离子体处理系统的改进的上电极，其中耦合到上部组件的电极板的设计和制造有利地提供了对电极板的基本上最小的侵蚀的工艺气体的气体注入。
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公开(公告)号：KR100732260B1
公开(公告)日：2007-06-25
申请号：KR1020057005449
申请日：2003-09-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , H01L51/00 , H01J37/00
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32458 , H01J37/32495 , H01J37/32972
Abstract: 본 발명은 플러그와 플랜지를 구비한 광학창 용착실드에 관한 것이다. 상기 플러그는 용착실드에 형성된 열린구멍을 통해서 뻗어 있다. 상기 플랜지는 상기 플러그에 연결되어 있으며, 용착실드에 광학창 용착실드을 부착할 수 있도록 구성되어 있다. 상기 플러그는 전방면과 주변면으로 구성된다. 상기 플랜지는 제1면, 제2면, 모서리면으로 구성되어 있고, 상기 제1면은 접촉면을 더 포함하고 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020050067406A
公开(公告)日：2005-07-01
申请号：KR1020057005449
申请日：2003-09-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , H01L51/00 , H01J37/00
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32458 , H01J37/32495 , H01J37/32972
Abstract: The present invention presents an improved optical window deposition shield an improved optical window deposition shield for optical access to a process space in a plasma processing system through a deposition shield, wherein the design and fabrication of the optical window deposition shield advantageously provides an optically clean access to the processing plasma in the process space while sustaining substantially minimal erosion of the optical window deposition shield.
Abstract translation: 本发明提出了一种改进的光学窗口沉积屏蔽，用于通过沉积屏蔽对光学访问等离子体处理系统中的处理空间的改进的光学窗口沉积屏蔽，其中光学窗口沉积屏蔽的设计和制造有利地提供光学干净的访问 涉及在处理空间中处理等离子体，同时维持基本上最小的光学窗口沉积屏蔽的侵蚀。
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公开(公告)号：KR1020050053712A
公开(公告)日：2005-06-08
申请号：KR1020057005450
申请日：2003-09-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32477
Abstract: The present invention presents an improved bellows shield(54) for a plasma processing system(1), wherein the design and fabrication of the bellows shield coupled to a substrate holder electrode(30) advantageously provides protection of a bellows(52) with substantially minimal erosion of the bellows shield.
Abstract translation: 本发明提出了一种用于等离子体处理系统（1）的改进的波纹管屏蔽（54），其中耦合到衬底保持器电极（30）的波纹管屏蔽的设计和制造有利地提供对波纹管（52）的保护，其基本上最小 波纹管屏蔽侵蚀。
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公开(公告)号：KR100702296B1
公开(公告)日：2007-03-30
申请号：KR1020057005451
申请日：2003-09-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32431
Abstract: 플라즈마처리시스템(1)은 도 1에 나타나 있는 바와 같이 플라즈마처리실(10), 상부조립체(20), 전극판(24), 기판을 지지하는 기판홀더(30), 플라즈마처리실(10)에 감압된 공기(11)을 제공하기 위한 진공펌프에 결합되어 있는 펌핑덕트(40)로 구성된다.
플라즈마처리실(10)은 기판(35)에 인접한 처리공간(12)에서 처리플라즈마의 형성을 돕는다. 플라즈마처리시스템(1)은 200mm기판, 300mm기판, 또는 그보다 큰 기판을 처리할 수 있도록 되어있다.
도시된 실시예에서, 상부조립체(20)은 최소한 하나의 커버, 하나의 분사조립체와 상부 전극 임피던스 매치 네트워크를 구비한다. 예를 들면, 전극판(24)는 RF소스에 결합되고, 플라즈마처리시스템(1)을 위해 상부전극의 작용을 돕는다.-
公开(公告)号：KR1020050061497A
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：KR1020057005435
申请日：2003-09-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32477 , Y10S156/916
Abstract: The present invention presents an improved deposition shield (14) for surrounding a process space in a plasma processing system, wherein the desing and fabrication of the deposition shield advantageously provides for a clean processing plasma in the process space with substantially minimal erosion of the deposition shield.
Abstract translation: 本发明提出了一种用于围绕等离子体处理系统中的处理空间的改进的沉积屏蔽（14），其中沉积屏蔽的设计和制造有利地在处理空间中提供了清洁的处理等离子体，其中沉积屏蔽 。
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公开(公告)号：KR1020050054974A
公开(公告)日：2005-06-10
申请号：KR1020057005451
申请日：2003-09-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32431
Abstract: The present invention presents an improved baffle plate for a plasma processing system, wherein the design and fabrication of the baffle plate advantageously provides for a uniform processing plasma in the process space with substantially minimal erosion of the baffle plate.
Abstract translation: 本发明提出了一种用于等离子体处理系统的改进的挡板，其中挡板的设计和制造有利地在过程空间中提供均匀的处理等离子体，同时对挡板具有基本上最小的侵蚀。
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